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激光辐照绝缘样品不同位置的沿面闪络性能
被引量:
2
1
作者
徐乐
王勐
+3 位作者
康军军
李逢
任靖
杨尊
《强激光与粒子束》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2013年第3期791-793,共3页
绝缘体沿面闪络是制约脉冲功率技术发展的瓶颈之一。为了能对沿面闪络机理有更深的认识,通过在沿面闪络过程中引入激光辐照的作用,考察了绝缘样品上不同的辐照位置对于沿面闪络性能的影响。实验结果表明:辐照位置越靠近闪络起始的地方,...
绝缘体沿面闪络是制约脉冲功率技术发展的瓶颈之一。为了能对沿面闪络机理有更深的认识,通过在沿面闪络过程中引入激光辐照的作用,考察了绝缘样品上不同的辐照位置对于沿面闪络性能的影响。实验结果表明:辐照位置越靠近闪络起始的地方,对沿面闪络性能的影响越大;在沿面闪络的过程中,不同的阶段如闪络起始阶段及电子倍增阶段在整个闪络过程中所起的作用不同。
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关键词
激光辐照
沿面闪络机理
辐照位置
闪络过程
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职称材料
基于全变分模型的多分辨率光照处理算法
被引量:
2
2
作者
王涌
庄连生
+1 位作者
庄镇泉
李斌
《电路与系统学报》
CSCD
北大核心
2009年第1期32-37,共6页
针对人脸识别中的光照问题,本文提出一种多分辨率分层的快速处理算法。该算法建立在扩展的全变分模型的理论基础之上,具有模型简单,优化参数少等优点,并能有效的减少光晕现象。算法从快速性入手,首先将光照劣化图像进行多分辨率分层,在...
针对人脸识别中的光照问题,本文提出一种多分辨率分层的快速处理算法。该算法建立在扩展的全变分模型的理论基础之上,具有模型简单,优化参数少等优点,并能有效的减少光晕现象。算法从快速性入手,首先将光照劣化图像进行多分辨率分层,在每一层上利用模型进行估计,从而得出整体的光照成分,然后恢复出人脸的反射系数图像,并以此作为光照不变量来进行识别。实验证明,通过多分辨率分层的方法,不仅能使系统在不同光照条件下的识别率得到提高,而且还能解决单独用TV(Total Variation)模型进行估计时处理速度较慢的缺点。
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关键词
人脸识别
光照处理
全变分模型
多分辨率算法
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职称材料
先进节点接触层照明类型优化解决光刻制造要求
3
作者
刘娟
《电子与封装》
2016年第10期36-38,47,共4页
先进节点逻辑集成电路制造是当前工业界的领先工艺。为实现接触(Contact)层的光刻工艺,需要从两个关键方面进行处理:解析度和全间距的共有工艺窗口。离轴照明+相移掩模+亚解析度辅助图形多种解析度增强技术的组合使用是解决光刻成像的...
先进节点逻辑集成电路制造是当前工业界的领先工艺。为实现接触(Contact)层的光刻工艺,需要从两个关键方面进行处理:解析度和全间距的共有工艺窗口。离轴照明+相移掩模+亚解析度辅助图形多种解析度增强技术的组合使用是解决光刻成像的方法。从优化接触层离轴照明的类型方面解决光刻制造工艺的问题。
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关键词
离轴照明
照明类型
工艺窗口
掩模误差增强因子
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职称材料
电视摄像机主要参数测试系统设计与实施
4
作者
肖恒兵
《计测技术》
2014年第4期18-22,共5页
在监控和军事等领域应用中,对电视摄像机的主要光电参数的准确标定是非常重要的。本文介绍了一种基于视频信号处理的电视摄像机主要光电参数综合检测装置的设计和实施方案。采用特定的测试目标对摄像机成像,视频图像被高精度数字图像采...
