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模拟退火法在椭偏光谱数值反演中的应用 被引量：9
1
作者 阳生红 余招贤 +2 位作者 李辉遒 张曰理 莫党 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2000年第5期338-342,共5页
将模拟退火 (SA)法应用于椭偏光谱数值反演 ,以达到同时得到介质薄膜的厚度和光学常数谱 ,并对 SA算法作了说明和改进 .作为应用实例 ,计算了 Si衬底上的 Si O2 薄膜和 Ba0 .9Sr0 .1 Ti O3(BST)铁电薄膜的膜厚及光学常数谱 ,同时讨论了... 将模拟退火 (SA)法应用于椭偏光谱数值反演 ,以达到同时得到介质薄膜的厚度和光学常数谱 ,并对 SA算法作了说明和改进 .作为应用实例 ,计算了 Si衬底上的 Si O2 薄膜和 Ba0 .9Sr0 .1 Ti O3(BST)铁电薄膜的膜厚及光学常数谱 ,同时讨论了椭偏参数ψ和Δ随膜厚及折射率变化的灵敏度 . 展开更多
关键词 模拟退火法 椭偏光谱 数值反演 薄膜光学性质
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红外偏振效应和偏振遥感研究进展 被引量：6
2
作者 褚君浩 胡志高 《遥感学报》 EI CSCD 北大核心 2018年第6期926-934,共9页
光的偏振信息在当前快速发展的光电子学和光学研究中是缺失的,利用偏振特征不仅可以提取探测物和研究对象的额外信息,而且延伸了探测的维度和提高了灵敏度。本文主要从基础研究和应用研究两个方面分析讨论红外偏振效应测量技术及红外遥... 光的偏振信息在当前快速发展的光电子学和光学研究中是缺失的,利用偏振特征不仅可以提取探测物和研究对象的额外信息,而且延伸了探测的维度和提高了灵敏度。本文主要从基础研究和应用研究两个方面分析讨论红外偏振效应测量技术及红外遥感的若干进展,期望从不同的角度来考察偏振效应所带来的潜在应用。在上述背景下,本文介绍了红外椭圆偏振光谱技术及其在探测无机和有机薄膜体系光学性质的应用,并且归纳了红外偏振光学仪器理论及相关进展,特别是在空间遥感上的应用潜力。 展开更多
关键词 红外 偏振 椭圆偏振光谱 遥感
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偶氮金属镍薄膜的折射率和吸收特性研究 被引量：4
3
作者 耿永友 顾冬红 干福熹 《中国激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第9期1091-1094,共4页
偶氮金属镍 (Ni(azo) 2 )是一类具有很大潜力的可录光盘存储介质。为了准确地获取一种偶氮金属镍薄膜的光学常数 ,用旋涂法 (Spin- coating)在单晶硅片上制备了 Ni(azo) 2 薄膜。在波长扫描和入射角可变全自动椭圆偏振光谱仪上研究了 Ni... 偶氮金属镍 (Ni(azo) 2 )是一类具有很大潜力的可录光盘存储介质。为了准确地获取一种偶氮金属镍薄膜的光学常数 ,用旋涂法 (Spin- coating)在单晶硅片上制备了 Ni(azo) 2 薄膜。在波长扫描和入射角可变全自动椭圆偏振光谱仪上研究了 Ni(azo) 2 薄膜的椭偏光谱。采用逼近算法获得了 Ni(azo) 2 薄膜在可见光范围内的复折射率、复介电函数、吸收系数和薄膜厚度。分析了 Ni(azo) 2 薄膜可见吸收光谱的形成机理。结果表明在波长 6 5 0 nm处薄膜的折射率为 2 .19,吸收常数为 0 .0 2 3,具有良好的吸收和反射特性 ,显示出作为高密度数字多用光盘 (DVD- R)记录介质的良好应用前景。 展开更多
关键词 薄膜物理学 薄膜光学常数 椭偏光谱 偶氮金属镍螯合物
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酞菁氧钛薄膜光学常数的测量研究 被引量：4
4
作者 于书坤 夏道成 +4 位作者 高强 李万程 程传辉 何为 杜国同 《光电子．激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第9期1210-1213,共4页
