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T.I.M.E.焊工艺与高效MAG焊的发展 被引量:22
1
作者 徐鲁宁 殷树言 卢振洋 《电焊机》 2000年第5期3-7,共5页
介绍了T .I.M .E .焊工艺的特点、工艺本身对焊接设备的要求以及此工艺在国内外的研究现状和高效MAG焊的发展趋势。
关键词 T.I.M.E.焊工艺 高熔敷率 高效MAG焊 焊接
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提高焊丝熔敷率的试验研究 被引量:5
2
作者 徐鲁宁 殷树言 +2 位作者 卢振洋 黄继强 曹光健 《焊接》 2001年第3期16-18,共3页
在理论分析的基础上 ,对干伸长、焊接电压、混合保护气体的配比成分等因素与熔敷率之间的关系作了大量系统试验 ,确定了影响熔敷率提高的主要因素 ,指出阻碍熔敷率提高的核心问题。
关键词 T.I.M.E.焊 熔敷率 正交试验 焊丝
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大电流直流正接MAG焊接工艺的研究 被引量:2
3
作者 王续明 高琴 +1 位作者 陈树君 华爱兵 《煤矿机械》 北大核心 2009年第5期99-101,共3页
采用试验手段确定了适用于直流正接MAG焊的保护气体,分析了不同焊接电流条件下的直流正接MAG焊电弧形态、熔滴过渡行为和焊缝成形特点,最后给出了大电流直流正接MAG焊的最佳工艺区间。
关键词 直流正接 高熔敷率 大电流
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Mathematical model and magnetic-control mechanism of the stability of rotating spray transfer 被引量:14
4
作者 殷树言 陈树君 +1 位作者 王军 徐鲁宁 《China Welding》 EI CAS 2003年第1期57-61,共5页
To realize stable rotating spray transfer in the region of high constant current is the key of realizing high deposition rate MAG welding process without helium in shielding gas and extending the welding current rang... To realize stable rotating spray transfer in the region of high constant current is the key of realizing high deposition rate MAG welding process without helium in shielding gas and extending the welding current range of traditional MAG welding process. In this paper, the magnetic control mechanism of the rotating spray transfer is stated and mathematical model is given. Theoretic basis is established, which implements high deposition rate MAG welding process with magnetic control instead of helium in shielding gas. 展开更多
关键词 magnetic control rotating spray transfer high deposition rates MAG welding process mathematical model
