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沉积温度对水热电泳沉积硅酸锆涂层显微结构和性能的影响
被引量：
9
1
作者
刘佳
曹丽云
+2 位作者
黄剑锋
辛宇
吴建鹏
《航空材料学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2011年第6期30-35,共6页
以硅酸锆粉体为原料,异丙醇为溶剂,采用水热电泳沉积法在C/C-SiC复合材料基体表面制备了硅酸锆外涂层。通过X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)对涂层的晶相结构和微观形貌进行表征。研究了沉积温度对硅酸锆涂层沉积量及显微结构的影...
以硅酸锆粉体为原料,异丙醇为溶剂,采用水热电泳沉积法在C/C-SiC复合材料基体表面制备了硅酸锆外涂层。通过X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)对涂层的晶相结构和微观形貌进行表征。研究了沉积温度对硅酸锆涂层沉积量及显微结构的影响,及不同沉积温度下涂层的沉积动力学,同时测试了涂层的抗氧化性能。结果表明:在353～413K范围内,水热沉积温度对涂层的显微结构有较大影响;涂层的沉积量随温度升高而增加;涂层的沉积规律受硅酸锆带电粒子扩散迁移所控制;涂层的沉积活化能为25.45kJ/mol;所制备的涂层试样在空气中氧化25h后,失重率小于2%。
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关键词
硅酸锆
水热电泳沉积
碳/碳复合材料
沉积动力学
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职称材料
莫来石抗氧化外涂层的制备及抗氧化性能
被引量：
1
2
作者
杨强
黄剑锋
+2 位作者
杨婷
曹丽云
吴建鹏
《无机化学学报》
SCIE
CAS
CSCD
北大核心
2011年第5期907-912,共6页
以莫来石粉体（3Al2O3·2SiO2）为原料,采用水热电泳沉积法在C/C-SiC复合材料表面制备了莫来石外涂层。借助XRD和SEM等对涂层的晶相组成和显微结构进行了表征。研究了水热沉积电压对莫来石外涂层相组成、形貌及高温抗氧化性能的影...
以莫来石粉体（3Al2O3·2SiO2）为原料,采用水热电泳沉积法在C/C-SiC复合材料表面制备了莫来石外涂层。借助XRD和SEM等对涂层的晶相组成和显微结构进行了表征。研究了水热沉积电压对莫来石外涂层相组成、形貌及高温抗氧化性能的影响。结果表明：外涂层主要由莫来石晶相组成。当沉积电压控制在120~180 V范围内时,莫来石外涂层的致密程度、厚度及抗氧化性能随着沉积电压的升高而提高。当沉积电压达到210 V时,制备的外涂层出现疏松、裂纹等缺陷,抗氧化性能减弱。抗氧化测试表明与包埋法制备的SiC-C/C涂层试样相比,莫来石-SiC-C/C涂层试样的抗氧化性能明显提高。当沉积电压为180 V时,制备的复合涂层试样可在1500℃的空气气氛下有效保护C/C复合材料164 h,其失重仅为1.75%。
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关键词
C/C复合材料
莫来石外涂层
水热电泳沉积法
沉积电压
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职称材料
沉积电压对水热电泳沉积硅酸钇涂层显微结构的影响
被引量：
1
3
作者
王雅琴
黄剑锋
+1 位作者
曹丽云
吴建鹏
《材料导报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2009年第20期107-110,共4页
采用水热电泳沉积法在SiC-C/C复合材料SiC内涂层表面制备了硅酸钇抗氧化外涂层,并借助X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)对涂层的相组成及显微结构进行了表征。讨论了沉积电压对硅酸钇涂层沉积量及显微结构的影响,并研究了不同沉积...
采用水热电泳沉积法在SiC-C/C复合材料SiC内涂层表面制备了硅酸钇抗氧化外涂层,并借助X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)对涂层的相组成及显微结构进行了表征。讨论了沉积电压对硅酸钇涂层沉积量及显微结构的影响,并研究了不同沉积电压下涂层沉积量与时间的关系,同时测试了涂层试样的抗氧化性能。研究结果表明,随着沉积电压的升高,涂层的沉积量有所增加,涂层的致密性和均匀性也逐渐得到改善。当电压为210V时达到最佳,继续升高沉积电压,涂层的均匀性变差,当沉积电压为240V时,涂层出现明显开裂;不同沉积电压下涂层沉积量随时间呈抛物线变化;涂层在1500℃静态空气中经过10h氧化后,失重仍然小于2%。
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关键词
水热电泳沉积
C/C复合材料
硅酸钇涂层
沉积电压
下载PDF
职称材料
工艺因素对水热电泳沉积硅酸钇涂层显微结构的影响
被引量：
1
4
作者
王雅琴
黄剑锋
+1 位作者
曹丽云
吴建鹏
《硅酸盐通报》
CAS
CSCD
北大核心
2009年第2期253-256,共4页
采用水热电泳沉积法在C/C-SiC复合材料表面制备了硅酸钇抗氧化外涂层。研究了沉积电流密度和低温热处理对硅酸钇涂层的影响。采用X-射线衍射仪(XRD)和扫描电子显微镜(SEM)对涂层的相组成和显微结构进行了表征。结果表明:采用声化学法制...
