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Fabrication of two-layer flexible copper clad laminate by electroless-Cu plating on surface modified polyimide 被引量:1
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作者 Soo-Min HWANG Jun-Hyung LIM +5 位作者 Chang-Min LEE Eui-Cheol PARK Jun-Hyuk CHOI Jinho JOO Hoo-Jeong LEE Seung-Boo JUNG 《中国有色金属学会会刊:英文版》 EI CSCD 2009年第4期970-974,共5页
A flexible copper clad laminate(FCCL) was fabricated using electroless-and electro-Cu plating processes and the effects of pre-treatment time on the adhesion strength of the FCCL were evaluated based on interfacial mo... A flexible copper clad laminate(FCCL) was fabricated using electroless-and electro-Cu plating processes and the effects of pre-treatment time on the adhesion strength of the FCCL were evaluated based on interfacial morphology.The neutralization and catalyst time were varied in the range of 0-20 min and 0.1-10 min,respectively,and the interfacial condition of the FCCL was characterized by atomic force microscopy(AFM) and X-ray photoelectron spectroscopy(XPS).It is observed that the peel strength increases significantly as the neutralization and catalyst time increase.Peel strength as high as 7.2-7.3 N/cm is obtained as the neutralization and catalyst time increase up to 20 min and 10 min,respectively,which is comparable to the strength achieved by the conventional laminating and sputtering processes.These improvements are probably due to an increase in the surface roughness of polyimide(PI),the activated surface condition,and the adsorption of palladium ions/atoms(Pd) on the PI surface which act as nucleation sites for Cu. 展开更多
关键词 聚酰亚胺 表面改性 化学制备 层压板 铜电镀 铜箔 软性 X射线光电子能谱
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添加剂对四羟丙基乙二胺(THPED)化学镀厚铜的影响 被引量:8
2
作者 申晓妮 赵冬梅 +1 位作者 任凤章 田保红 《中国腐蚀与防护学报》 CAS CSCD 北大核心 2011年第5期362-366,共5页
