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硬磁盘基片研磨的运动分析 被引量：3
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作者 冯连东 吕玉山 哈兰涛 《沈阳工业学院学报》 2004年第4期14-18,共5页
分析了在硬磁盘基片研磨过程中的运动状况.建立了行星式研磨机的运动学模型.基于这个模型利用蒙特卡罗法分别对磨料切削轨迹、切痕方向的变化、基片表面的瞬态速度场和平均相对速度场等进行了数值模拟,并根据模拟结果研究讨论了在研磨... 分析了在硬磁盘基片研磨过程中的运动状况.建立了行星式研磨机的运动学模型.基于这个模型利用蒙特卡罗法分别对磨料切削轨迹、切痕方向的变化、基片表面的瞬态速度场和平均相对速度场等进行了数值模拟,并根据模拟结果研究讨论了在研磨中运动参量对基片表面的材料去除率(MRR)的分布均匀性、表面纹理和其它的质量因素等的影响规律. 展开更多
关键词 硬盘 基片 运动分析 去除率 磁头 计算机设备
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