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变角度3~5μm红外消偏振增透膜的设计 被引量:5
1
作者 高晓丹 《激光与光电子学进展》 CSCD 北大核心 2013年第3期187-190,共4页
基于红外探测器对红外增透膜的变角度使用需求,分析了入射角度改变对薄膜偏振效应的影响。通常会采用各种措施来减小这种偏振效应的影响,但基本上只能在单一入射角度较窄波段范围内实现消偏振。根据设计要求在所设计的初始膜系的基础上... 基于红外探测器对红外增透膜的变角度使用需求,分析了入射角度改变对薄膜偏振效应的影响。通常会采用各种措施来减小这种偏振效应的影响,但基本上只能在单一入射角度较窄波段范围内实现消偏振。根据设计要求在所设计的初始膜系的基础上,运用TFCalc膜系设计软件采用梯度法和Needle法综合优化设计了3~5μm宽波段红外增透膜。分析了该设计膜系在入射角为0°~60°的范围内所对应的p偏振光和s偏振光的透射光谱曲线,并模拟了膜厚改变2%对设计膜系透射率曲线的影响,实现了宽角度宽波段红外消偏振增透膜的设计。 展开更多
关键词 薄膜 增透膜 消偏振 膜系 优化设计
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基于λ/4膜系的全角度反射镜 被引量:3
2
作者 武东升 刘旭 李海峰 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第3期360-362,共3页
本文介绍了一种用 λ/4膜系设计特定波长范围内的全偏振全角度反射镜的方法 ,给出了反射带中心波长、边缘波长及带宽的表达式 ,并对如何避免 Brewster窗作了定量分析 .
关键词 λ/4膜系 全角度反射镜 Brewster窗 反射带 设计方法
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一种用于Yb:YAG激光器的波长分离膜的研制 被引量:2
3
作者 张伟丽 黄建兵 +3 位作者 赵元安 邵建达 范瑞瑛 范正修 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第B04期167-170,共4页
以1 030 nm高反,940,980 nm高透的波长分离膜作为实例,为提高该薄膜元件的波长分离效果,从膜系的优化方面做了一系列的研究,诸如采用带通滤光片的设计思想,在膜堆两侧加入了匹配层,调整膜堆的周期厚度,并用膜系设计软件对通带作进一步... 以1 030 nm高反,940,980 nm高透的波长分离膜作为实例,为提高该薄膜元件的波长分离效果,从膜系的优化方面做了一系列的研究,诸如采用带通滤光片的设计思想,在膜堆两侧加入了匹配层,调整膜堆的周期厚度,并用膜系设计软件对通带作进一步的优化。通过这一系列的优化设计后,利用RF双离子束溅射工艺在BK7玻璃基底上沉积样品薄膜,并在基底背面加镀通带增透膜。结果显示,透射带在940 和980 nm处的透过率分别为97.73%和93.63%,反射带在1 030 nm的反射率为99.99%。对所制备的样品薄膜进行了激光损伤阈值测量,得到了35 J/cm2(1 064 nm,12 ns)的结果。 展开更多
关键词 波长分离膜 损伤阈值 膜系 YB:YAG激光器
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锗硅外延工艺优化对28nm PMOS器件性能的改善 被引量:1
4
作者 李帅 蔡小五 隋振超 《微电子学与计算机》 北大核心 2020年第5期28-32,共5页
在28 nm CMOS技术节点,锗硅技术在器件沟道产生压应力可以提高PMOS电学性能.在选择性锗硅外延工艺基础上对锗含量进行细化阶梯分布,此阶梯式分布能避免因锗含量过高产生位错而进一步提高总体应力效果.通过研究发现,薄膜堆叠层的厚度和... 在28 nm CMOS技术节点,锗硅技术在器件沟道产生压应力可以提高PMOS电学性能.在选择性锗硅外延工艺基础上对锗含量进行细化阶梯分布,此阶梯式分布能避免因锗含量过高产生位错而进一步提高总体应力效果.通过研究发现,薄膜堆叠层的厚度和锗元素浓度是影响器件性能的重要因素,实验对堆叠层厚度和锗浓度同时改变比单独改变一种影响因素获得的器件性能更好,器件的饱和电流和漏电流的性能(Idsat-Ioff)可以提高7%,同时,器件阈值电压和饱和电流的性能(Vtsat-Idsat)、器件阈值电压和漏电流(Vtsat-Ioff)性能、漏致势垒降低(DIBL)效应也有相应的改善. 展开更多