使用M-2000UI型宽光谱可变入射角椭偏仪,对在单晶硅片上真空蒸镀的酞菁氧钛(TiOPc)薄膜的光学性质进行了研究。在248～1650nm(0.75～5ev)的范围内分别使用柯西模型、逐点拟合模型、洛伦兹模型和高斯模型对测得的椭偏光谱进行拟合分析,... 使用M-2000UI型宽光谱可变入射角椭偏仪,对在单晶硅片上真空蒸镀的酞菁氧钛(TiOPc)薄膜的光学性质进行了研究。在248～1650nm(0.75～5ev)的范围内分别使用柯西模型、逐点拟合模型、洛伦兹模型和高斯模型对测得的椭偏光谱进行拟合分析,获得了TiOPc薄膜的折射率、消光系数和复介电常数。通过比较,我们发现高斯模型拟合的均方差较小,拟合数据和测试数据重合度好,而且拟合得到的光学常数的图线光滑连续,因此认为高斯模型最适用于描述TiOPc薄膜的光学性质。由高斯模型拟合所得的消光系数推出了TiOPc薄膜的吸收谱,结果发现TiOPc薄膜在紫外可见近红外区有一系列的吸收峰,分析了其电子结构及吸收谱成因,并由吸收谱推算了其光学禁带宽度。 展开更多
关键词 薄膜 光学常数 椭偏光谱 酞菁氧钛 介电常数
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椭偏光谱法研究激光脉冲沉积MgO薄膜材料生长
5
作者 张曰理 莫党 +3 位作者 陈晓原 MAKChee-leng WONGKin-hung CHOYChung-loong 《中山大学学报（自然科学版）》 CAS CSCD 北大核心 2003年第2期18-22,共5页
用激光脉冲沉积技术生长、制备出了一系列不同真空度、不同衬底温度和不同激光脉冲能量的MgO薄膜.对生长、制备出的一系列MgO薄膜进行了椭偏光谱测量研究,在300～800nm光谱波长范围内,得到了不同条件下生长制备的MgO薄膜的光学常数谱和... 用激光脉冲沉积技术生长、制备出了一系列不同真空度、不同衬底温度和不同激光脉冲能量的MgO薄膜.对生长、制备出的一系列MgO薄膜进行了椭偏光谱测量研究,在300～800nm光谱波长范围内,得到了不同条件下生长制备的MgO薄膜的光学常数谱和膜厚,其结果显示:真空度、衬底温度和激光脉冲能量对生长MgO薄膜的折射率、膜厚均有影响,高真空、高衬底温度和适中的激光脉冲能量有利于生长制备高折射率、高密度和高质量的MgO薄膜. 展开更多
关键词 MgO薄膜材料 激光脉冲沉积法 椭偏光谱法 光学常数 膜厚 薄膜生长 铁电薄膜
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PbZr_(0.52)Ti_(0.48)O_3薄膜红外椭圆偏振光谱研究 被引量：2
6
作者 胡志高 赵强 +4 位作者 黄志明 王根水 孟祥建 林铁 褚君浩 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2003年第1期59-62,共4页
用磁控溅射法在Pt/Ti/SiO2 /Si衬底上制备了PbZr0 .52 Ti0 .4 8O3(PZT)薄膜 .XRD结果表明经过退火后的PZT薄膜呈现多晶结构 .通过红外椭圆偏振光谱仪测量了λ为 2 .5～ 12 .6 μm范围内PZT薄膜的椭偏光谱 ,采用经典色散模型拟合获得PZT... 用磁控溅射法在Pt/Ti/SiO2 /Si衬底上制备了PbZr0 .52 Ti0 .4 8O3(PZT)薄膜 .XRD结果表明经过退火后的PZT薄膜呈现多晶结构 .通过红外椭圆偏振光谱仪测量了λ为 2 .5～ 12 .6 μm范围内PZT薄膜的椭偏光谱 ,采用经典色散模型拟合获得PZT薄膜的红外光学常数 ,同时拟合得到未经处理的PZT薄膜和退火后PZT薄膜的厚度分别为 45 4.2nm和 45 0 .3nm .最后通过拟合计算得到结晶PZT薄膜的静态电荷值为 |q|=1.76 9± 0 .0 2 4.这说明在磁控溅射法制备的PZT薄膜中 ,电荷的转移是不完全的 . 展开更多
关键词 PbZr0.52Ti0.48O3薄膜 红外椭圆偏振光谱 光学常数 静态电荷 铁电薄膜 锆钛酸铅
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Bi_(3.25)La_(0.75)Ti_3O_(12)超薄铁电薄膜的光学性质研究 被引量：2
7
作者 胡志高 王根水 +3 位作者 黄志明 孟祥建 石富文 褚君浩 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2003年第4期256-260,共5页
