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集成电路互连引线电迁移的研究进展
被引量:
13
1
作者
吴丰顺
张金松
+3 位作者
吴懿平
郑宗林
王磊
谯锴
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
2004年第9期15-21,38,共8页
随着大规模集成电路的不断发展,电迁移引起的集成电路可靠性问题日益凸现。本文介绍了电迁移的基本理论,综述了集成电路互连引线电迁移的研究进展。研究表明,互连引线的尺寸、形状和微观组织结构对电迁移有重要影响;温度、电流密度、应...
随着大规模集成电路的不断发展,电迁移引起的集成电路可靠性问题日益凸现。本文介绍了电迁移的基本理论,综述了集成电路互连引线电迁移的研究进展。研究表明,互连引线的尺寸、形状和微观组织结构对电迁移有重要影响;温度、电流密度、应力梯度、合金元素及工作电流模式等也对电迁移寿命有重要影响。同时指出了电迁移研究亟待解决的问题。
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关键词
大规模集成电路
互连引线
电迁移
可靠性
电流密度
应力梯度
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职称材料
基于MCM-C工艺的3D-MCM实用化技术研究
被引量:
5
2
作者
王玉菡
程瑶
《微电子学》
CAS
CSCD
北大核心
2014年第6期818-821,共4页
基于MCM-C(陶瓷厚膜型)工艺,实现了三维多芯片组件(3D-MCM)封装。解决了多层基板制作、叠层间隔离及垂直定位互连等关键工艺问题。制作出层间为金属引线互连结构的3DMCM样品。该样品具有体积小、重量轻、可靠性高等优点。经使用测试,样...
基于MCM-C(陶瓷厚膜型)工艺,实现了三维多芯片组件(3D-MCM)封装。解决了多层基板制作、叠层间隔离及垂直定位互连等关键工艺问题。制作出层间为金属引线互连结构的3DMCM样品。该样品具有体积小、重量轻、可靠性高等优点。经使用测试,样品的技术指标完全合格,使用情况良好。
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关键词
三维多芯片组件
多层基板
互连
金属引线互连
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职称材料
题名
集成电路互连引线电迁移的研究进展
被引量:
13
1
作者
吴丰顺
张金松
吴懿平
郑宗林
王磊
谯锴
机构
华中科技大学塑性成形模拟及模具技术国家实验室
出处
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
2004年第9期15-21,38,共8页
基金
国家863计划重点项目(2002AA404110)
中港自然科学基金委(NSFC)
香港研究资助局(RGC)联合资助项目(60318002)
文摘
随着大规模集成电路的不断发展,电迁移引起的集成电路可靠性问题日益凸现。本文介绍了电迁移的基本理论,综述了集成电路互连引线电迁移的研究进展。研究表明,互连引线的尺寸、形状和微观组织结构对电迁移有重要影响;温度、电流密度、应力梯度、合金元素及工作电流模式等也对电迁移寿命有重要影响。同时指出了电迁移研究亟待解决的问题。
关键词
大规模集成电路
互连引线
电迁移
可靠性
电流密度
应力梯度
Keywords
large-scale
integrated
circuits
electromigration
(EM)
interconnect
metallic
line
分类号
TN405.96 [电子电信—微电子学与固体电子学]
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职称材料
题名
基于MCM-C工艺的3D-MCM实用化技术研究
被引量:
5
2
作者
王玉菡
程瑶
机构
重庆理工大学电子信息与自动化学院
出处
《微电子学》
CAS
CSCD
北大核心
2014年第6期818-821,共4页
文摘
基于MCM-C(陶瓷厚膜型)工艺,实现了三维多芯片组件(3D-MCM)封装。解决了多层基板制作、叠层间隔离及垂直定位互连等关键工艺问题。制作出层间为金属引线互连结构的3DMCM样品。该样品具有体积小、重量轻、可靠性高等优点。经使用测试,样品的技术指标完全合格,使用情况良好。
关键词
三维多芯片组件
多层基板
互连
金属引线互连
Keywords
3D-MCM
Multilayer
substrate
interconnect
ion
interconnect
metallic
line
分类号
TN452 [电子电信—微电子学与固体电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
集成电路互连引线电迁移的研究进展
吴丰顺
张金松
吴懿平
郑宗林
王磊
谯锴
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
2004
13
下载PDF
职称材料
2
基于MCM-C工艺的3D-MCM实用化技术研究
王玉菡
程瑶
《微电子学》
CAS
CSCD
北大核心
2014
5
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职称材料
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