关键词 锗硅外延 薄膜堆叠层 器件性能 PMOS器件
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残膜捡拾压缩车及其作业工艺设计与试验 被引量:8
5
作者 刘进宝 郑炫 +3 位作者 赵岩 陈学庚 刘兴爱 葛士林 《农业工程学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2017年第19期17-26,共10页
为解决残膜回收时捡拾率低、机具集膜箱存储量小、机械化作业过程不连续等问题,研制了一种棉田残膜捡拾压缩车,该机主要由清杂机构、捡膜机构、脱膜输送机构、压缩机构等组成,可同时完成残膜杂质分离、残膜捡拾、脱膜输送和压缩作业。... 为解决残膜回收时捡拾率低、机具集膜箱存储量小、机械化作业过程不连续等问题,研制了一种棉田残膜捡拾压缩车,该机主要由清杂机构、捡膜机构、脱膜输送机构、压缩机构等组成,可同时完成残膜杂质分离、残膜捡拾、脱膜输送和压缩作业。通过对样机关键作业部件的设计,确定了清杂辊、捡膜机构和脱膜输送装置的结构及工作参数,并分析了机具作业过程。样机分别在3种残膜分段回收工艺:搂集—捡压、秸秆还田—搂集—捡压、秸秆还田—捡压中进行试验,田间试验表明,机具作业速度在5~7 km/h,清杂辊转速为240 r/min,捡膜机构转速为90 r/min,脱膜辊转速为1 000 r/min时,在回收工艺一搂膜距离≤40 m,回收工艺二搂膜距离≤60 m时,膜堆残膜捡拾率大于80%,清杂率大于78%;在回收工艺三中,棉杆残留根茬高度≤80 mm时,未集堆地表残膜捡拾率达到88.21%,机具缠膜率小于2%,机具可一次性捡拾压缩回收8 hm^2田间残膜。 展开更多
关键词 农业机械 设计 试验 残膜 回收工艺 清理杂质 膜堆捡拾 液压压缩
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宽截止窄带高反射滤光膜设计 被引量:7
6
作者 彭东功 吴永刚 +4 位作者 焦宏飞 曹鸿 王振华 付联效 郑秀萍 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第5期1001-1006,共6页
窄带高反射滤光膜在光通讯、光学探测仪器等领域有着重要应用。探讨了"基片│H(LH)m1αL(HL)m2βCrM│空气"膜系结构的窄带高反射滤光膜系,讨论了金属Cr层厚度,以及两种不同的匹配膜系对滤光膜特性的影响,计算了Cr层内部的电... 窄带高反射滤光膜在光通讯、光学探测仪器等领域有着重要应用。探讨了"基片│H(LH)m1αL(HL)m2βCrM│空气"膜系结构的窄带高反射滤光膜系,讨论了金属Cr层厚度,以及两种不同的匹配膜系对滤光膜特性的影响,计算了Cr层内部的电场分布。结果表明,较厚的金属层可实现更宽的截止带宽,匹配层的加入有效地实现了宽截止带的深截止,使中心波长处导纳为较大值的匹配膜系可以更好地实现滤光膜宽截止、窄带高反射特性;匹配膜层使中心波长处Cr层内部的电场强度趋于零,有效地降低了整个膜系的吸收,提高了反射率。 展开更多
关键词 薄膜光学 窄带反射滤光膜 非对称法布里-珀罗结构 导纳 匹配膜系 超薄金属
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一维光子晶体及其应用 被引量:7
7
作者 武东升 顾培夫 +1 位作者 刘旭 李海峰 《激光与光电子学进展》 CSCD 2001年第12期1-6,共6页
介绍一维光子晶体的概念和基本原理 ,并以 Na3 Al F6/ Zn Se膜系为例介绍了国内外在一维光子晶体制备和特性测试上所取得的进展。
关键词 一维光子晶体 高反膜系 全角度反射 掺杂 金属材料 光子禁带
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脉宽压缩光栅用多层膜制备和性能测试 被引量:8
8
作者 孔伟金 沈健 +2 位作者 沈自才 邵建达 范正修 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第1期84-88,共5页