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1nm/s高速率微晶硅薄膜的制备及其在太阳能电池中的应用 被引量:14
5
作者 张晓丹 张发荣 +5 位作者 赵颖 陈飞 孙建 魏长春 耿新华 熊绍珍 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第2期209-212,共4页
采用甚高频等离子体增强化学气相沉积技术,在相对较高气压和较高功率条件下,制备了不同硅烷浓度的微晶硅材料.材料沉积速率随硅烷浓度的增加而增大,通过对材料的电学特性和结构特性的分析得知:获得了沉积速率超过1nm/s高速率器件质量级... 采用甚高频等离子体增强化学气相沉积技术,在相对较高气压和较高功率条件下,制备了不同硅烷浓度的微晶硅材料.材料沉积速率随硅烷浓度的增加而增大,通过对材料的电学特性和结构特性的分析得知:获得了沉积速率超过1nm/s高速率器件质量级微晶硅薄膜,并且也初步获得了效率达6.3%的高沉积速率微晶硅太阳电池. 展开更多
关键词 甚高频等离子体增强化学气相沉积 微晶硅薄膜太阳电池 高沉积速率 化学气相沉积技术
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给水AVT(O)处理方式在600MW超临界直流炉机组中的应用 被引量:8
6
作者 张小霓 吴文龙 +3 位作者 王琳 陈亮 李长鸣 何俊峰 《电力建设》 2012年第2期53-55,共3页
为解决高沉积率引起运行恶化问题,河南某600MW超临界直流炉机组给水处理由还原性全挥发处理(all volatile treatment(reduction),AVT(R))改为氧化性全挥发处理(all volatile treatment(oxidation),AVT(O))方式,省煤器入口铁含量明显降低... 为解决高沉积率引起运行恶化问题,河南某600MW超临界直流炉机组给水处理由还原性全挥发处理(all volatile treatment(reduction),AVT(R))改为氧化性全挥发处理(all volatile treatment(oxidation),AVT(O))方式,省煤器入口铁含量明显降低,给水泵和汽轮机调节级压差无明显升高,提高了机组的安全运行水平。分析了各种给水处理方式的特点和选择思路,探讨了基于AVT(O)方式的工况控制和铁含量测定方法。高沉积率超临界直流炉机组给水处理在不具备加氧处理(oxygenated treatment,OT)条件时,可考虑采用AVT(O)替代AVT(R)方式。 展开更多
关键词 超临界发电机组 直流锅炉 给水处理 氧化性全挥发处理(AVT(O)) 高沉积率 铁含量
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气体滞留时间对高速沉积的微晶硅薄膜性能的影响分析 被引量:7
7
作者 郭群超 耿新华 +4 位作者 孙建 魏长春 韩晓艳 张晓丹 赵颖 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2007年第5期2790-2795,共6页
实现高速沉积对于薄膜微晶硅太阳电池产业化降低成本是一个重要手段.采用超高频等离子体增强化学气相沉积(VHF-PECVD)技术,实现了微晶硅硅薄膜的高速沉积,并通过改变气体总流量改变气体滞留时间,考察了气体滞留时间在化学气相沉积(CVD)... 实现高速沉积对于薄膜微晶硅太阳电池产业化降低成本是一个重要手段.采用超高频等离子体增强化学气相沉积(VHF-PECVD)技术,实现了微晶硅硅薄膜的高速沉积,并通过改变气体总流量改变气体滞留时间,考察了气体滞留时间在化学气相沉积(CVD)过程中对薄膜的生长速率以及光电特性和结构特性的影响.采用沉积速率达到12/s的高速微晶硅工艺制备微晶硅电池,电池效率达到了5.3%. 展开更多
关键词 气体滞留时间 高速沉积 微晶硅 超高频等离子体增强化学气相沉积
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微晶硅p-i-n薄膜太阳电池研究进展 被引量:5