采用水热电泳沉积法在C/C-SiC复合材料表面制备了硅酸钇抗氧化外涂层。研究了沉积电流密度和低温热处理对硅酸钇涂层的影响。采用X-射线衍射仪(XRD)和扫描电子显微镜(SEM)对涂层的相组成和显微结构进行了表征。结果表明:采用声化学法制备的硅酸钇微晶颗粒尺寸为25～40nm。随着沉积电流密度增加,硅酸钇涂层均匀性、致密性先逐渐增加后降低。当电流密度超过0.04A/cm2时会导致涂层表面开裂。进行低温热处理,涂层表面硅酸钇纳米晶出现熔融现象;随热处理温度增加,涂层表面呈现玻璃化趋势。当热处理温度达1200℃时,表面完全熔融,形成致密的硅酸钇玻璃层。涂层在1500℃静态空气中,经过氧化10h后,失重仍然小于2%。
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关键词
水热电泳沉积
C/C复合材料
硅酸钇涂层
下载PDF
职称材料
题名
沉积温度对水热电泳沉积硅酸锆涂层显微结构和性能的影响
被引量：
9
1
作者
刘佳
曹丽云
黄剑锋
辛宇
吴建鹏
机构
陕西科技大学教育部轻化工助剂化学与技术重点实验室
出处
《航空材料学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2011年第6期30-35,共6页
基金
国家自然科学基金(51072108)
陕西省教育厅科研计划项目资助基金(2010JK444)
陕西科技大学研究生创新基金
文摘
以硅酸锆粉体为原料,异丙醇为溶剂,采用水热电泳沉积法在C/C-SiC复合材料基体表面制备了硅酸锆外涂层。通过X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)对涂层的晶相结构和微观形貌进行表征。研究了沉积温度对硅酸锆涂层沉积量及显微结构的影响,及不同沉积温度下涂层的沉积动力学,同时测试了涂层的抗氧化性能。结果表明:在353～413K范围内,水热沉积温度对涂层的显微结构有较大影响;涂层的沉积量随温度升高而增加;涂层的沉积规律受硅酸锆带电粒子扩散迁移所控制;涂层的沉积活化能为25.45kJ/mol;所制备的涂层试样在空气中氧化25h后,失重率小于2%。
关键词
硅酸锆
水热电泳沉积
碳/碳复合材料
沉积动力学
Keywords
zirconium
silicate
hydrothermal
electrophoretic
deposition
process
carbon/carbon
deposition
kinetics
分类号
TB332 [一般工业技术—材料科学与工程]
下载PDF
职称材料
题名
莫来石抗氧化外涂层的制备及抗氧化性能
被引量：
1
2
作者
杨强
黄剑锋
杨婷
曹丽云
吴建鹏
机构
教育部轻化工助剂化学与技术重点实验室陕西科技大学材料科学与工程学院
西安交通大学材料科学与工程学院
出处
《无机化学学报》
SCIE
CAS
CSCD
北大核心
2011年第5期907-912,共6页
基金
国家自然科学基金(No.51072108)
教育部博士点基金(No.20070708001)
+3 种基金
新世纪优秀人才支持计划基金(NECT-06-0893)
陕西省教育厅科研计划项目(No.2010JK444)
陕西科技大学科研创新团队基金(TD09-05)
陕西科技大学研究生创新基金资助项目
文摘
以莫来石粉体（3Al2O3·2SiO2）为原料,采用水热电泳沉积法在C/C-SiC复合材料表面制备了莫来石外涂层。借助XRD和SEM等对涂层的晶相组成和显微结构进行了表征。研究了水热沉积电压对莫来石外涂层相组成、形貌及高温抗氧化性能的影响。结果表明：外涂层主要由莫来石晶相组成。当沉积电压控制在120~180 V范围内时,莫来石外涂层的致密程度、厚度及抗氧化性能随着沉积电压的升高而提高。当沉积电压达到210 V时,制备的外涂层出现疏松、裂纹等缺陷,抗氧化性能减弱。抗氧化测试表明与包埋法制备的SiC-C/C涂层试样相比,莫来石-SiC-C/C涂层试样的抗氧化性能明显提高。当沉积电压为180 V时,制备的复合涂层试样可在1500℃的空气气氛下有效保护C/C复合材料164 h,其失重仅为1.75%。
关键词
C/C复合材料
莫来石外涂层
水热电泳沉积法
沉积电压
Keywords
carbon/carbon
composites
mullite
coating
hydrothermal
electrophoretic
deposition
process
deposition
voltage
分类号
O613.71 [理学—无机化学]
O613.72 [理学—化学]
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职称材料
题名
沉积电压对水热电泳沉积硅酸钇涂层显微结构的影响
被引量：
1
3
作者
王雅琴
黄剑锋
曹丽云
吴建鹏
机构