在监控和军事等领域应用中,对电视摄像机的主要光电参数的准确标定是非常重要的。本文介绍了一种基于视频信号处理的电视摄像机主要光电参数综合检测装置的设计和实施方案。采用特定的测试目标对摄像机成像,视频图像被高精度数字图像采集卡捕获并将数据传送给计算机,再通过数字图像处理软件自动计算,可实现CCD响应度、灵敏度、信噪比、动态范围和电视分辨力、畸变、对比度等参数的准确测试。
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关键词
电视摄像机
光电参数
标定
图像采集卡
图像处理
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职称材料
表面等离子体无掩膜干涉光刻系统的数值分析(英文)
被引量:
5
5
作者
董启明
郭小伟
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2012年第5期558-564,共7页
表面等离子体激元具有近场增强效应,可以代替光子作为曝光源形成纳米级特征尺寸的图像.本文数值分析了棱镜辅助表面等离子体干涉系统的参量空间,并给出了计算原理和方法.结果表明,适当地选择高折射率棱镜、低银层厚度、入射波长和光刻...
表面等离子体激元具有近场增强效应,可以代替光子作为曝光源形成纳米级特征尺寸的图像.本文数值分析了棱镜辅助表面等离子体干涉系统的参量空间,并给出了计算原理和方法.结果表明,适当地选择高折射率棱镜、低银层厚度、入射波长和光刻胶折射率,可以获得高曝光度、高对比度的干涉图像.入射波长为431nm时,选择40nm厚的银层,曝光深度可达200nm,条纹周期为110nm.数值分析结果为实验的安排提供了理论支持.
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关键词
干涉光刻
表面等离子体激元
克莱舒曼结构
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职称材料
高效暖白光器件的廉价制备及其相关材料研究
被引量:
3
6
作者
叶尚辉
胡天庆
+4 位作者
杨敏
刘丽萍
贾振宏
翟邦成
黄维
《液晶与显示》
CAS
CSCD
北大核心
2015年第3期421-426,共6页
低色温光源由于其对抗黑变激素具有较低的抑制作用而成为生理友好照明的首选.同时,高的能量效率对于节能也至关重要.本课题采用温和的溶液旋涂方法分别制备了含互补色、三基色和四基色磷光染料的单层有机白光二极管(WOLED).经过优化 W...
低色温光源由于其对抗黑变激素具有较低的抑制作用而成为生理友好照明的首选.同时,高的能量效率对于节能也至关重要.本课题采用温和的溶液旋涂方法分别制备了含互补色、三基色和四基色磷光染料的单层有机白光二极管(WOLED).经过优化 WOLED的结构,实现了宽亮度范围内100-10000 cd/m2的低色温(low-CCT)白光发射.CCT低至2500 K以下、显示指数(CRI)高达到83、电流效率在亮度为1000 cd/m2时达到了17.8 cd/A,与传统的白炽灯功效相当.高发光性能、廉价制备成本及生理友好的特性表明,本工作制备的器件是益于人类健康的照明光源尤其是夜间照明光源的理想选择.
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关键词
白光照明
低色温
有机发光二极管
溶液加工
磷光
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职称材料
厚壁管中间检验过程中几个参数的选取
被引量:
1
7
作者
周国红
《电力建设》
北大核心
2003年第9期22-23,共2页
在厚壁管中间检验过程中 ,应选择合适的胶片 ,应准备宽度不同的增感屏 ,应选择透照焦距使其大于最小规定的焦距。透照前必须对管径、壁厚及施焊厚度进行实测 ,以确定曝光时间。应按实际情况优化透照工艺 ,应做好胶片的冲洗和底片的评定...
在厚壁管中间检验过程中 ,应选择合适的胶片 ,应准备宽度不同的增感屏 ,应选择透照焦距使其大于最小规定的焦距。透照前必须对管径、壁厚及施焊厚度进行实测 ,以确定曝光时间。应按实际情况优化透照工艺 ,应做好胶片的冲洗和底片的评定工作。
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关键词
电站
钢制承压管道
厚壁管
检验
参数选取
原文传递
背照式CMOS图像传感器的硅减薄湿法刻蚀工艺
8
作者
窦英男
徐旻
刘轩
《微电子学》
CAS
北大核心
2020年第3期421-427,共7页
针对背照式CMOS图像传感器制作工艺,提出了一种采用氢氧化四甲基铵液进行湿法刻蚀的背部硅片减薄工艺。分析了硅减薄工艺的整体流程,针对化学机械研磨后的湿法刻蚀工艺进行了实验。通过调整反应时间、硅片转速、喷嘴速度和摆幅,得到最...