8
作者 李新利 卢景霄 李瑞 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第5期746-750,共5页
相对于单晶硅和非晶硅来说,微晶硅薄膜太阳电池具有更多的优势。高速沉积高效微晶硅太阳电池已经成为当前研究的热点。综合介绍了微晶硅p-i-n太阳电池的结构以及基本原理、研究现状和存在的问题,并对其发展前景进行了展望。
关键词 太阳能电池 微晶硅 高速沉积
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大电流密度MAG焊接试验研究 被引量:1
9
作者 周昀 包晔峰 +1 位作者 楼松年 吴毅雄 《电焊机》 2003年第3期7-8,12,共3页
以导电嘴至工件的距离、焊接速度、气体流量、送丝速度为因素对大电流密度(大于442A/mm2)MAG焊接进行了正交实验研究,为开发实用的大电流密度MAG焊接工艺提供了参考。
关键词 大电流密度焊接 正交试验 高熔敷率
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高效多丝熔化极气体保护焊(GMAW)工艺的研究现状及进展
10
作者 向婷 方振龙 +3 位作者 李桓 张明瑞 王浩 高莹 《材料热处理学报》 CAS CSCD 北大核心 2024年第5期1-13,共13页
随着全球制造业竞争的日益激烈,我国提出了“中国制造2025”制造强国战略,其重点发展的十大领域中,与焊接技术密切相关的就高达八个,不仅极大地推动了焊接技术的革新发展,而且对焊接效率和质量均提出了更高的要求。由于熔化极气体保护焊... 随着全球制造业竞争的日益激烈,我国提出了“中国制造2025”制造强国战略,其重点发展的十大领域中,与焊接技术密切相关的就高达八个,不仅极大地推动了焊接技术的革新发展,而且对焊接效率和质量均提出了更高的要求。由于熔化极气体保护焊(Gas metal arc welding,GMAW)易于实现自动化焊接,具有生产效率高、焊接质量好及位置适应性好等优点,所以广泛应用于机械制造业中。实现高效GMAW的主要途径有提高焊接速度以及焊接熔敷率。针对以上两种途径,国内外焊接工作者在双丝GMAW的基础上,引入了第三根甚至多根焊丝,研发了各种多丝GMAW工艺。本文针对国内外研发的各类多丝GMAW工艺进行了分析,重点介绍了多丝GMAW工艺的焊接原理、工艺特点及其应用,通过上述分析对各类多丝GMAW工艺进行归纳总结,并进一步展望了多丝焊接的发展方向,即多丝GMAW工艺亟需在电弧物理理论、设备开发和新焊材研发等方面展开深入的研究工作。 展开更多
关键词 高效焊接 多丝气体保护焊工艺 焊接速度 焊接熔敷率
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液态靶材磁控溅射技术研究进展
11
作者 王浪平 孙田玮 《真空与低温》 2024年第5期496-503,共8页
随着先进制造业的迅猛发展,对高性能涂层的需求日益增长。以经济高效的方式沉积高性能涂层成为了科学界研究的热点。液态靶材磁控溅射技术因兼备磁控溅射与蒸镀的优点,受到了研究者的广泛关注。从液态靶材磁控溅射技术的基本原理出发,... 随着先进制造业的迅猛发展,对高性能涂层的需求日益增长。以经济高效的方式沉积高性能涂层成为了科学界研究的热点。液态靶材磁控溅射技术因兼备磁控溅射与蒸镀的优点,受到了研究者的广泛关注。从液态靶材磁控溅射技术的基本原理出发,深入分析了放电过程中的特点与等离子体特性,总结了其特点与优势以及在涂层沉积领域的具体应用,最后指出了该技术当前存在的不足之处,并对其未来的发展趋势进行了展望。 展开更多
关键词 磁控溅射 液态靶材 薄膜制备 等离子体特性 放电特性 蒸发 高沉积速率
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原子层沉积技术原理及在航天领域的应用现状 被引量:3
12
作者 高恒蛟 熊玉卿 +3 位作者 张文台 张凯锋 曹生珠 成功 《真空科学与技术学报》 CAS CSCD 北大核心 2022年第4期237-243,共7页
