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磁控溅射类石墨镀层结构的Raman光谱和XPS分析 被引量：6
1
作者 严少平 蒋百灵 +1 位作者 苏阳 张永宏 《西安理工大学学报》 CAS 2008年第1期8-12,共5页
利用非平衡磁控溅射离子镀技术在单晶硅片上沉积了类石墨碳镀层，采用X射线衍射（XRD）、激光Raman光谱和X射线光电子能谱（XPS）等分析方法对镀层的微观结构进行了研究。结果表明：不同成份类石墨碳镀层的Raman光谱与宽化的多晶石墨Ra... 利用非平衡磁控溅射离子镀技术在单晶硅片上沉积了类石墨碳镀层，采用X射线衍射（XRD）、激光Raman光谱和X射线光电子能谱（XPS）等分析方法对镀层的微观结构进行了研究。结果表明：不同成份类石墨碳镀层的Raman光谱与宽化的多晶石墨Raman光谱相似，类石墨碳镀层是以sp。键结构为主，且舍有多种纳米团簇颗粒的非晶镀层，sp^3键含量在12～15％范围；根据高斯解谱计算，镀层中碳团簇线度为1．2nm以下，并随铬含量增高而减小；镀层主要由单质碳、铬及其铬氧化物组成，并随铬含量增高，逐步有碳铬化合物形成。 展开更多
关键词 非平衡磁控溅射 类石墨碳镀层 微结构 RAMAN光谱 X射线光电子能谱
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Cr含量对掺铬类石墨镀层摩擦学性能的影响 被引量：5
2
作者 严少平 蒋百灵 段冰 《金属热处理》 CAS CSCD 北大核心 2008年第5期48-52,共5页
采用4靶非平衡磁控溅射离子镀技术,在高速钢和硅基体上制备出不同Cr含量的掺铬类石墨镀层,研究了类石墨镀层的显微硬度、摩擦系数和比磨损率,分析了Cr含量对镀层的表面、断面形貌及微观结构的影响。结果表明,随Cr含量的增加,类石墨镀层... 采用4靶非平衡磁控溅射离子镀技术,在高速钢和硅基体上制备出不同Cr含量的掺铬类石墨镀层,研究了类石墨镀层的显微硬度、摩擦系数和比磨损率,分析了Cr含量对镀层的表面、断面形貌及微观结构的影响。结果表明,随Cr含量的增加,类石墨镀层硬度逐渐降低;摩擦系数和比磨损率先降后升;镀层由非晶逐步变成有择优生长趋势的纳米晶与非晶混合多层结构。当Cr含量在2wt%~10wt%时,镀层表面光滑而结构致密,镀层C、Cr成分均匀分布,硬度为19.8~21.4GPa,最小的摩擦系数为0.045和最低比磨损率1.32×10-16m3/N.m,具有良好的减摩耐磨性能。 展开更多
关键词 类石墨镀层 摩擦学性能 非平衡磁控溅射 结构
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不同润滑环境下石蜡浸润类石墨复合膜的摩擦特性 被引量：1
3
作者 宇文江涛 陈喜锋 +1 位作者 王伟 陈分宏 《热加工工艺》 CSCD 北大核心 2014年第24期110-113,117,共5页
采用非平衡闭合磁控溅射技术在渗碳淬火基体上制备了类石墨复合膜,对该膜的表面进行了石蜡浸润处理,用POD销-盘磨损仪研究了石蜡浸润类石墨复合膜在不同润滑条件下同质对磨的摩擦学特性。研究表明,石蜡浸润处理能有效改善不同环境和工... 采用非平衡闭合磁控溅射技术在渗碳淬火基体上制备了类石墨复合膜,对该膜的表面进行了石蜡浸润处理,用POD销-盘磨损仪研究了石蜡浸润类石墨复合膜在不同润滑条件下同质对磨的摩擦学特性。研究表明,石蜡浸润处理能有效改善不同环境和工况下类石墨复合的膜摩擦特性,特别适合高速油润滑环境。 展开更多
关键词 类石墨复合膜 非平衡闭合磁控溅射 石蜡浸润 渗碳淬火 摩擦学特性 原子力显微镜
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低温热处理对Graphit-iC类石墨碳膜组织结构及耐磨性的影响 被引量：2
4
作者 李潇 施雯 +2 位作者 苑俊峰 张健 陈智勇 《上海金属》 CAS 北大核心 2012年第4期29-32,共4页
应用拉曼光谱(Raman)等测试方法分析了不同热处理温度对PVD技术制备的Graphit-iC类石墨碳膜涂层的组织结构、显微硬度、结合强度和磨损率的影响规律。结果表明:随温度升高,涂层发生sp3→sp2结构转变,相对强度比I_D/I_G增加,石墨化倾向增... 应用拉曼光谱(Raman)等测试方法分析了不同热处理温度对PVD技术制备的Graphit-iC类石墨碳膜涂层的组织结构、显微硬度、结合强度和磨损率的影响规律。结果表明:随温度升高,涂层发生sp3→sp2结构转变,相对强度比I_D/I_G增加,石墨化倾向增大;涂层磨损率在25～250℃温度区间内保持较低的水平,当温度继续上升后表面显微硬度及结合力降低,磨损率显著增大,耐磨性降低。 展开更多
关键词 graphit-iC 类石墨碳膜 低温热处理 微观结构 耐磨性
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真空退火温度对掺铬类石墨镀层微观组织结构的影响
5
作者 时惠英 李洪涛 蒋百灵 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第4期1143-1147,共5页
采用闭合场非平衡磁控溅射离子镀设备于单晶硅基体上制备了掺铬类石墨镀层,并利用X射线衍射仪(XRD)和透射电子显微镜(TEM)对真空退火处理前、后掺铬类石墨镀层的物相和微观组织结构演变规律进行了详细分析。研究结果表明:当真空退火温... 采用闭合场非平衡磁控溅射离子镀设备于单晶硅基体上制备了掺铬类石墨镀层,并利用X射线衍射仪(XRD)和透射电子显微镜(TEM)对真空退火处理前、后掺铬类石墨镀层的物相和微观组织结构演变规律进行了详细分析。研究结果表明:当真空退火温度达到500℃以上时,在掺铬类石墨镀层的C/Cr工作层中会相继出现Cr3C2、Cr23C6甚至微晶石墨等晶体;在掺铬类石墨镀层的真空退火过程中,Cr3C2碳化物相较Cr23C6碳化物相更容易于Cr原子弥散掺杂的非晶石墨层中析出,且Cr3C2碳化物相倾向于在C/Cr工作层中Cr原子浓度大的区域析出;Cr3C2和Cr23C6等碳化物相的析出对Cr原子浓度的依赖性逐渐减弱。 展开更多
关键词 真空退火 掺铬类石墨镀层 微观组织结构
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