针对背照式CMOS图像传感器制作工艺,提出了一种采用氢氧化四甲基铵液进行湿法刻蚀的背部硅片减薄工艺。分析了硅减薄工艺的整体流程,针对化学机械研磨后的湿法刻蚀工艺进行了实验。通过调整反应时间、硅片转速、喷嘴速度和摆幅,得到最优刻蚀参数,使厚度均值达到目标值,平整度控制在一定范围内。该湿法刻蚀工艺中,首先对硅片表面形貌进行修正,接着对硅片进行整体刻蚀,达到目标厚度,最后通过减薄得到BSI背部硅片。采用该硅片制作的图像传感器的成像质量得到提高。
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关键词
背照
湿法刻蚀
CMOS图像传感器
厚度均值
硅减薄
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职称材料
基于光照不变感知特征的打火石检测识别
9
作者
陈文明
梁冬泰
《计算机工程与应用》
CSCD
北大核心
2016年第6期227-234,共8页
为了在生产过程中确定打火石的方向,提高打火石安装定位的效率,根据打火石圆柱状外形及两端面的颜色特征,使用特定的棋盘形工装定位装置对打火石进行定位,并利用彩色机器视觉技术对打火石的端面颜色进行检测识别。为了准确识别出打火石...
为了在生产过程中确定打火石的方向,提高打火石安装定位的效率,根据打火石圆柱状外形及两端面的颜色特征,使用特定的棋盘形工装定位装置对打火石进行定位,并利用彩色机器视觉技术对打火石的端面颜色进行检测识别。为了准确识别出打火石的品红色端面,在拮抗色感知特征基础上,针对现场环境中光线不均等问题,进行了光照不变的拮抗色感知特征变换,降低了光照不均对检测结果的影响。对于打火石另一端面银白色特征,根据其高亮的特性,采用Otsu自适应阈值法进行分割,并在颜色通道的统计基础上,对银白色特征提取过程进一步进行约束。实验结果表明,采用光照不变的拮抗色感知特征提取算法以及阈值分割相结合的方法,能够有效对打火石的端面颜色进行识别,在不出现误检的情况下,品红色端面的识别准确率为99.87%,银白色端面的识别准确率为99.62%,满足了打火石视觉检测识别系统的性能要求。
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关键词
彩色特征提取
光照不变特征
拮抗色理论
颜色识别
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职称材料
基于民用照射源的被动雷达信号分析与处理
被引量:
4
10
作者
马永锋
单涛
陶然
《系统工程与电子技术》
EI
CSCD
北大核心
2004年第12期1755-1756,1773,共3页
首先介绍基于民用照射源的被动雷达应用概况,给出了系统配置示意图,分析了调频广播信号作为雷达照射源的模糊函数和目标检测的二维相关算法。针对运算量巨大的问题,重点介绍了改进的二维相关算法,减少了运算量。简单介绍基于流水线结构...
首先介绍基于民用照射源的被动雷达应用概况,给出了系统配置示意图,分析了调频广播信号作为雷达照射源的模糊函数和目标检测的二维相关算法。针对运算量巨大的问题,重点介绍了改进的二维相关算法,减少了运算量。简单介绍基于流水线结构的多DSP信号处理机,以实时完成信号检测与估计任务。
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关键词
照射源
模糊函数
信号处理
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职称材料
背照式CCD量子效率的工艺仿真研究
11
作者
姜华男
陈捷
+1 位作者
韩恒利
熊玲
《半导体光电》
CAS
北大核心
2016年第6期784-787,791,共5页
使用Silvaco软件建立了背照式CCD仿真模型,利用该模型进行了工艺和器件仿真,研究了背面减薄、背面掺杂、界面陷阱和增透膜对背照式CCD量子效率的影响。仿真结果表明:界面陷阱和硅表面反射是量子效率损失的重要原因。在完全去除过渡区后...