为开发THPED-EDTA·2Na化学镀厚铜工艺,研究了添加剂L-精氨酸,聚乙二醇(PEG)和亚铁氰化钾(K_4Fe(CN)_6)对化学镀速、镀层质量及镀液稳定性的影响。结果表明,适量L-精氨酸能显著提高化学镀速,其适宜的添加量为0.15 mg·L^(-1);PE... 为开发THPED-EDTA·2Na化学镀厚铜工艺,研究了添加剂L-精氨酸,聚乙二醇(PEG)和亚铁氰化钾(K_4Fe(CN)_6)对化学镀速、镀层质量及镀液稳定性的影响。结果表明,适量L-精氨酸能显著提高化学镀速,其适宜的添加量为0.15 mg·L^(-1);PEG和K_4Fe(CN)_6使铜还原速率有所降低,但均能改善镀层外观质量,其适宜的添加剂用量分别为150 mg·L^(-1)和20 mg·L^(-1)。三种添加剂均能提高镀液稳定性,混合添加剂稳定性最高,80℃下稳定时间近5 h。在适宜条件下镀速为7.10μm·h^(-1),施镀15 min后获得的镀层表面平整、晶粒细致和外观红亮。沉积层为立方晶系铜,且在(111)晶面择优沉积,背光级数达到10级。 展开更多
关键词 添加剂 化学镀厚铜 四羟丙基乙二胺 L-精氨酸 K4Fe(CN)6 聚乙二醇
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陶瓷电子元件局部化学镀铜电极的性能及结构 被引量:2
3
作者 雷俊玲 张巧丽 +1 位作者 郑帅 刘炳泗 《电子元件与材料》 CAS CSCD 北大核心 2013年第7期57-59,共3页
采用含钯的催化浆料活化法,实现了陶瓷表面的局部化学镀铜。扫描电子显微镜观察结果表明均匀分散的钯纳米颗粒起到了催化铜沉积的作用,镀铜层光滑平整、颗粒大小均匀。X-射线光电子能谱(XPS)和X-射线衍射(XRD)测试结果表明镀层是具有晶... 采用含钯的催化浆料活化法,实现了陶瓷表面的局部化学镀铜。扫描电子显微镜观察结果表明均匀分散的钯纳米颗粒起到了催化铜沉积的作用,镀铜层光滑平整、颗粒大小均匀。X-射线光电子能谱(XPS)和X-射线衍射(XRD)测试结果表明镀层是具有晶态结构的纯铜镀层。对化学镀铜后的陶瓷电子元件进行物理性能和电性能测试,其结果均满足工业要求。 展开更多
关键词 电子元件 钯纳米颗粒 陶瓷 催化浆料 局部化学镀铜 晶体结构
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基于PCB的次磷酸钠化学镀铜研究 被引量:6
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作者 申晓妮 任凤章 +1 位作者 赵冬梅 肖发新 《材料科学与工艺》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第3期17-23,共7页
为解决传统甲醛化学镀铜体系环境污染及稳定性低的问题,以次磷酸钠化学镀铜体系为研究对象,采用SEM、XRD、电化学等测试方法,探讨了添加剂硫酸镍、α-α’联吡啶和马来酸对该体系的影响.结果表明:适量的硫酸镍和马来酸均能提高化学镀速... 为解决传统甲醛化学镀铜体系环境污染及稳定性低的问题,以次磷酸钠化学镀铜体系为研究对象,采用SEM、XRD、电化学等测试方法,探讨了添加剂硫酸镍、α-α’联吡啶和马来酸对该体系的影响.结果表明:适量的硫酸镍和马来酸均能提高化学镀速并改善镀层外观质量,其适宜的质量浓度分别为0.8 g/L和10 mg/L;α–α’联吡啶能明显改善镀层外观质量,其适宜的质量浓度为10 mg/L;次磷酸钠体系的镀液稳定性能优越,加入混合添加剂在80℃下稳定时间近48 h;混合添加剂使化学镀铜阴极峰电流增大;在最佳工艺条件下镀速为5.10μm/h,获得的镀层均匀、致密,施镀20 min后背光级数达到10级. 展开更多
关键词 添加剂 PCB 化学镀铜 硫酸镍 次磷酸钠
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高稳定性酒石酸盐化学镀铜 被引量:4
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作者 申顺保 《表面技术》 EI CAS CSCD 1990年第3期44-48,共5页
在化学镀铜溶液中添加CHN—881型稳定剂,经大批量和高负荷的实际生产考核,溶液稳定好,从而实现了用单一络合剂在室温下稳定地进行化学镀铜。
关键词 镀铜 化学镀铜 稳定剂 酒石酸盐
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钨粉表面化学镀铜研究 被引量:3
6
