期刊文献+
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
共找到1篇文章
< 1 >
每页显示 20 50 100
已选择0条
导出题录 引用分析
参考文献
引证文献
 统计分析
检索结果
已选文献
显示方式：
端基为磺酸基的希夫碱型侧链聚硅氧烷液晶的合成及表征 被引量：3
1
作者 孙中战 高建峰 +2 位作者 周光强 杨丽娜 周艳明 《化工新型材料》 CAS CSCD 北大核心 2011年第5期56-58,共3页
首先以对羟基苯甲醛、对氨基苯磺酸合成希夫碱化合物;然后将对羟基苯甲酸、氯乙醇、丙烯酸、含氢硅油通过取代、酯化、硅氢化反应合成聚硅氧烷化合物;聚合物再经过酰化反应后,与希夫碱发生酚解反应合成了目标液晶。通过红外光谱对液晶... 首先以对羟基苯甲醛、对氨基苯磺酸合成希夫碱化合物;然后将对羟基苯甲酸、氯乙醇、丙烯酸、含氢硅油通过取代、酯化、硅氢化反应合成聚硅氧烷化合物;聚合物再经过酰化反应后,与希夫碱发生酚解反应合成了目标液晶。通过红外光谱对液晶化合物的结构进行表征,并利用偏光显微镜和DSC测试目标产物的液晶性能。结果表明：此液晶具有近晶A型液晶特性,液晶相变化范围为135.39~198.58℃,液晶范围宽,为特殊功能材料提供了研究范围;同时,在液晶合成与制备方面也优化了合成路线。 展开更多
关键词 希夫碱 聚硅氧烷 柔性连接基 扇形织构 近晶A
下载PDF
已选择0条
导出题录 引用分析
参考文献
引证文献
 统计分析
检索结果
已选文献
上一页 1 下一页 到第 页
使用帮助 返回顶部