原子层沉积(ALD)是一种高精度涂层制备的技术,薄膜膜厚可以实现原子水平的生长。该技术在薄膜厚度的控制、膜厚均匀性、复杂形状构件的覆盖程度等方面具有很大的优势,被认为是制备高致密度涂层非常有效的方法。本文通过对原子层沉积技... 原子层沉积(ALD)是一种高精度涂层制备的技术,薄膜膜厚可以实现原子水平的生长。该技术在薄膜厚度的控制、膜厚均匀性、复杂形状构件的覆盖程度等方面具有很大的优势,被认为是制备高致密度涂层非常有效的方法。本文通过对原子层沉积技术特征、关键技术问题和原子层沉积技术在航天相关领域应用的最新动态进行综述。针对原子层沉积技术反应温度窗口的确定和提高沉积速率两项关键技术,提出分别采用基于第一性原理的理论研究方法和空间原子层沉积技术(SALD)的技术路径,为原子层沉积技术在航天领域进一步发展和应用方向提供思路。 展开更多
关键词 原子层沉积 涂层厚度 高致密度 温度窗口 沉积速率
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高磷化学镀镍磷合金工艺优化 被引量:3
13
作者 李雨 杨晨 刘定富 《电镀与涂饰》 CAS CSCD 北大核心 2014年第23期1024-1026,共3页
采用正交试验对化学镀镍–磷合金镀液的添加剂进行优化。基础镀液组成和工艺条件为:NiSO4·6H2O26 g/L,NaH2PO2·H2O 30 g/L,CH3COONa·3H2O 16 g/L,柠檬酸21.5 g/L,88%乳酸5 m L/L,OP-10 5 mg/L,p H 4.80±0.2,温度(88... 采用正交试验对化学镀镍–磷合金镀液的添加剂进行优化。基础镀液组成和工艺条件为:NiSO4·6H2O26 g/L,NaH2PO2·H2O 30 g/L,CH3COONa·3H2O 16 g/L,柠檬酸21.5 g/L,88%乳酸5 m L/L,OP-10 5 mg/L,p H 4.80±0.2,温度(88±2)°C,时间2 h。探讨了添加剂苯骈三氮唑(BAT)、苯并咪唑(BMI)、氨三乙酸(NTA)和硫酸高铈对镀速、镀层光泽度和磷含量的影响。4种添加剂的最优组成为:BAT 1.0 mg/L,BMI 10 mg/L,NTA 0.5 g/L,Ce(SO4)2·4H2O 6 mg/L。采用该组合添加剂进行化学镀Ni–P合金时,镀速为10.92μm/h,镀层光泽度和磷含量分别为225 Gs和12.96%,表面均匀、致密、平整。 展开更多
关键词 镍-磷合金 化学镀 高磷 镀速 光泽度
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电磁场增强多弧离子镀AlTiN涂层抗高温氧化研究 被引量:3
14
作者 许建平 王佳杰 +4 位作者 齐海群 王国星 尹志娟 巩春志 陈晶 《哈尔滨工程大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2021年第5期738-744,共7页
针对不同偏压下电磁场增强多弧离子镀技术制备AlTiN涂层组织结构及涂层抗高温氧化性能的复杂问题,本文利用电磁场增强多弧离子镀技术制备AlTiN涂层,采用SEM和XRD等分析测试方法研究脉冲负偏压对AlTiN涂层微观结构、沉积速率等性能影响规... 针对不同偏压下电磁场增强多弧离子镀技术制备AlTiN涂层组织结构及涂层抗高温氧化性能的复杂问题,本文利用电磁场增强多弧离子镀技术制备AlTiN涂层,采用SEM和XRD等分析测试方法研究脉冲负偏压对AlTiN涂层微观结构、沉积速率等性能影响规律,利用氧化增重方法研究AlTiN抗高温氧化性能。研究结果表明:AlTiN涂层结构致密,AlTiN涂层择优取向生长;涂层沉积速率随着偏压增加而呈现出先增加后降低趋势,最高2.8μm/h;AlTiN涂层晶粒尺寸随着氧化温度的升高而逐渐增加;AlTiN涂层抗氧化温度超过800℃,涂层氧化质量快速增加,900℃氧化后,AlTiN涂层表现出细腻表面形貌;AlTiN涂层氧化后出现致密结构的Al_(2)O_(3)物相。 展开更多
关键词 多弧离子镀 AlTiN 高温氧化 涂层 偏压 沉积速率