作者 张振忠 赵芳霞 丘泰 《铸造技术》 EI CAS 北大核心 2006年第11期1241-1244,共4页
为了提高钨粉制品的性能,采用正交实验方法,利用SEM、XRD、EDS等分析手段,系统研究了化学镀铜主要工艺参数对钨粉表面化学镀铜的影响规律。结果表明:在温度固定条件下,各因素对镀液稳定性影响的显著性顺序是:硫代硫酸钠加入量>pH值&... 为了提高钨粉制品的性能,采用正交实验方法,利用SEM、XRD、EDS等分析手段,系统研究了化学镀铜主要工艺参数对钨粉表面化学镀铜的影响规律。结果表明:在温度固定条件下,各因素对镀液稳定性影响的显著性顺序是:硫代硫酸钠加入量>pH值>χ(Tar2-/Cu2+)>甲醛加入量,而对镀速影响的显著性顺序是:χ(Tar2-/Cu2+)>pH值>甲醛加入量>硫代硫酸钠加入量;较佳的钨粉表面化学镀铜工艺为:五水硫酸铜8g/L;酒石酸钾钠28g/L;EDTA0.75g/L;NaOH8.5g/L;硫代硫酸钠10mg/L;甲醛7.5ml/L;pH=12;温度40℃。采用所推荐的工艺,成功的在钨粉上获得了化学镀铜层。 展开更多
关键词 钨粉 化学镀铜 镀液稳定性 施镀工艺
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化学镀Cn/Ni—P双层电磁屏蔽镀层的研究 被引量:2
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作者 司为民 罗守福 李鹏兴 《表面技术》 EI CAS CSCD 1993年第3期104-107,共4页
介绍在ABS塑料上获得Cu/Ni-P双层镀层的化学镀工艺,并对镀层的屏蔽性能进行了测试。实验结果表明,Cu/Ni-P双层镀层具有优良的屏蔽效果,这种化学镀工艺有希望取代常规的电弧凌涂锌、含镍粉漆等工艺方法。
关键词 化学镀 镀铜 镀镍磷 双层镀层
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基于镀铜SiC-Cu颗粒制备石墨烯片/SiC-Cu和碳纳米管/SiC-Cu增强体 被引量:2
8
作者 刘守法 王晋鹏 +1 位作者 吴松林 董锋 《复合材料学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2017年第11期2544-2549,共6页
利用化学气相沉积法(CVD),分别在光沉积镀铜SiC-Cu颗粒和无电镀铜SiC-Cu颗粒表面制备石墨烯片(GNSs)/SiC-Cu和碳纳米管(CNTs)/SiC-Cu增强体。利用拉曼光谱和SEM研究制备温度和保温时间对生成的石墨烯片和碳纳米管的层数和质量的影响。... 利用化学气相沉积法(CVD),分别在光沉积镀铜SiC-Cu颗粒和无电镀铜SiC-Cu颗粒表面制备石墨烯片(GNSs)/SiC-Cu和碳纳米管(CNTs)/SiC-Cu增强体。利用拉曼光谱和SEM研究制备温度和保温时间对生成的石墨烯片和碳纳米管的层数和质量的影响。结果表明:利用CVD法,在无电镀铜SiC-Cu颗粒和光沉积镀铜SiCCu颗粒表面均可生成多层GNSs和CNTs;以无电镀铜SiC-Cu颗粒为基体,在1 000℃下保持20 min生成的GNSs质量较好,已经接近单层;利用SEM观察最佳参数下的生成物,可观察到10~45nm直径的CNTs交错分布在圆形铜颗粒之间。 展开更多
关键词 化学气相沉积法 光沉积镀铜 无电镀铜 SIC颗粒 石墨烯片 碳纳米管
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金刚石表面化学镀铜的研究 被引量:2
9
作者 姚怀 张楠楠 +1 位作者 王璐 丁留亮 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第4期986-990,共5页
为了改善金刚石与金属基体的润湿性,利用化学镀的方法在金刚石粉体表面成功的进行了镀铜,通过X射线衍射(XRD)、扫描电镜(SEM)等测试手段研究了pH值及添加剂对镀层的组织、形貌及镀速的影响。结果表明:当镀液的pH值低于10.5时,镀速... 为了改善金刚石与金属基体的润湿性,利用化学镀的方法在金刚石粉体表面成功的进行了镀铜,通过X射线衍射(XRD)、扫描电镜(SEM)等测试手段研究了pH值及添加剂对镀层的组织、形貌及镀速的影响。结果表明:当镀液的pH值低于10.5时,镀速几乎为零,没有反应发生;pH值在10.5~12.5时,镀速随pH值的增大而增大,XRD图谱中开始有铜的衍射峰出现,且衍射峰随pH值的增大而增强;pH值大于12.5时,镀速开始随pH值增大而下降,衍射峰开始随pH值增大而减弱。当pH值为11时,金刚石基体有裸漏现象,镀层较薄;pH值为12时,镀层表面较为致密、结合较好、有一定厚度且包覆严实;pH值为13时,镀层开始变得粗糙,有卷边、起皮及脱落现象。当向镀液中分别添加适量的亚铁氰化钾及二联吡啶时,能够提高镀液的稳定性,两种添加剂对铜的化学沉积都有阻化作用,降低铜的沉积速率,使镀层光亮致密。 展开更多