给出了以413nm作为写入波长,1053nm作为使用波长的多层介质光栅膜的设计,计算表明膜系H3L(H2L)^9H0.5L2.03H满足光栅膜的要求·最后给出了制备得到的样品光学特性测试,结果表明在使用波长和曝光波长处满足设计要求,其抗激光损伤阈... 给出了以413nm作为写入波长,1053nm作为使用波长的多层介质光栅膜的设计,计算表明膜系H3L(H2L)^9H0.5L2.03H满足光栅膜的要求·最后给出了制备得到的样品光学特性测试,结果表明在使用波长和曝光波长处满足设计要求,其抗激光损伤阈值在光正入射和51.2°入射时分别为14.14J/cm2和9.32J/cm2,膜系的应力表现为压应力· 展开更多
关键词 多层电介质光栅 膜系设 性能分析
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基于基因荧光检测的长波通滤光片研制
9
作者 林亦心 董新康 +4 位作者 杨宁 辛亚武 祝晗 彭永超 熊仕富 《光电技术应用》 2024年第3期36-41,共6页
光学滤光片是滤去杂质光干扰的重要光学器件,不同波段的滤光片在基因检测得到广泛应用。基于膜系设计理论与薄膜制备工艺,利用电子束蒸发离子辅助沉积技术,以Ta_(2)O_(5)和SiO_(2)为镀膜材料,在JGS1基底玻璃上设计并制备了一种截止中心... 光学滤光片是滤去杂质光干扰的重要光学器件,不同波段的滤光片在基因检测得到广泛应用。基于膜系设计理论与薄膜制备工艺,利用电子束蒸发离子辅助沉积技术,以Ta_(2)O_(5)和SiO_(2)为镀膜材料,在JGS1基底玻璃上设计并制备了一种截止中心λ_(0)=520 nm的高反射,透射带λ为530~750 nm的高透射长波通滤光片。通过分析膜层敏感度和电场分布,设置合理的晶控方案,调整工艺参数,避免监控高敏感膜层时石英晶控灵敏度下降,解决光谱透过率降低的问题。研制的滤光片在520 nm处反射率为99.77%,在530~750 nm波段平均透过率为98.58%,可满足应用需求。 展开更多
关键词 光学薄膜 长波通滤光片 膜堆周期 离子辅助沉积
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分色滤光片的实现及基本工艺 被引量:3
10
作者 弥谦 刘卫国 +1 位作者 韩军 强西林 《西安工业学院学报》 1997年第2期117-120,共4页
利用截止滤光片可以实现分色目的,而通过合理设计膜系参数,带通滤光片也可达到类似目的.本文对用于分色的截止和带通滤光片的特点作了对比;并讨论了要从工艺上实现这两类膜系需要解决的基本问题.
关键词 截止滤光片 带通 滤光片 分色片 膜系允差
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几种高反膜设计新方法 被引量:2
11
作者 干蜀毅 刘正坤 +5 位作者 徐向东 洪义麟 刘颍 周洪军 霍同林 付绍军 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第6期547-552,共6页
现代科技的发展对增反膜提出的要求越来越高,具体表现在两个方面:一是要求在现有基础上进一步提高反射率,拓宽高反膜带宽,二是将高反膜的波长向短波方向延伸至真空紫外-x射线。本文总结了近年来出现的一些思路独特的增反膜设计新方... 现代科技的发展对增反膜提出的要求越来越高,具体表现在两个方面:一是要求在现有基础上进一步提高反射率,拓宽高反膜带宽,二是将高反膜的波长向短波方向延伸至真空紫外-x射线。本文总结了近年来出现的一些思路独特的增反膜设计新方法,包括Needle设计法、Staggered broad-band reflecting muhilayers法、Sub-quarterwave multilayers法、Layered synthetic microstructure/quasi-periodic multilayers法、Layer by layer法、带阻挡层的Layer by layer法及Wide range multilayer设计法。给出了这些设计方法的思路,以真空紫外-X射线反射膜为侧重点。对增反膜设计、制作过程中尚存的一些重大问题也进行了阐述。 展开更多
关键词 反射膜 高反膜 膜系设计 真空紫外 X射线
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高数值孔径光学光刻成像中的体效应 被引量:3
12
作者 周远 李艳秋 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第6期1091-1095,共5页
