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(GaN)_n/(AlN)_n应变层超晶格的电子结构 被引量:1
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作者 王新华 王玲玲 +2 位作者 王怀玉 邓辉球 黄维清 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第10期1934-1938,共5页
以FreeStanding条件生长的超晶格原胞为计算模型,运用LCAORecursion方法研究了(GaN)n/(AlN)n(001)应变层超晶格的电子结构.由计算结果分析了GaN/AlN应变层超晶格中Ga,Al和N之间的成键情况及其带隙Eg随超晶格层数n的变化趋势;当超晶格中... 以FreeStanding条件生长的超晶格原胞为计算模型,运用LCAORecursion方法研究了(GaN)n/(AlN)n(001)应变层超晶格的电子结构.由计算结果分析了GaN/AlN应变层超晶格中Ga,Al和N之间的成键情况及其带隙Eg随超晶格层数n的变化趋势;当超晶格中存在空位时,带隙中将形成缺陷能级.最后分析了在超晶格中引入Mg掺杂后对超晶格电子结构的影响. 展开更多
关键词 Recursion方法 (GaN)n/(AlN)n 应变层超晶格 电子结构 缺陷能级
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