陕西科技大学教育部轻化工助剂化学与技术重点实验室
出处
《材料导报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2009年第20期107-110,共4页
基金
国家自然科学基金(50772063)
教育部博士点基金(20070708001)
+2 种基金
陕西省自然科学基金(ST08-ZT05)
教育部"新世纪优秀人才支持计划"基金(NECT-06-0893)
陕西科技大学研究生创新基金资助
文摘
采用水热电泳沉积法在SiC-C/C复合材料SiC内涂层表面制备了硅酸钇抗氧化外涂层,并借助X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)对涂层的相组成及显微结构进行了表征。讨论了沉积电压对硅酸钇涂层沉积量及显微结构的影响,并研究了不同沉积电压下涂层沉积量与时间的关系,同时测试了涂层试样的抗氧化性能。研究结果表明,随着沉积电压的升高,涂层的沉积量有所增加,涂层的致密性和均匀性也逐渐得到改善。当电压为210V时达到最佳,继续升高沉积电压,涂层的均匀性变差,当沉积电压为240V时,涂层出现明显开裂;不同沉积电压下涂层沉积量随时间呈抛物线变化;涂层在1500℃静态空气中经过10h氧化后,失重仍然小于2%。
关键词
水热电泳沉积
C/C复合材料
硅酸钇涂层
沉积电压
Keywords
hydrothermal
electrophoretic
deposition
process
,
carbon/carbon
composites,
yttrium
silicates
coatings,
deposition
voltage
分类号
TB332 [一般工业技术—材料科学与工程]
下载PDF
职称材料
题名
工艺因素对水热电泳沉积硅酸钇涂层显微结构的影响
被引量：
1
4
作者
王雅琴
黄剑锋
曹丽云
吴建鹏
机构
陕西科技大学教育部轻化工助剂化学与技术重点实验室
出处
《硅酸盐通报》
CAS
CSCD
北大核心
2009年第2期253-256,共4页
基金
国家自然科学基金(50772063)
教育部博士点基金(20070708001)
+2 种基金
陕西省自然科学基金(ST08-ZT05)
教育部"新世纪优秀人才支持计划"基金(NECT-06-0893)
陕西科技大学研究生创新基金
文摘
采用水热电泳沉积法在C/C-SiC复合材料表面制备了硅酸钇抗氧化外涂层。研究了沉积电流密度和低温热处理对硅酸钇涂层的影响。采用X-射线衍射仪(XRD)和扫描电子显微镜(SEM)对涂层的相组成和显微结构进行了表征。结果表明:采用声化学法制备的硅酸钇微晶颗粒尺寸为25～40nm。随着沉积电流密度增加,硅酸钇涂层均匀性、致密性先逐渐增加后降低。当电流密度超过0.04A/cm2时会导致涂层表面开裂。进行低温热处理,涂层表面硅酸钇纳米晶出现熔融现象;随热处理温度增加,涂层表面呈现玻璃化趋势。当热处理温度达1200℃时,表面完全熔融,形成致密的硅酸钇玻璃层。涂层在1500℃静态空气中,经过氧化10h后,失重仍然小于2%。
关键词
水热电泳沉积
C/C复合材料
硅酸钇涂层
Keywords
hydrothermal
electrophoretic
deposition
process
carbon/carbon
composites
yttrium
sihcates
coatings
分类号
TB332 [一般工业技术—材料科学与工程]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
沉积温度对水热电泳沉积硅酸锆涂层显微结构和性能的影响
刘佳
曹丽云
黄剑锋
辛宇
吴建鹏
《航空材料学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2011
9
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职称材料
2
莫来石抗氧化外涂层的制备及抗氧化性能
杨强
黄剑锋
杨婷
曹丽云
吴建鹏
《无机化学学报》
SCIE
CAS
CSCD
北大核心
2011
1
下载PDF
职称材料
3
沉积电压对水热电泳沉积硅酸钇涂层显微结构的影响
王雅琴
黄剑锋
曹丽云
吴建鹏
《材料导报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2009
1
下载PDF
职称材料
4
工艺因素对水热电泳沉积硅酸钇涂层显微结构的影响
王雅琴
黄剑锋
曹丽云
吴建鹏
《硅酸盐通报》
CAS
CSCD
北大核心
2009
1
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职称材料
已选择
0
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