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用于强激光系统的光栅偏振器
被引量：
5
1
作者
刘全
吴建宏
郭培亮
《光学精密工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2016年第12期2962-2968,共7页
针对强激光系统中常用的1 053nm激光器进行了偏振光栅结构的优化设计。利用严格耦合波理论分析了光栅偏振器的衍射特性及消光比,分析显示偏振光栅周期为600nm,占宽比为0.535~0.55,槽形深度为1 395nm^1 420nm时,可保证其在1 053nm波长下...
针对强激光系统中常用的1 053nm激光器进行了偏振光栅结构的优化设计。利用严格耦合波理论分析了光栅偏振器的衍射特性及消光比,分析显示偏振光栅周期为600nm,占宽比为0.535~0.55,槽形深度为1 395nm^1 420nm时,可保证其在1 053nm波长下,透射率高于95%,消光比大于1 500。基于分析结果,利用全息光刻技术制作了高质量光刻胶光栅掩模,并采用倾斜转动的离子束刻蚀结合反应离子束刻蚀的方法对该光刻胶光栅掩模进行图形转移,制作了底部占宽比为0.54,槽形深度为1 400nm的光栅偏振器。实验测量显示其透射率为92.9%,消光比达到160。与其他制作光栅偏振器方法相比,采用单光刻胶光栅掩模结合倾斜转动的离子束刻蚀工艺,不但简化了制作工艺,而且具有激光损伤阈值高、成本低的优点。由于该技术可制作大面积光栅,特别利于在强激光系统中应用。
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关键词
高功率激光系统
光栅偏振器
严格耦合波理论
全息光刻
离子束刻蚀
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职称材料
题名
用于强激光系统的光栅偏振器
被引量：
5
1
作者
刘全
吴建宏
郭培亮
机构
苏州大学物理与光电.能源学部苏州纳米科技协同创新中心
苏州大学江苏省先进光学制造技术重点实验室教育部现代光学技术重点实验室
出处
《光学精密工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2016年第12期2962-2968,共7页
基金
国家自然科学基金资助项目(No.60907017)
上海市全固态激光器与应用技术重点实验室开放课题资助项目(No.2014ADL02)
文摘
针对强激光系统中常用的1 053nm激光器进行了偏振光栅结构的优化设计。利用严格耦合波理论分析了光栅偏振器的衍射特性及消光比,分析显示偏振光栅周期为600nm,占宽比为0.535~0.55,槽形深度为1 395nm^1 420nm时,可保证其在1 053nm波长下,透射率高于95%,消光比大于1 500。基于分析结果,利用全息光刻技术制作了高质量光刻胶光栅掩模,并采用倾斜转动的离子束刻蚀结合反应离子束刻蚀的方法对该光刻胶光栅掩模进行图形转移,制作了底部占宽比为0.54,槽形深度为1 400nm的光栅偏振器。实验测量显示其透射率为92.9%,消光比达到160。与其他制作光栅偏振器方法相比,采用单光刻胶光栅掩模结合倾斜转动的离子束刻蚀工艺,不但简化了制作工艺,而且具有激光损伤阈值高、成本低的优点。由于该技术可制作大面积光栅,特别利于在强激光系统中应用。
关键词
高功率激光系统
光栅偏振器
严格耦合波理论
全息光刻
离子束刻蚀
Keywords
high
power
laser
system~
grating
polarizer
rigorous
coupled-wave
theory
holographic
li
-
thography
ion
beam
etching
分类号
O436.1 [机械工程—光学工程]
O436.3 [理学—光学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
用于强激光系统的光栅偏振器
刘全
吴建宏
郭培亮
《光学精密工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2016
5
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职称材料
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