关键词 化学镀铜 金刚石 铜镀层
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铁制工艺品化学着色工艺 被引量:2
10
作者 李丽 旷戈 张永锋 《电镀与涂饰》 CAS CSCD 2004年第3期17-19,共3页
 在铁制工艺品上先进行常温化学镀铜然后进行着色处理,获得了效果满意的着色层。讨论了常温化学镀铜与着色处理的工艺规范,简单介绍了化学镀铜的影响因素。该着色工艺设备简单,操作简便,成本较低。
关键词 铁制工艺品 化学着色 化学镀铜
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聚乙烯吡咯烷酮/AgNO_3胶体用于激光诱导图形化化学镀铜 被引量:2
11
作者 陈东升 路庆华 《材料保护》 CAS CSCD 北大核心 2010年第10期17-19,25,共4页
将聚乙烯吡咯烷酮(PVP)用于激光诱导化学镀的技术目前还鲜见报道。为此,对涂覆在聚酰亚胺(PI)上的PVP/AgNO3胶体用激光进行光刻还原出银纳米粒子,在PI表面实现了微米级的图形化化学镀。用AFM和XPS分别表征了激光辐射后银纳米粒子的形态... 将聚乙烯吡咯烷酮(PVP)用于激光诱导化学镀的技术目前还鲜见报道。为此,对涂覆在聚酰亚胺(PI)上的PVP/AgNO3胶体用激光进行光刻还原出银纳米粒子,在PI表面实现了微米级的图形化化学镀。用AFM和XPS分别表征了激光辐射后银纳米粒子的形态和化学信息,用SEM分析了镀铜层的形貌以及激光扫描速度对镀层形貌的影响,并用半导体特性分析系统表征了镀层的I-E特性。结果表明,激光能有效地将PVP/AgNO3胶体中的Ag+还原成Ag纳米粒子,激光扫描速度小于0.1 mm/s时镀层比较均匀致密,且镀层与聚合物基体之间的粘结力好,镀层的选择性和导电性均良好。本方法为实现聚合物表面图形化化学镀开创了一条简单的、新的途径。 展开更多
关键词 化学镀铜 聚乙烯吡咯烷酮/AgNO3 胶体 激光诱导 图形化 聚酰亚胺 表面金属化
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非刻蚀无钯活化化学镀铜Kevlar纤维的制备工艺及性能 被引量:2
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作者 高宇芳 彭雨晴 +2 位作者 孙宁霞 李爱军 白瑞成 《上海大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 2019年第1期75-83,共9页
表面预处理是制备高性能Kevlar纤维的关键技术.应用一种新颖的"非刻蚀无钯活化"预处理工艺和以二甲氨基硼烷作为还原剂的化学镀铜体系制备了镀铜Kevlar纤维.采用X射线光电子能谱仪(X-ray photoelectron spectroscopy, XPS)、... 表面预处理是制备高性能Kevlar纤维的关键技术.应用一种新颖的"非刻蚀无钯活化"预处理工艺和以二甲氨基硼烷作为还原剂的化学镀铜体系制备了镀铜Kevlar纤维.采用X射线光电子能谱仪(X-ray photoelectron spectroscopy, XPS)、X射线衍射仪(X-raydiffraction, XRD)和高分辨扫描电子显微镜(scanning electron microscope, SEM)分析不同处理阶段Kevlar纤维的化学组成、晶态结构和表面形貌,并对镀铜Kevlar纤维的结合强度、电学性能、力学性能和热稳定性能进行测试.结果表明,通过此新工艺制备的铜层致密平整,且与基体结合力强,并具有较好的导电性、力学性能和热稳定性能. 展开更多
关键词 KEVLAR纤维 化学镀铜 非刻蚀无钯活化 力学性能 热稳定性
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化学镀方法制备铜空腔工艺 被引量:1