采用化学溶液沉积法在Pt/Ti/SiO2 /Si衬底上制备了厚度小于 10 0nm的Bi3 .2 5La0 .75Ti3 O12 (BLT)铁电薄膜 ,测量了光子能量为 2～ 4 .5eV的紫外可见椭圆偏振光谱 .根据经典的电介质光学色散关系和五相结构模型 ,拟合获得薄膜在透明区... 采用化学溶液沉积法在Pt/Ti/SiO2 /Si衬底上制备了厚度小于 10 0nm的Bi3 .2 5La0 .75Ti3 O12 (BLT)铁电薄膜 ,测量了光子能量为 2～ 4 .5eV的紫外可见椭圆偏振光谱 .根据经典的电介质光学色散关系和五相结构模型 ,拟合获得薄膜在透明区和吸收区的光学常数、表面粗糙度、薄膜与衬底界面层以及BLT薄膜的厚度 .薄膜在透明区的折射率色散关系可以通过单电子Sellmeier模型成功地进行解释 .最后 ,根据Tauc′s法则 ,得到Bi3 .2 5La0 .75Ti3 O12 薄膜的直接禁带宽度为 3.96eV . 展开更多
关键词 椭偏光谱 光学常数 光电材料 禁带宽度 化学溶液沉积法 铁电薄膜 光子能量 光学色散关系 表面粗糙度
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InAs_(0.96)Sb_(0.04)红外薄膜的光学性质研究 被引量：2
8
作者 邓惠勇 方维政 +1 位作者 洪学鹍 戴宁 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2007年第1期5-9,共5页
采用水平滑移石墨舟液相外延生长技术在n型（100）InAs衬底上生长了InAs0．96Sb0．04薄膜．在1．5～5．5eV光子能量范围采用紫外-可见光椭圆偏振光谱仪于室温下测试了其介电函数谱ε（E）．基于电子带间跃迁和联合态密度理论，采用S．Ad... 采用水平滑移石墨舟液相外延生长技术在n型（100）InAs衬底上生长了InAs0．96Sb0．04薄膜．在1．5～5．5eV光子能量范围采用紫外-可见光椭圆偏振光谱仪于室温下测试了其介电函数谱ε（E）．基于电子带间跃迁和联合态密度理论，采用S．Adachi的MDF模型对s（E）进行了拟合，并计算了各种临界点电子跃迁对ε（E）的贡献，结果表明：实验数据与模型吻合得非常好，E1和E1＋△1跃迁发生在布里渊区（BZ）的∧轴或L点，分别对应于M1型临界点∧5^v→∧6^c（或L4.5→L6^c）和∧6^v→∧6^c（或L6^v→L6^c）跃迁；E2跃迁是由于M2型和M2型鞍点能量简并引起的，沿着BZ的∑和△轴方向． 展开更多
关键词 INASSB 光学常数 椭偏光谱 液相外延
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电子辐照对MgAl_2O_4尖晶石光学性质的影响
9
作者 阳生红 张曰理 +1 位作者 莫党 何捷 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第2期228-232,共5页
本文利用1.7 M eV电子辐照MgA l2O4尖晶石后,通过吸收谱测量表明,被电子辐照的尖晶石可产生大量的F型色心缺陷,而且电子的辐照剂量明显地影响尖晶石的光谱特性。随着电子辐照剂量增加,F型色心缺陷的浓度增大;椭偏光谱分析得到的光学常... 本文利用1.7 M eV电子辐照MgA l2O4尖晶石后,通过吸收谱测量表明,被电子辐照的尖晶石可产生大量的F型色心缺陷,而且电子的辐照剂量明显地影响尖晶石的光谱特性。随着电子辐照剂量增加,F型色心缺陷的浓度增大;椭偏光谱分析得到的光学常数谱随电子辐照剂量的变化而改变。我们对上述现象进行了合理的分析。 展开更多
关键词 MgAl2O4尖晶石 电子辐照 吸收谱 F型色心 椭偏光谱
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XeCl激光晶化制备多晶硅薄膜及椭偏谱分析
10
作者 曾祥斌 徐重阳 +3 位作者 戴永斌 王长安 周雪梅 赵伯芳 《半导体光电》 CAS CSCD 北大核心 2000年第4期276-278,共3页
采用新型的两步激光晶化技术在玻璃衬底上制备出性能良好的多晶硅薄膜 ,并制作了多晶硅薄膜晶体管 ,其迁移率为 10 3cm2 /V·s ,开关态电流比为 1× 10 7。采用椭偏光谱法分析了薄膜的结构 ,并提出多层膜模型模拟薄膜结构。测... 采用新型的两步激光晶化技术在玻璃衬底上制备出性能良好的多晶硅薄膜 ,并制作了多晶硅薄膜晶体管 ,其迁移率为 10 3cm2 /V·s ,开关态电流比为 1× 10 7。采用椭偏光谱法分析了薄膜的结构 ,并提出多层膜模型模拟薄膜结构。测量结果与计算数据十分吻合。 展开更多
关键词 多晶硅薄膜 薄膜晶体管 激光晶化 椭偏谱 XECL
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