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Fabrication of inorganic film gratings and study on their diffraction properties
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作者 WANG ZheZhe ZHAO GaoYang +2 位作者 MA JieYuan PENG HaiJun LI MeiLian 《Science China(Technological Sciences)》 SCIE EI CAS 2008年第11期1995-2000,共6页
A novel process for fabricating high-density and high diffraction efficiency inor- ganic gratings has been proposed by combining laser interference and chemical etching. In the present work, UV photosensitive Zr-conta... A novel process for fabricating high-density and high diffraction efficiency inor- ganic gratings has been proposed by combining laser interference and chemical etching. In the present work, UV photosensitive Zr-contained sol was synthesized, and photosensitive ZrO2/BzAc gel films on (100) silicon were prepared using the sol-gel method. Subsequently, inorganic film gratings with a pitch of 1 μm were fabricated by laser interference in this photosensitive gel film combining with the process of heat treatment. In order to increase the depth-to-width ratio of the grat- ings, chemical etching was adopted by using iodine-saturated KOH as anisotropic etchant, which improved the diffraction efficiency of the gratings effectively. Fur- thermore, the diffraction efficiency was improved by gold coating to enhance the surface glossiness and reflection coefficient. 展开更多
关键词 SOL-GEL high-density gratings laser INTERFERENCE chemical ETCHING DIFFRACTION efficiency
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矢量光场对高密光栅Talbot效应的影响
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作者 李志超 杨虎 《激光杂志》 北大核心 2017年第3期54-57,共4页
基于麦克斯韦方程组,借助矢势理论,经适当推导得出薄理想导电平面衍射光栅的矢量衍射积分公式。在特定偏振光入射下,给出了塔尔博特距离处衍射场强度分布公式。不作可能影响理论结果的近似条件下,分析了严格的积分形式解的意义。在无法... 基于麦克斯韦方程组,借助矢势理论,经适当推导得出薄理想导电平面衍射光栅的矢量衍射积分公式。在特定偏振光入射下,给出了塔尔博特距离处衍射场强度分布公式。不作可能影响理论结果的近似条件下,分析了严格的积分形式解的意义。在无法得到解析解的情况下,采用离散化方法对不同光栅周期条件下第一塔尔博特距离处的衍射场进行了实验模拟,并对相同光栅周期下,更短波长的衍射结果进行模拟。结果表明,当光栅周期在微米量级,小于2倍波长的情况下,塔尔博特现象不再明显,其塔尔博特距离处的强度分布与光栅出射面的强度分布差异很大。同时,在更短波长的条件下,塔尔博特效应依然有效,对微米结构或者更小的结构应用塔尔博特效应可以采用更短波长的电磁波来实现。 展开更多
关键词 矢量衍射积分 塔尔博特效应 高密光栅
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3333lp/mm X射线透射光栅的研制 被引量:11
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作者 朱效立 马杰 +5 位作者 谢常青 叶甜春 刘明 曹磊峰 杨家敏 张文海 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第6期1026-1030,共5页
针对X射线透射光栅摄谱仪中的高线密度光栅,研究了采用电子束曝光和X射线曝光技术结合制作高线密度X射线透射光栅的工艺技术。首先利用电子束曝光和微电镀技术在镂空的薄膜上制备母光栅X射线掩模版,然后利用X射线曝光和微电镀技术小批... 针对X射线透射光栅摄谱仪中的高线密度光栅,研究了采用电子束曝光和X射线曝光技术结合制作高线密度X射线透射光栅的工艺技术。首先利用电子束曝光和微电镀技术在镂空的薄膜上制备母光栅X射线掩模版,然后利用X射线曝光和微电镀技术小批量复制光栅。在国内首次完成了3333lp/mm X射线透射光栅的研制,栅线宽度为150nm,周期为300nm,金吸收体厚度为500nm。衍射效率标定的结果表明,该光栅的占空比合理、侧壁陡直,具有良好的色散特性,能够满足空间探测、同步辐射和变等离子诊断等多个领域的应用。 展开更多
关键词 X射线透射光栅 电子束光刻 X射线光刻 高线密度光栅
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高密度光栅膜片制备工艺的试验研究