使用Silvaco软件建立了背照式CCD仿真模型,利用该模型进行了工艺和器件仿真,研究了背面减薄、背面掺杂、界面陷阱和增透膜对背照式CCD量子效率的影响。仿真结果表明:界面陷阱和硅表面反射是量子效率损失的重要原因。在完全去除过渡区后,利用峰值位于表面且具有高杂质浓度梯度的背面掺杂和适当的单层增透膜,可获得峰值在90%以上的量子效率。
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关键词
背照式CCD
背面工艺
量子效率
工艺仿真
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职称材料
题名
激光辐照绝缘样品不同位置的沿面闪络性能
被引量:
2
1
作者
徐乐
王勐
康军军
李逢
任靖
杨尊
机构
清华大学工程物理系粒子技术与辐射成像教育部重点实验室
中国工程物理研究院流体物理研究所
出处
《强激光与粒子束》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2013年第3期791-793,共3页
基金
中国工程物理研究院科学技术发展基金项目(2010B0402053)
文摘
绝缘体沿面闪络是制约脉冲功率技术发展的瓶颈之一。为了能对沿面闪络机理有更深的认识,通过在沿面闪络过程中引入激光辐照的作用,考察了绝缘样品上不同的辐照位置对于沿面闪络性能的影响。实验结果表明:辐照位置越靠近闪络起始的地方,对沿面闪络性能的影响越大;在沿面闪络的过程中,不同的阶段如闪络起始阶段及电子倍增阶段在整个闪络过程中所起的作用不同。
关键词
激光辐照
沿面闪络机理
辐照位置
闪络过程
Keywords
laser
illumination
surface
flashover
mechanism
illumination
position
flashover
process
分类号
TM854 [电气工程—高电压与绝缘技术]
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职称材料
题名
基于全变分模型的多分辨率光照处理算法
被引量:
2
2
作者
王涌
庄连生
庄镇泉
李斌
机构
中国科学技术大学多媒体计算与通信教育部-微软重点实验室
中国科学技术大学电子科学与技术系
出处
《电路与系统学报》
CSCD
北大核心
2009年第1期32-37,共6页
基金
多媒体计算与通信教育部-微软重点实验室科研基金(05071811)
安徽省人才开发资金(2004Z026)
+1 种基金
NSFC-RGC国家自然科学基金香港联合资助项目(60518002)
国家自然科学基金项目资助(60572012)
文摘
针对人脸识别中的光照问题,本文提出一种多分辨率分层的快速处理算法。该算法建立在扩展的全变分模型的理论基础之上,具有模型简单,优化参数少等优点,并能有效的减少光晕现象。算法从快速性入手,首先将光照劣化图像进行多分辨率分层,在每一层上利用模型进行估计,从而得出整体的光照成分,然后恢复出人脸的反射系数图像,并以此作为光照不变量来进行识别。实验证明,通过多分辨率分层的方法,不仅能使系统在不同光照条件下的识别率得到提高,而且还能解决单独用TV(Total Variation)模型进行估计时处理速度较慢的缺点。
关键词
人脸识别
光照处理
全变分模型
多分辨率算法
Keywords
face
recognition
illumination
process
total
variation
model
multi-resolution
分类号
TP391.4 [自动化与计算机技术—计算机应用技术]
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职称材料
题名
先进节点接触层照明类型优化解决光刻制造要求
3
作者
刘娟
机构
上海交通大学
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
出处
《电子与封装》
2016年第10期36-38,47,共4页
文摘
先进节点逻辑集成电路制造是当前工业界的领先工艺。为实现接触(Contact)层的光刻工艺,需要从两个关键方面进行处理:解析度和全间距的共有工艺窗口。离轴照明+相移掩模+亚解析度辅助图形多种解析度增强技术的组合使用是解决光刻成像的方法。从优化接触层离轴照明的类型方面解决光刻制造工艺的问题。
关键词
离轴照明
照明类型
工艺窗口
掩模误差增强因子
Keywords
off-axis
illumination
illumination
type
process
window
MEEF
分类号
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
电视摄像机主要参数测试系统设计与实施
4
作者
肖恒兵
机构
华中光电技术研究所-武汉光电国家实验室
出处
《计测技术》
2014年第4期18-22,共5页
文摘
在监控和军事等领域应用中,对电视摄像机的主要光电参数的准确标定是非常重要的。本文介绍了一种基于视频信号处理的电视摄像机主要光电参数综合检测装置的设计和实施方案。采用特定的测试目标对摄像机成像,视频图像被高精度数字图像采集卡捕获并将数据传送给计算机,再通过数字图像处理软件自动计算,可实现CCD响应度、灵敏度、信噪比、动态范围和电视分辨力、畸变、对比度等参数的准确测试。
关键词
电视摄像机
光电参数
标定
图像采集卡
图像处理
Keywords
TV
camera
illumination
parameter
calibration
frame
grabber
image
process
分类号
TB96 [机械工程—光学工程]
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职称材料
题名
表面等离子体无掩膜干涉光刻系统的数值分析(英文)
被引量:
5
5
作者
董启明
郭小伟
机构
电子科技大学光电信息学院
出处
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2012年第5期558-564,共7页
基金
The National Natural Science Foundation of China(No.60906052)
文摘
表面等离子体激元具有近场增强效应,可以代替光子作为曝光源形成纳米级特征尺寸的图像.本文数值分析了棱镜辅助表面等离子体干涉系统的参量空间,并给出了计算原理和方法.结果表明,适当地选择高折射率棱镜、低银层厚度、入射波长和光刻胶折射率,可以获得高曝光度、高对比度的干涉图像.入射波长为431nm时,选择40nm厚的银层,曝光深度可达200nm,条纹周期为110nm.数值分析结果为实验的安排提供了理论支持.
