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纳米碳纤维薄膜的制备及其疏水性能
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作者 卢小萍 吕少勇 +3 位作者 宋安康 杜芳林 王桂雪 谢广文 《青岛科技大学学报（自然科学版）》 CAS 北大核心 2012年第4期337-340,共4页
采用化学气相沉积(CVD)方法,以乙炔(C2H2)为碳源,直接于铜基板上生长碳纤维薄膜。铜基板只进行简单的打磨处理。通过扫描电子显微镜(SEM)、透射电子显微镜(TEM)对产物的形貌、结构进行了表征,并用接触角测量仪(CA)对制备的碳纤维薄膜进... 采用化学气相沉积(CVD)方法,以乙炔(C2H2)为碳源,直接于铜基板上生长碳纤维薄膜。铜基板只进行简单的打磨处理。通过扫描电子显微镜(SEM)、透射电子显微镜(TEM)对产物的形貌、结构进行了表征,并用接触角测量仪(CA)对制备的碳纤维薄膜进行疏水性测试。结果表明:在铜基板表面制备了一层直径为100～200nm,厚度为40～50μm的碳纤维薄膜。疏水测试结果显示,这种薄膜有较好的疏水性能,且随纳米碳纤维合成温度变化而变化。经多次试验表明,铜片具有良好的循环使用性能,可多次用于制备碳纤维薄膜。 展开更多
关键词 铜基板 化学气相沉积 纳米碳纤维 疏水性能
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