为有效控制成像线宽,研究了高数值孔径光学光刻中的体效应并提出一种光刻胶膜层优化方法,利用成像中的摇摆效应平衡体效应对成像线宽的影响。首先根据系统数值孔径和照明相干因子确定成像光入射角分布,相对所有入射光求出光刻胶底面单... 为有效控制成像线宽,研究了高数值孔径光学光刻中的体效应并提出一种光刻胶膜层优化方法,利用成像中的摇摆效应平衡体效应对成像线宽的影响。首先根据系统数值孔径和照明相干因子确定成像光入射角分布,相对所有入射光求出光刻胶底面单位体积吸收的能量平均值。然后用最小二乘法拟合得到能量平均值随光刻胶厚度变化的解析式并求能量平均值的导数。最后通过优化光刻胶膜层,使能量平均值的导数绝对值最小。按优化结果设计光刻胶膜层,利用商业光刻软件Prolith9.0得到成像线宽随光刻胶厚度的变化。结果表明,该方法能在3040nm的光刻胶厚度范围,有效地减小由体效应引起的成像线宽的变化。 展开更多
关键词 光刻 体效应 膜层优化 高数值孔径 底层抗反膜
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光纤端面半反膜晶控镀制实践 被引量:1
13
作者 陈建华 《光学仪器》 1999年第4期105-109,共5页
叙述了一个利用石英晶体膜厚控制系统在光纤端面镀制半反射膜的工艺探索过程,包括膜系设计、工艺参数的修正。简要介绍了光控与晶控的特点,以实例证明了特殊情况下低温镀膜的可行性。
关键词 光纤 石英晶控 膜系设计 低温镀膜 半反射膜
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原位氧化硅钝化层对氧化钒薄膜光电特性的影响 被引量:1
14
作者 孔令德 方辉 +5 位作者 魏虹 刘礼 周润生 铁筱滢 杨文运 姬荣斌 《红外技术》 CSCD 北大核心 2015年第4期319-322,共4页
氧化硅(SiOx)原位钝化层对氧化钒(VOx)薄膜电学特性的影响分析旨在改善像元微桥结构的光学吸收特性,提高热敏VOx薄膜层的方阻和电阻温度系数(TCR)稳定性。采用离子束溅射沉积50 nm VOx薄膜后,紧接着沉积30 nm SiOx钝化层。通过原位残余... 氧化硅(SiOx)原位钝化层对氧化钒(VOx)薄膜电学特性的影响分析旨在改善像元微桥结构的光学吸收特性,提高热敏VOx薄膜层的方阻和电阻温度系数(TCR)稳定性。采用离子束溅射沉积50 nm VOx薄膜后,紧接着沉积30 nm SiOx钝化层。通过原位残余气体分析仪(RGA)和衬底温度控制,调节氧化钒薄膜中的氧含量,分析了VOx单层膜、SiOx/VOx双层膜的电学特性随工艺温度的变化规律,原位残余气体分析仪(RGA)和150℃加温工艺提高了VOx热敏层薄膜的方阻和电阻温度系数稳定性。 展开更多
关键词 离子束溅射沉积 SiOx/VOx双层膜 残余气体分析仪(RGA) 电阻温度系数(TCR)
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具有叠层超薄膜结构的高性能有机晶体管氨气传感器
15
作者 陈晗 胡琪 +1 位作者 邱龙臻 王晓鸿 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2021年第6期871-879,共9页
研究了基于给-受体共轭聚合物双(2-氧代二氢吲哚-3-亚基)-苯并二呋喃-二酮和联噻吩(PBIBDF-BT)超薄膜叠层晶体管的电学性能及氨气传感特性。使用相分离方法以及转移-刻蚀步骤制备了不同堆叠层数的PBIBDF-BT超薄膜。系统地研究了PBIBDF-B... 研究了基于给-受体共轭聚合物双(2-氧代二氢吲哚-3-亚基)-苯并二呋喃-二酮和联噻吩(PBIBDF-BT)超薄膜叠层晶体管的电学性能及氨气传感特性。使用相分离方法以及转移-刻蚀步骤制备了不同堆叠层数的PBIBDF-BT超薄膜。系统地研究了PBIBDF-BT超薄膜堆叠层数与器件性能的关系。实验结果表明,单层PBIBDF-BT超薄膜器件对氨气具有良好的传感性能,电学性能较差。超薄膜叠层能够有效提高传感器的电学性能,随着超薄膜叠层数量的增加,器件迁移率不断上升;超薄膜层数增加为3层及更多时迁移率上升趋势变缓,迁移率最大值为0.58 cm^(2)·V^(-1)·s^(-1)。超薄膜叠层器件氨气传感性能在层数为2层后呈现下降趋势。通过PBIBDF-BT超薄膜叠层方法,制备出在1.0×10^(-5)氨气环境下,迁移率为0.23 cm^(2)·V^(-1)·s^(-1)、源漏电流变化百分比为90.7%、性能良好的OFET氨气传感器。 展开更多
关键词 有机超薄膜晶体管 给体-受体共轭聚合物 氨气检测 超薄膜叠层