关键词
干涉光刻
表面等离子体激元
克莱舒曼结构
Keywords
Interference
lithography
Surface
plasmon
plortiton
Kretschmann
structureCLCN:
TN305.7
Document
Code:A
Article
ID:1004-4213(2012)05-0558-70
IntroductionThere
is
a
growing
interest
in
exploring
new
nanolithography
techniques
with
high
efficiency,low
cost
and
large-area
fabrication
to
fabricate
nanoscale
devices
for
nanotechnology
applications.Conventional
photolithography
has
remained
a
useful
microfabrication
technology
because
of
its
ease
of
repetition
and
suitability
for
large-area
fabrication[1].The
diffraction
limit,however,restricts
the
fabrication
scale
of
photolithography[2].Potential
solutions
that
have
actually
been
pursued
require
increasingly
shorter
illumination
wavelengths
for
replicating
smaller
structures.It
is
becoming
more
difficult
and
complicated
to
use
the
short
optical
wavelengths
to
reach
the
desired
feature
sizes.Other
methods
such
as
electron
beam
lithography[3],ion
beam
lithography[4],scanning
probe
lithography[5],nanoimprint
lithography(NIL)[6],and
evanescent
near-field
optical
lithography(ENFOL)[7]
have
been
developed
in
order
to
achieve
nanometer-scale
features.As
we
know,the
former
three
techniques
need
scanning
and
accordingly
are
highly
inefficient.In
NIL,the
leveling
of
the
imprint
template
and
the
substrate
during
the
printing
process
,which
determines
the
uniformity
of
the
imprint
result,is
a
challenging
issue
of
this
method.ENFOL
have
the
potential
to
produce
subwavelength
structures
with
high
efficiency,but
it
encounters
the
fact
that
the
evanescent
field
decays
rapidly
through
the
aperture,thus
attenuating
the
transmission
intensity
at
the
exit
plane
and
limiting
the
exposure
distance
to
the
scale
of
a
few
tens
of
nanometers
from
the
mask.In
recent
years,the
use
of
surface-plasmon
polaritons(SPPs)
instead
of
photons
as
an
exposure
source
was
rapidly
developed
to
fabricate
nanoscale
structures.SPPs
are
characterized
by
its
near
field
enhancement
so
that
SPP-based
lithography
can
greatly
extend
exposure
depth
and
improve
pattern
contrast.Grating-assisted
SPP
interference,such
as
S
分类号
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
高效暖白光器件的廉价制备及其相关材料研究
被引量:
3
6
作者
叶尚辉
胡天庆
杨敏
刘丽萍
贾振宏
翟邦成
黄维
机构
南京邮电大学IAM团队
出处
《液晶与显示》
CAS
CSCD
北大核心
2015年第3期421-426,共6页
基金
国家自然科学基金(No.61106017)
江苏省教育厅自然基金(No.11KJB430010)
江苏省自然科学基金面上项目(No.BK20131375)
文摘
低色温光源由于其对抗黑变激素具有较低的抑制作用而成为生理友好照明的首选.同时,高的能量效率对于节能也至关重要.本课题采用温和的溶液旋涂方法分别制备了含互补色、三基色和四基色磷光染料的单层有机白光二极管(WOLED).经过优化 WOLED的结构,实现了宽亮度范围内100-10000 cd/m2的低色温(low-CCT)白光发射.CCT低至2500 K以下、显示指数(CRI)高达到83、电流效率在亮度为1000 cd/m2时达到了17.8 cd/A,与传统的白炽灯功效相当.高发光性能、廉价制备成本及生理友好的特性表明,本工作制备的器件是益于人类健康的照明光源尤其是夜间照明光源的理想选择.