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R-264高密度重整催化剂的工业应用 被引量:3
15
作者 纪传佳 《炼油技术与工程》 CAS 2019年第10期46-49,共4页
介绍美国环球油品公司(UOP)研制的R-264高密度连续重整催化剂开工初期应用、再生单元操作参数调整情况,以及催化剂密度增加后引起待生催化剂积炭量提高、Chlorsorb氯吸附区出口温度增加的主要原因和解决措施。工业应用结果表明:R-264催... 介绍美国环球油品公司(UOP)研制的R-264高密度连续重整催化剂开工初期应用、再生单元操作参数调整情况,以及催化剂密度增加后引起待生催化剂积炭量提高、Chlorsorb氯吸附区出口温度增加的主要原因和解决措施。工业应用结果表明:R-264催化剂具有较好的活性、选择性和催化剂强度,与原R-234重整催化剂相比,R-264重整催化剂芳烃产率增加1.59百分点,C+5收率增加0.5百分点,纯氢产率增加0.2百分点,催化剂粉尘量减少1.5 kg/d。在再生单元烧焦能力足够的前提下,R-264重整催化剂能满足扩能改造装置或反应加热炉提负荷存在瓶颈装置的换剂需求。 展开更多
关键词 连续重整 高密度 催化剂 R-264 芳烃产率 积炭速率
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单电源双细丝并联埋弧焊接工艺应用探讨 被引量:2
16
作者 赵波 付彦宏 +3 位作者 王旭 杨玮玮 杜瑞颖 王保华 《焊管》 2015年第6期38-42,共5页
针对多丝埋弧焊固有的焊接线能量大,容易导致焊缝及热影响区组织和力学性能恶化,造成粗晶区和临界粗晶区粗化、脆化以及X80以上高钢级管线钢热影响区软化问题,通过对单电源双细丝并联埋弧焊接工艺的分析探讨,认为将该工艺合理地应用于... 针对多丝埋弧焊固有的焊接线能量大,容易导致焊缝及热影响区组织和力学性能恶化,造成粗晶区和临界粗晶区粗化、脆化以及X80以上高钢级管线钢热影响区软化问题,通过对单电源双细丝并联埋弧焊接工艺的分析探讨,认为将该工艺合理地应用于多丝埋弧焊生产中,可以进一步提高焊丝熔敷速度、焊接速度,尤其是可以显著降低焊接线能量,对于改善焊缝及热影响区的热循环过程、细化晶粒、强韧性具有重要意义。 展开更多
关键词 焊接 单电源双丝并联 高熔敷率 低线能量 多丝埋弧焊
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改进的热裂解法制备高纯钛的研究 被引量:1
17
作者 佘顺利 孙克萍 +1 位作者 王克功 陈肖虎 《有色金属(冶炼部分)》 CAS 北大核心 2010年第6期26-29,共4页
对传统的以高价钛卤盐(TiI4)热裂解制备高纯钛的实验方法进行了改进,使用了低价钛卤盐(TiI2)的热裂解法制备4N高纯钛,使得卤化源区温度、热裂解区(又称沉积区)温度更为优越。并对卤化源区及沉积区温度、高价卤化物的生成、原料中杂质行... 对传统的以高价钛卤盐(TiI4)热裂解制备高纯钛的实验方法进行了改进,使用了低价钛卤盐(TiI2)的热裂解法制备4N高纯钛,使得卤化源区温度、热裂解区(又称沉积区)温度更为优越。并对卤化源区及沉积区温度、高价卤化物的生成、原料中杂质行为以及沉积区低价碘化物的蒸汽压等影响钛沉积速率的因素进行了分析。结果表明:炉内两区温度更易于控制,且可使钛卤盐保持较高的蒸汽压与转移速度,可以有效抑制部分杂质卤化物的转移分解,从而得到制备高纯钛较为理想的沉积速率。 展开更多
关键词 高纯钛 热裂解 沉积速率
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碘化法制备高纯金属钛 被引量:1
18
作者 胡志方 江洪林 +2 位作者 徐栋 崔岩 尹延西 《钢铁钒钛》 CAS 北大核心 2018年第5期1-4,共4页