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作者 田彬 王帅 +2 位作者 丘昆 张子健 杜云海 《河南科学》 2013年第8期1193-1196,共4页
高密度光栅作为色散元件,广泛用于光谱分析、云纹干涉法位移测量等,但传统光栅制备工艺复杂且成本高昂.为了方便结构分析应用,研究了粘贴式高密度光栅膜片的直接压印制备工艺及其流程.先用传统工艺制备的金属质光栅通过电镀制备金刚石-... 高密度光栅作为色散元件,广泛用于光谱分析、云纹干涉法位移测量等,但传统光栅制备工艺复杂且成本高昂.为了方便结构分析应用,研究了粘贴式高密度光栅膜片的直接压印制备工艺及其流程.先用传统工艺制备的金属质光栅通过电镀制备金刚石-镍光栅母板模片,再用母板模片在普通PET镀铝反光膜上直接高温压印即可制备可粘贴式高密度光栅膜.试验结果表明,选用适当厚度的PET反光膜,控制适当温度和压力,可制备出衍射效果良好的粘贴式高密度光栅膜片,且制备工艺相对简单. 展开更多
关键词 高密度光栅 金刚石-镍 电镀 PET镀铝膜
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高密度光栅自成像中的偏振效应
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作者 陆云清 田友伟 《南京邮电大学学报(自然科学版)》 2010年第2期22-26,共5页
利用时域有限差分方法分析了不同偏振态下,不同周期高密度光栅1/2泰伯距离处的自成像,数值结果显示当光栅周期在2λ~3λ时,不同偏振态下,光栅的自成像差别最大。采用扫描近场显微镜技术,在实验上验证了这一现象。同时,利用严格耦合波... 利用时域有限差分方法分析了不同偏振态下,不同周期高密度光栅1/2泰伯距离处的自成像,数值结果显示当光栅周期在2λ~3λ时,不同偏振态下,光栅的自成像差别最大。采用扫描近场显微镜技术,在实验上验证了这一现象。同时,利用严格耦合波方法分析了光栅的傅里叶谱,即远场分布,发现同近场分布存在着一定的对应关系。 展开更多
关键词 高密度光栅 自成像 偏振效应
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反射式光电编码器 被引量:10
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作者 王显军 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第12期3066-3071,共6页
研制了反射式光电编码器。介绍了光栅自成像原理,完善了高密度基准光栅的制作工艺,研制完成了32768刻线对光栅和高集成度光电读数头,最后制成了反射式高精度光电编码器。该编码器采用多参考点编码方式,加快和简化了确定基准零点的操作,... 研制了反射式光电编码器。介绍了光栅自成像原理,完善了高密度基准光栅的制作工艺,研制完成了32768刻线对光栅和高集成度光电读数头,最后制成了反射式高精度光电编码器。该编码器采用多参考点编码方式,加快和简化了确定基准零点的操作,初始化转动最大5.625°即可确定基准零点。采用自准直光管和23面棱体检测了编码器的测角精度,其单边读数头均方根误差为1.11″,对径双读数头均方根误差为0.75″;反射式读数使光栅与读数头间隙提高10倍达到2.0mm。结果表明,研制成功的高精度反射式光电编码器结构简单,反射式读数头光电信号质量较高。该编码器为高精度测角应用提供了一种新的解决方案。 展开更多
关键词 高精度编码器 反射式编码器 光栅自成像 高密度基准光栅
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高温泊松比测试方法与对比 被引量:3
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作者 李禾 张少钦 +1 位作者 邓颖 吴琼 《宇航材料工艺》 CAS CSCD 北大核心 2011年第6期28-31,共4页
对高温环境下材料泊松比测试的常规方法以及新发展的基于高温云纹干涉的测量技术进行了阐述和比较,新方法具有对各向同性或各向异性材料的广泛适用性和非接触、高灵敏度、大范围、全场测量等优越性,在先进材料研制中有应用价值。
关键词 高温云纹干涉 高密光栅 泊松比 非接触测量
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CCD云纹方法的光学放大作用分析及其在干涉测量中的应用 被引量:2
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作者 李佳 马少鹏 +1 位作者 朱海斌 马沁巍 《实验力学》 CSCD 北大核心 2020年第1期9-17,共9页
几何云纹由于对栅线变形具有光学放大作用,常被用于高密度栅线的微小变形测量。但是其需要分别设置参考栅和试件栅,实验布置复杂。当使用数字相机直接拍摄试件栅时也会形成与几何云纹相似的CCD云纹,但是基于此原理发展的变形分析方法是... 几何云纹由于对栅线变形具有光学放大作用,常被用于高密度栅线的微小变形测量。但是其需要分别设置参考栅和试件栅,实验布置复杂。当使用数字相机直接拍摄试件栅时也会形成与几何云纹相似的CCD云纹,但是基于此原理发展的变形分析方法是否可以应用于高密度栅线变形分析还缺乏相关的研究。本文基于CCD云纹的形成机理和周期公式,分析并确认了其与几何云纹一样具有光学放大作用,因此可以将其应用于高密度栅线/干涉条纹的解析。利用此优势,实现了对高密度干涉条纹间距的解析,实现了两个相干点光源距离和迈克尔逊干涉实验转动角度的精密测量。本研究为干涉实验中高密度条纹分析提供了一种新的手段,可以解决实验中条纹过密无法解析的问题。 展开更多
关键词 CCD云纹 高密度栅线 光学放大 距离测量
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高密度计量圆光栅的研制 被引量:1
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作者 喻洪麟 《重庆大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 1994年第6期89-93,共5页
在高精度圆刻线机上,采用了新的高精度主轴转速数字锁相自调系统;设计了一种新型柱面“蜂窝”透镜光刻系统。研制出刻划中径≤50mm,刻线数为32768线对的高密度计量圆光栅。最大直径误差≤0.6″,均匀性误差在5%以内。
关键词 编码器 透镜 光栅
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