关键词
白光照明
低色温
有机发光二极管
溶液加工
磷光
Keywords
white
light
illumination
low
color
temperature
OLED
solution
process
phosphores-cence
分类号
TN141 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
厚壁管中间检验过程中几个参数的选取
被引量:
1
7
作者
周国红
机构
北京电力建设公司
出处
《电力建设》
北大核心
2003年第9期22-23,共2页
文摘
在厚壁管中间检验过程中 ,应选择合适的胶片 ,应准备宽度不同的增感屏 ,应选择透照焦距使其大于最小规定的焦距。透照前必须对管径、壁厚及施焊厚度进行实测 ,以确定曝光时间。应按实际情况优化透照工艺 ,应做好胶片的冲洗和底片的评定工作。
关键词
电站
钢制承压管道
厚壁管
检验
参数选取
Keywords
thick-walled
pipe
intermediate
inspection
transmitting
illumination
parameter
optimizing
transmitting
illumination
process
分类号
TM621.72 [电气工程—电力系统及自动化]
原文传递
题名
背照式CMOS图像传感器的硅减薄湿法刻蚀工艺
8
作者
窦英男
徐旻
刘轩
机构
电信科学技术研究院
中芯国际集成电路制造有限公司
出处
《微电子学》
CAS
北大核心
2020年第3期421-427,共7页
文摘
针对背照式CMOS图像传感器制作工艺,提出了一种采用氢氧化四甲基铵液进行湿法刻蚀的背部硅片减薄工艺。分析了硅减薄工艺的整体流程,针对化学机械研磨后的湿法刻蚀工艺进行了实验。通过调整反应时间、硅片转速、喷嘴速度和摆幅,得到最优刻蚀参数,使厚度均值达到目标值,平整度控制在一定范围内。该湿法刻蚀工艺中,首先对硅片表面形貌进行修正,接着对硅片进行整体刻蚀,达到目标厚度,最后通过减薄得到BSI背部硅片。采用该硅片制作的图像传感器的成像质量得到提高。
关键词
背照
湿法刻蚀
CMOS图像传感器
厚度均值
硅减薄
Keywords
backside-
illumination
wet
etching
process
CMOS
image
sensor
thickness
mean
value
silicon
thinning
分类号
TN305 [电子电信—物理电子学]
下载PDF
职称材料
题名
基于光照不变感知特征的打火石检测识别
9
作者
陈文明
梁冬泰
机构
宁波大学机械工程与力学学院
浙江省零件轧制成形技术研究重点实验室
出处
《计算机工程与应用》
CSCD
北大核心
2016年第6期227-234,共8页
基金
国家自然科学基金(No.51305214)
浙江省自然科学基金(No.LQ12E05009)
+1 种基金
浙江省教育厅资助项目(No.Y201017781)
宁波大学学科项目(No.XKL14D2046)
文摘
为了在生产过程中确定打火石的方向,提高打火石安装定位的效率,根据打火石圆柱状外形及两端面的颜色特征,使用特定的棋盘形工装定位装置对打火石进行定位,并利用彩色机器视觉技术对打火石的端面颜色进行检测识别。为了准确识别出打火石的品红色端面,在拮抗色感知特征基础上,针对现场环境中光线不均等问题,进行了光照不变的拮抗色感知特征变换,降低了光照不均对检测结果的影响。对于打火石另一端面银白色特征,根据其高亮的特性,采用Otsu自适应阈值法进行分割,并在颜色通道的统计基础上,对银白色特征提取过程进一步进行约束。实验结果表明,采用光照不变的拮抗色感知特征提取算法以及阈值分割相结合的方法,能够有效对打火石的端面颜色进行识别,在不出现误检的情况下,品红色端面的识别准确率为99.87%,银白色端面的识别准确率为99.62%,满足了打火石视觉检测识别系统的性能要求。
关键词
彩色特征提取
光照不变特征
拮抗色理论
颜色识别
Keywords
color
feature
extraction
illumination
invariant
feature
opponent
process
theory
color
recognition
分类号
TP391 [自动化与计算机技术—计算机应用技术]
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职称材料
题名
基于民用照射源的被动雷达信号分析与处理
被引量:
4
10
作者
马永锋
单涛
陶然
机构
北京理工大学电子工程系
出处
《系统工程与电子技术》
EI
CSCD
北大核心
2004年第12期1755-1756,1773,共3页
