多光点扫描数字光刻制作DOE的方法研究 被引量：4

1

作者 方亮 段茜 +3 位作者 郭小伟 王景全 张志友 杜惊雷 《四川大学学报（自然科学版）》 CAS CSCD 北大核心 2007年第6期1315-1320,共6页

在DMD(Digital Micromirror Device)数字光刻系统中使用微透镜阵列聚焦可在像面获得灰度点阵图形,若曝光的同时基底按预设计的方式同步扫描,则可形成所需求的曝光场分布.这一方法用于衍射微光学元件(DOE)制作,可方便快捷获得高质量的连... 在DMD(Digital Micromirror Device)数字光刻系统中使用微透镜阵列聚焦可在像面获得灰度点阵图形,若曝光的同时基底按预设计的方式同步扫描,则可形成所需求的曝光场分布.这一方法用于衍射微光学元件(DOE)制作,可方便快捷获得高质量的连续面形微结构.文中通过对扫描方式的分析和计算,给出了适于菲涅耳微透镜制作的基片台扫描参数和模拟结果,为用该系统进行DOE实际制作提供了依据. 展开更多

关键词 DMD 数字光刻 分辨率 扫描 DOE

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基于365nm LED的数字光刻照明系统匀光设计 被引量：4

2

作者 梁庆九 周金运 《量子电子学报》 CAS CSCD 北大核心 2018年第2期225-229,共5页

在数字光刻照明系统中,利用复眼透镜对365 nm发光二极管(LED)进行了匀光设计,透镜阵列采用近六边形的排列方式,能基本覆盖圆形光。近六边形阵列相对于方形结构能减少无效透镜数量,能更有效地利用透镜发挥匀光效能.用软件分别仿真了近六... 在数字光刻照明系统中,利用复眼透镜对365 nm发光二极管(LED)进行了匀光设计,透镜阵列采用近六边形的排列方式,能基本覆盖圆形光。近六边形阵列相对于方形结构能减少无效透镜数量,能更有效地利用透镜发挥匀光效能.用软件分别仿真了近六边形、9×9方形透镜的照明系统,并对比了其照度图,结果表明使用近六边形阵列的照明系统照度更为均匀.用近六边形阵列设计的照明系统与数字微反射镜(DMD)、光刻镜头相结合,进行了2μm精度的数字光刻实验,其像面照度均匀,线条清晰. 展开更多

关键词 均匀照明 复眼透镜阵列 光学设计 365nm发光二极管 数字光刻

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应用于数字光刻机的DMD数据处理及控制系统

3

作者 陈海巍 《现代信息科技》 2023年第18期129-132,共4页

无掩膜数字光刻机已在PCB光刻及半导体光刻领域逐渐开始应用,相比传统掩膜式光刻机,可缩减光刻流程,节省光刻成本,使光刻数据在线实时调整变得更为简单。而DMD(数字微镜器件)目前作为数字光刻机常用的一种SLM(空间光调制)图形发生器,对... 无掩膜数字光刻机已在PCB光刻及半导体光刻领域逐渐开始应用,相比传统掩膜式光刻机,可缩减光刻流程,节省光刻成本,使光刻数据在线实时调整变得更为简单。而DMD(数字微镜器件)目前作为数字光刻机常用的一种SLM(空间光调制)图形发生器,对其所需要进行的数据处理及控制较为关键。会直接关系到数字光刻机的曝光效率和产能。文章从DMD的驱动控制原理,探讨研究DMD在数字光刻机中的数据处理和控制流程、方法,实现较高的设备光刻效率。 展开更多

关键词 DMD 数字光刻 扫描 数据处理 控制

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数字光刻缩微投影系统物镜的设计 被引量：3

4

作者 刘海勇 周金运 +3 位作者 雷亮 刘丽霞 刘志涛 郭华 《光电工程》 CAS CSCD 北大核心 2013年第7期57-62,共6页

针对高精度数字光刻的缩微光学投影系统,提出并设计了一种适用于0.7XGA型数字微反射镜(DMD)的6片式数字光刻缩微投影物镜。通过优化和拼接三片式物镜结构,得到数值孔径NA=0.1,放大倍率为-0.2558,分辨力达3.5μm,不受DMD栅格效应影响且... 针对高精度数字光刻的缩微光学投影系统,提出并设计了一种适用于0.7XGA型数字微反射镜(DMD)的6片式数字光刻缩微投影物镜。通过优化和拼接三片式物镜结构,得到数值孔径NA=0.1,放大倍率为-0.2558,分辨力达3.5μm,不受DMD栅格效应影响且达到衍射极限的缩微物镜。经过Zemax软件模拟得到其全视场光程差小于λ/5,145cycles/mm处的调制传递函数(MTF)大于0.58,充分说明该缩微物镜已经达到光刻物镜设计要求。利用Monte Carlo分析方法,模拟加工装配了100组镜头,设定空间频率为145cycles/mm时,90%的镜头FMTF>0.55,验证了加工装配实际可行。 展开更多

关键词 数字光刻 缩微物镜 数字微反射镜 光学设计

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基于DMD的数字光刻定焦变倍投影系统设计 被引量：3

5

作者 唐志方 牟达 +2 位作者 杨旭 陈炳旭 高佳旭 《长春理工大学学报（自然科学版）》 2019年第2期52-56,共5页

随着数字光刻技术的快速发展,基于数字微镜器件(DMD)的光刻技术受到微纳加工及相关行业人员的广泛关注。为实现基于0.9WQXGA型DMD的数字光刻,同时为避免投影系统与照明系统存在重叠空间,为满足数字光刻时不同幅面尺寸和精度的需求,设计... 随着数字光刻技术的快速发展,基于数字微镜器件(DMD)的光刻技术受到微纳加工及相关行业人员的广泛关注。为实现基于0.9WQXGA型DMD的数字光刻,同时为避免投影系统与照明系统存在重叠空间,为满足数字光刻时不同幅面尺寸和精度的需求,设计了具有分束棱镜的投影系统。镜头的有效焦距50mm,相对孔径1/3,像高11.6mm,光学总长142mm,工作波段395～415nm,后工作距为27～29mm,整个投影系统为像方远心系统,可将DMD放大10～15倍。在70lp/mm处,所有组态视场的MTF值都大于0.55,畸变绝对值都小于0.5%。此设计结果像质优良、结构紧凑、符合实际数字光刻使用要求。 展开更多