以工业海绵钛为原料,研究了海绵钛碘化提纯过程中原料温度和K值对沉积速率的影响。结果表明,当K值一定时,沉积速率先随原料温度的升高而增加,而当原料温度大于600℃时,随原料温度升高沉积速率增速明显变缓。当原料温度一定时,沉积速率随... 以工业海绵钛为原料,研究了海绵钛碘化提纯过程中原料温度和K值对沉积速率的影响。结果表明,当K值一定时,沉积速率先随原料温度的升高而增加,而当原料温度大于600℃时,随原料温度升高沉积速率增速明显变缓。当原料温度一定时,沉积速率随K值的升高而增加。在原料温度600℃,K值80的工艺条件下,进行了多批次试验,结果表明,结晶棒直径可达23~26 mm,总收率约98%,所得可锻性高纯金属钛结晶棒产品晶粒粗大,表面光亮,沉积速率达到30 g/(h·m)左右,生产效率较高。同时,钛提纯效果显著,纯度达到4N级以上。 展开更多
关键词 高纯钛 海绵钛 碘化法 沉积速率 结晶棒 提纯
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基于柱状电弧靶的高沉积率真空多弧离子镀装备设计
19
作者 董小虹 卢泽坚 +1 位作者 常玉敏 万庆海 《机电工程技术》 2023年第11期266-268,308,共4页
涡轮涡扇发动机叶片、汽轮机叶片、压铸模具、轴承等零件的耐磨和耐热性能都需要50~100μm的耐热和耐磨涂层,而目前国内真空电弧离子镀设备的沉积效率一般在4~8μm/h,无法满足一次50μm以上的涂层要求。介绍一种特殊设计的柱状电弧靶,... 涡轮涡扇发动机叶片、汽轮机叶片、压铸模具、轴承等零件的耐磨和耐热性能都需要50~100μm的耐热和耐磨涂层,而目前国内真空电弧离子镀设备的沉积效率一般在4~8μm/h,无法满足一次50μm以上的涂层要求。介绍一种特殊设计的柱状电弧靶,两端连接到高电压大电流的弧电源上,通过PLC控制系统反复进行正负极输入切换改变作用在柱状阴极靶靶面的电磁场方向,使处于靶面的弧斑沿着柱状靶面作向上或向下螺旋运动,从而形成弧斑在柱状阴极靶的靶面作上下反复螺旋运动,使阴极靶面上的材料高速离化,并通过工件与炉壳之间的偏压将靶材形成的等离子体引向工件表面,形成工件表面快速循环沉积结构,使工件表面最终快速的获得厚涂层,同时极大提高了靶材利用率,从而节约成本。该装置可在复杂的零件表面快速一次性沉积形成高效率(15~20μm/h)、低成本、高性能的较厚涂层,涂层厚度可达50~100μm。该厚涂层性能能够满足飞机发动机叶片、汽轮机叶片、压铸模具、轴承等零件的耐磨和耐热性能要求。 展开更多
关键词 柱状电弧靶 高沉积率 真空多弧离子镀装备
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大面积纳米硅基薄膜太阳电池及制造设备的开发 被引量:1
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作者 蓝仕虎 赵辉 +10 位作者 杨娜 曲铭浩 胡安红 张迎春 赵颖 张晓丹 汪涛 樊正海 王建强 张津岩 徐希翔 《太阳能学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2015年第5期1268-1273,共6页
该文工作主要集中在用于制备非晶硅和纳米硅薄膜太阳电池的多腔室、大面积等离子体沉积系统的研发。在制备工艺方面,系统研究沉积压力、电极间距、射频电源功率等参数对薄膜沉积速率、膜厚的非均匀性、晶化率的影响;在硬件设计方面,对... 该文工作主要集中在用于制备非晶硅和纳米硅薄膜太阳电池的多腔室、大面积等离子体沉积系统的研发。在制备工艺方面,系统研究沉积压力、电极间距、射频电源功率等参数对薄膜沉积速率、膜厚的非均匀性、晶化率的影响;在硬件设计方面,对不同弦高气盒,密封结构气盒和非密封结构气盒进行系统比较,研究对薄膜的非均匀性、沉积速率的影响。通过工艺参数及硬件优化,最终得到沉积速率接近5?/s、晶化率约为60%、晶化率及膜厚的非均匀性均小于10%的纳米硅薄膜。以此膜层制备技术为基础,在1.1 m×1.4 m面积的透明导电玻璃基板上制备出初始功率为154.97 W(全面积转换效率10.1%)的非晶硅/纳米硅双结叠层太阳电池。 展开更多
关键词 薄膜太阳电池 纳米硅薄膜 大面积均匀性 高沉积速率 气盒
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