13
作者 万小波 任洪波 +1 位作者 周兰 肖江 《材料保护》 CAS CSCD 北大核心 2006年第4期69-70,共2页
激光试验装置中的整体式铜腔靶精度要求高,现有机加工方法不能满足要求。为此,在预处理芯轴(聚甲基丙烯酸甲酯)表面采用化学镀法制备铜空腔,研究了镀液中甲醛含量、pH值、温度等对镀速和镀液稳定性的影响。确定了适宜的化学镀铜工... 激光试验装置中的整体式铜腔靶精度要求高,现有机加工方法不能满足要求。为此,在预处理芯轴(聚甲基丙烯酸甲酯)表面采用化学镀法制备铜空腔,研究了镀液中甲醛含量、pH值、温度等对镀速和镀液稳定性的影响。确定了适宜的化学镀铜工艺为:10g/L硫酸铜,10~20mL/L甲醛,40g/L酒石酸钾钠,20g/L乙二胺四乙酸二钠,0.1g/L稳定剂(2,2-联吡啶),pH值12.0~13.0,温度40~70℃。制备的铜空腔壁厚达25μm,表面无砂眼、裂纹等缺陷,刻蚀芯轴后空腔能自持。 展开更多
关键词 化学镀铜 铜空腔 镀速
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化学镀铜自催化反应及镀层延展性研究 被引量:1
14
作者 李晓红 《广东化工》 CAS 2020年第2期24-25,共2页
研究了6种化学镀铜液的镀铜反应过程,详尽分析了反应开始后2~30 min期间的沉积速率,总结出了影响化学镀铜自催化反应过程的两个主要因素。一是化学镀铜液中微量镍的存在可加强自催化反应;二是镀液中的稳定剂会减缓自催化反应。文章还测... 研究了6种化学镀铜液的镀铜反应过程,详尽分析了反应开始后2~30 min期间的沉积速率,总结出了影响化学镀铜自催化反应过程的两个主要因素。一是化学镀铜液中微量镍的存在可加强自催化反应;二是镀液中的稳定剂会减缓自催化反应。文章还测试了4种化学镀铜液制得的镀层的断裂伸长率,发现镍离子及较慢的自催化反应速度有利于镀层延展性的提高。 展开更多
关键词 化学镀铜 自催化反应 沉积速率 延展性
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空腔铜靶的化学镀制研究 被引量:1
15
作者 万小波 张林 +1 位作者 周兰 肖江 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第9期1373-1376,共4页
介绍了在预处理芯轴(聚甲基丙烯酸甲酯)表面采用化学镀的方法制备铜空腔的技术,研究了镀液中硫酸铜含量、甲醛含量,镀液pH值、温度等对化学镀铜沉积速率和溶液稳定性的影响.根据实验确定了适宜的化学镀铜工艺规范:硫酸铜质量浓度10~20 ... 介绍了在预处理芯轴(聚甲基丙烯酸甲酯)表面采用化学镀的方法制备铜空腔的技术,研究了镀液中硫酸铜含量、甲醛含量,镀液pH值、温度等对化学镀铜沉积速率和溶液稳定性的影响.根据实验确定了适宜的化学镀铜工艺规范:硫酸铜质量浓度10~20 g/L,TART·K·Na质量浓度10~30 g/L,EDTA*2Na质量浓度10~28 g/L,甲醛体积浓度10~25 mL/L,添加剂质量浓度10 mg/L,pH值12~13,温度35~65 ℃.通过该工艺制备出的镀层厚度达到10~25 μm,均匀性达到95%,表面无砂眼、裂纹等缺陷,刻蚀芯轴后空腔能自持.该方法为ICF研究制备金属或合金材料靶提供了新的途径. 展开更多
关键词 化学镀铜 镀速 镀液稳定性
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α-α'联吡啶对次磷酸钠化学镀铜的影响 被引量:1
16
作者 申晓妮 任凤章 +1 位作者 张志新 肖发新 《腐蚀科学与防护技术》 CAS CSCD 北大核心 2013年第4期293-296,共4页
以次磷酸钠化学镀铜体系为研究对象,采用SEM、XRD、线性极化、电化学阻抗等测试方法,重点探讨了添加剂α-α′联吡啶对该体系的影响。结果表明,α-α′联吡啶能明显改善镀层外观质量,其最佳浓度为10 mg/L。适宜条件下镀层结晶均匀、细致... 以次磷酸钠化学镀铜体系为研究对象,采用SEM、XRD、线性极化、电化学阻抗等测试方法,重点探讨了添加剂α-α′联吡啶对该体系的影响。结果表明,α-α′联吡啶能明显改善镀层外观质量,其最佳浓度为10 mg/L。适宜条件下镀层结晶均匀、细致,沉积层为立方晶系单质Cu。随着α-α′联吡啶浓度的增加,Cu阴极峰电流逐渐减小并趋于稳定;α-α′联吡啶对次磷酸钠的氧化具有抑制作用,但对Cu的溶解有促进作用,阻化了铜离子的阴极还原,降低化学镀铜的沉积速率,因而改善了镀层的质量。 展开更多