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一种基于TFF的50GHz平顶型可调谐光滤波器
16
作者 常进 刘文 +2 位作者 曾云 官成钢 丁丽 《光通信研究》 北大核心 2009年第6期42-44,共3页
文章介绍了一种基于薄膜滤光片(TFF)技术的50 GHz通道间隔、平顶型可调谐光滤波器(TOF)的研制。对角度调谐干涉滤光片的原理进行了讨论,同时对超窄带膜系设计进行了优化。研制出的器件样品经过全面测试,实现了40 nm波长范围内96个ITU-T... 文章介绍了一种基于薄膜滤光片(TFF)技术的50 GHz通道间隔、平顶型可调谐光滤波器(TOF)的研制。对角度调谐干涉滤光片的原理进行了讨论,同时对超窄带膜系设计进行了优化。研制出的器件样品经过全面测试,实现了40 nm波长范围内96个ITU-T通道的可选择下路,为智能化的光网络提供了一种低成本、高性能的动态波长选择方案。 展开更多
关键词 角度调谐滤光片 超窄带 膜系设计 平顶
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多层周期性薄膜结构的耦合波方法的研究
17
作者 陈海星 黄弼勤 顾培夫 《光学仪器》 2004年第2期22-26,共5页
在分析耦合波方法与传输矩阵法相互联系的基础上以短波通薄膜滤光片为例,分别计算了正入射和斜入射情况下的修正耦合波方法的计算结果并与一般耦合波法、传输矩阵法计算的结果进行了比较,数值计算的结果表明在入射角度不是太大情况下,... 在分析耦合波方法与传输矩阵法相互联系的基础上以短波通薄膜滤光片为例,分别计算了正入射和斜入射情况下的修正耦合波方法的计算结果并与一般耦合波法、传输矩阵法计算的结果进行了比较,数值计算的结果表明在入射角度不是太大情况下,修正耦合波方法完全可以替代传输矩阵法对多层周期性薄膜结构进行分析和设计。 展开更多
关键词 传输矩阵法 耦合波方程 多层膜堆 滤光片 数值计算
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基于反向耦合模原理光栅的薄膜模型研究
18
作者 余华清 姜向东 《光电工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第12期50-53,共4页
提出了将Round方法与薄膜理论相结合的多层薄膜模型,将光纤光栅看成一多层薄膜体系,每层薄膜用界面传输矩阵和膜层传输矩阵表示,将每层的传输矩阵相乘后得到光栅的总传输矩阵,用它分析了基于反向耦合模原理的各光纤光栅。数值计算结果表... 提出了将Round方法与薄膜理论相结合的多层薄膜模型,将光纤光栅看成一多层薄膜体系,每层薄膜用界面传输矩阵和膜层传输矩阵表示,将每层的传输矩阵相乘后得到光栅的总传输矩阵,用它分析了基于反向耦合模原理的各光纤光栅。数值计算结果表明,该模型计算方法简单,而且和耦合模理论吻合得很好,可以用此模型来分析光纤光栅的各种参数对光栅的影响。 展开更多
关键词 光纤通信 光纤光栅 多层薄膜模型 传输矩阵
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一种自适应交叉率和变异率的薄膜遗传算法
19
作者 李易 冯国英 马孜 《光学与光电技术》 2009年第1期92-96,共5页
在并行移民操作的基础上,根据多层膜系迭代群体中各膜系的适应值信息,对每个膜系采取恰当的、自动适应搜索进程的交叉率和变异率。这样既保护了优良薄膜的设计方案,又能够在适应值整体水平不断提高的设计组群中,持续地产生更优良的薄膜... 在并行移民操作的基础上,根据多层膜系迭代群体中各膜系的适应值信息,对每个膜系采取恰当的、自动适应搜索进程的交叉率和变异率。这样既保护了优良薄膜的设计方案,又能够在适应值整体水平不断提高的设计组群中,持续地产生更优良的薄膜设计结构。对增透膜的设计结果表明,采用提出的自适应遗传算法减小了早熟,提高了算法快速搜索合格膜系结构的能力。 展开更多
关键词 薄膜光学 薄膜设计 移民操作 自适应 交叉变异率
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热电堆传感器及其应用 被引量:3
20
作者 郑国良 《传感器技术》 CSCD 1992年第2期27-30,共4页
从热电偶测温的方法出发,闸述了热电堆传感器的原理。介绍了它在电测与非电测领域中的应用。
关键词 热电转换器 热电堆 传感器 热电偶
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