基金
国家自然科学基金重点资助项目(60232010)
文摘
首先介绍基于民用照射源的被动雷达应用概况,给出了系统配置示意图,分析了调频广播信号作为雷达照射源的模糊函数和目标检测的二维相关算法。针对运算量巨大的问题,重点介绍了改进的二维相关算法,减少了运算量。简单介绍基于流水线结构的多DSP信号处理机,以实时完成信号检测与估计任务。
关键词
照射源
模糊函数
信号处理
Keywords
illumin
ator
ambiguity
function
signal
process
分类号
TN957.51 [电子电信—信号与信息处理]
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职称材料
题名
背照式CCD量子效率的工艺仿真研究
11
作者
姜华男
陈捷
韩恒利
熊玲
机构
重庆光电技术研究所
出处
《半导体光电》
CAS
北大核心
2016年第6期784-787,791,共5页
文摘
使用Silvaco软件建立了背照式CCD仿真模型,利用该模型进行了工艺和器件仿真,研究了背面减薄、背面掺杂、界面陷阱和增透膜对背照式CCD量子效率的影响。仿真结果表明:界面陷阱和硅表面反射是量子效率损失的重要原因。在完全去除过渡区后,利用峰值位于表面且具有高杂质浓度梯度的背面掺杂和适当的单层增透膜,可获得峰值在90%以上的量子效率。
关键词
背照式CCD
背面工艺
量子效率
工艺仿真
Keywords
backside-
illumin
ated
CCD
backside
process
quantum
efficiency
process
simulation
分类号
TN386.5 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
激光辐照绝缘样品不同位置的沿面闪络性能
徐乐
王勐
康军军
李逢
任靖
杨尊
《强激光与粒子束》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2013
2
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职称材料
2
基于全变分模型的多分辨率光照处理算法
王涌
庄连生
庄镇泉
李斌
《电路与系统学报》
CSCD
北大核心
2009
2
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职称材料
3
先进节点接触层照明类型优化解决光刻制造要求
刘娟
《电子与封装》
2016
0
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职称材料
4
电视摄像机主要参数测试系统设计与实施
肖恒兵
《计测技术》
2014
0
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职称材料
5
表面等离子体无掩膜干涉光刻系统的数值分析(英文)
董启明
郭小伟
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2012
5
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职称材料
6
高效暖白光器件的廉价制备及其相关材料研究
叶尚辉
胡天庆
杨敏
刘丽萍
贾振宏
翟邦成
黄维
《液晶与显示》
CAS
CSCD
北大核心
2015
3
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职称材料
7
厚壁管中间检验过程中几个参数的选取
周国红
《电力建设》
北大核心
2003
1
原文传递
8
背照式CMOS图像传感器的硅减薄湿法刻蚀工艺
窦英男
徐旻
刘轩
《微电子学》
CAS
北大核心
2020
0
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职称材料
9
基于光照不变感知特征的打火石检测识别
陈文明
梁冬泰
《计算机工程与应用》
CSCD
北大核心
2016
0
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职称材料
10
基于民用照射源的被动雷达信号分析与处理
马永锋
单涛
陶然
《系统工程与电子技术》
EI
CSCD
北大核心
2004
4
下载PDF
职称材料
11
背照式CCD量子效率的工艺仿真研究
姜华男
陈捷
韩恒利
熊玲
《半导体光电》
CAS
北大核心
2016
0
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