关键词 添加剂 化学镀铜 α-α′联吡啶 次磷酸钠
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金属外壳封装的特点及设计
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作者 穆道斌 李志勇 +1 位作者 朱继满 马莒生 《新技术新工艺》 北大核心 2000年第2期23-25,共3页
以金属为外壳的封装是一种新的高密度封装技术 ,具有优异的导热性能及电性能。本文对这种封装的性能特点进行了介绍 ,结合化学镀铜金属化方法 ,以所研制的阳极氧化铝样品为基板进行了金属外壳封装的初步设计 。
关键词 金属外壳封装 化学镀 集成电位 铝基板
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封装用铝金属基板表面金属化图形的制作
18
作者 穆道斌 沈卓身 王占华 《新技术新工艺》 北大核心 2003年第1期38-39,共2页
利用化学镀铜方法 ,结合光刻技术 ,研究了在阳极氧化 Al基板上的金属化布线。设计了完成化学镀铜金属化图形的工艺流程 ,并对影响图形制作的主要因素进行了分析 。
关键词 封装 金属化图形 光刻技术 化学镀铜 铝基板
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碳纤维织物的镍铜复合镀层及其毫米波RCS特性
19
作者 侯伟 潘功配 +1 位作者 关华 朱晨光 《纺织学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第11期12-15,21,共5页
为制备一种新型毫米波无源干扰材料,采用化学复合镀技术在碳纤维织物表面沉积镍和铜。利用扫描电镜和X射线能谱仪对复合镀镍铜碳纤维织物表面进行表征,分别测量镀镍、镀铜及复合镀镍铜碳纤维织物的表面电阻,并应用雷达散射截面测试系统... 为制备一种新型毫米波无源干扰材料,采用化学复合镀技术在碳纤维织物表面沉积镍和铜。利用扫描电镜和X射线能谱仪对复合镀镍铜碳纤维织物表面进行表征,分别测量镀镍、镀铜及复合镀镍铜碳纤维织物的表面电阻,并应用雷达散射截面测试系统对同样尺寸的镀镍、镀铜、复合镀镍铜碳纤维织物及未改性碳纤维织物的毫米波波段RCS值进行测试。结果表明:采用这种化学镀工艺所得复合镀镍铜碳纤维织物的镀覆均匀,光泽好,有较强的导电性能。RCS值随着镀金属碳纤维织物导电性能的增强而增大,复合镀镍铜碳纤维织物的RCS值最高,且与RCS理论计算值较接近,是一种有效的毫米波干扰材料。 展开更多
关键词 碳纤维织物 化学镀镍铜 毫米波 雷达散射截面
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Cu包覆纳米Al_2O_3复合粉体的化学镀法制备 被引量:4
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作者 陆东梅 王清周 +1 位作者 赵立臣 杨瑞霞 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2015年第5期1259-1263,共5页
纳米Al2O3的力学性能优异,是一种理想的Cu基纳米复合材料的增强体,然而其与Cu基体的润湿性较差。为了改善其与Cu基体的润湿性,增强界面的结合力,通过化学镀工艺在其表面镀Cu,并采用SEM、TEM、XRD和EDS系统研究了镀液中络合剂及还原剂类... 纳米Al2O3的力学性能优异,是一种理想的Cu基纳米复合材料的增强体,然而其与Cu基体的润湿性较差。为了改善其与Cu基体的润湿性,增强界面的结合力,通过化学镀工艺在其表面镀Cu,并采用SEM、TEM、XRD和EDS系统研究了镀液中络合剂及还原剂类型、镀液温度及施镀条件等重要因素对化学镀过程、镀膜质量的影响,进而优化了施镀工艺,获得了粒径均一、分散良好的Cu包覆纳米Al2O3复合粉体,为A12O3/Cu纳米复合材料的制备打下了良好的基础。 展开更多
关键词 化学镀cu 纳米AL2O3 双络合剂 还原剂 施镀条件
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