关键词 DMD 数字光刻技术 光学设计 投影系统

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基于深度学习的数字光刻自动检焦方法 被引量：1

6

作者 杨聚圃 杜佳林 +3 位作者 李凡星 谌庆荣 王思沫 严伟 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2022年第6期253-265,共13页

目前基于数字微镜器件的无掩膜光刻系统离不开高精度的检焦系统,单独设计的检焦系统不仅会增加全系统结构的复杂度,还会增加装调的难度。因此提出一种基于深度学习的检焦方法,通过调节光路使曝光焦面和相机成像焦面重合,仅根据当前所成... 目前基于数字微镜器件的无掩膜光刻系统离不开高精度的检焦系统,单独设计的检焦系统不仅会增加全系统结构的复杂度,还会增加装调的难度。因此提出一种基于深度学习的检焦方法,通过调节光路使曝光焦面和相机成像焦面重合,仅根据当前所成的图像即可实现焦平面的快速自动检测。该算法由粗检焦和精检焦两步组成,粗检焦利用深度学习模型对相机记录的图像进行分类,仅需90 ms就可判断当前基片的离焦区间;精检焦利用清晰度评价函数计算图像清晰度值,结合搜索算法即可在粗检焦的基础上准确找到焦平面。用5倍聚焦物镜进行实验,在(-40μm,40μm)的离焦区间内,检焦精度可达2μm,总用时不超过300 ms。仿真分析和实验验证结果表明,该方法具有结构复杂度低、检焦速度快、检焦精度高等优点,能够很好地应用于数字光刻领域。 展开更多

关键词 数字光刻 自动检焦 深度学习 图像处理

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DMD无掩模光刻机主控软件系统的设计 被引量：1

7

作者 冯金花 胡松 +1 位作者 李艳丽 何渝 《微纳电子技术》 CAS 北大核心 2014年第10期673-678,共6页

根据无掩模光刻机的整体结构和工作流程,开发了一款适用于DMD无掩模光刻机的曝光软件。对系统进行了整合,运用开发环境VS2010实现了各个独立的模块的设计。通过串口通信的方式与下位机建立连接,实现对工件台的控制;依托Access2007创建... 根据无掩模光刻机的整体结构和工作流程,开发了一款适用于DMD无掩模光刻机的曝光软件。对系统进行了整合,运用开发环境VS2010实现了各个独立的模块的设计。通过串口通信的方式与下位机建立连接,实现对工件台的控制;依托Access2007创建数据库,管理曝光数据及工艺文件;采用图像处理算法和坐标转换技术,实现了曝光过程中的实时自动调焦和套刻对准功能,具有良好的人机交互界面。实验结果表明,软件界面设计友好,上、下位机数据传输稳定,能对工艺文件和曝光实验数据进行管理;上位机软件实现的自动调焦和自动对准功能具有很好的稳定性和可靠性。 展开更多

关键词 无掩模光刻 数字光刻 数据管理 调焦 对准

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基于数字微镜器件的无光罩技术应用

8

作者 薛瑞 《集成电路应用》 2022年第10期20-22,共3页

阐述数字微镜技术,基于数字微镜器件的光刻机特性,包括降低掩模成本、减小曝光关键尺寸CD,探讨基于数字微镜器件的光刻机技术应用。

关键词 数字微镜器件 掩模板 数字光刻 屏幕编号

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基于数字微镜的无掩模数字光刻系统的研制

9

作者 陈劲松 《压电与声光》 CSCD 北大核心 2011年第6期856-858,862,共4页

研究了一种基于数字微镜的无掩模光刻系统。利用数字微镜输出的高精度数字掩模,结合高质量的高倍精缩投影光学系统,理论上完全可实现亚微米级衍射微光学元件的制作。该文从照明系统、数字微镜芯片、精缩物镜设计等方面进行了系统总体设... 研究了一种基于数字微镜的无掩模光刻系统。利用数字微镜输出的高精度数字掩模,结合高质量的高倍精缩投影光学系统,理论上完全可实现亚微米级衍射微光学元件的制作。该文从照明系统、数字微镜芯片、精缩物镜设计等方面进行了系统总体设计。利用该系统成功制作了5×5达曼光栅、8台阶闪耀光栅和8台阶菲涅耳透镜,进一步论证了该系统的可行性。 展开更多

关键词 数字微镜 灰度掩模 数字光刻

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一种优化微镜像素灰度提高数字光刻成像质量的方法

10

作者 时招军 李其申 张胜 《南昌航空大学学报（自然科学版）》 CAS 2017年第3期23-27,共5页

针对DMD数字光刻成像畸变问题,提出一种优化DMD微镜像素灰度值提高光刻成像质量的方法。将微镜像素的灰度值编码为0,1二进制位串,然后利用梯度下降法优化微镜像素的灰度。对矩形掩模图和T型掩模图进行仿真验证表明,两种图形的误差值(PE... 针对DMD数字光刻成像畸变问题,提出一种优化DMD微镜像素灰度值提高光刻成像质量的方法。将微镜像素的灰度值编码为0,1二进制位串,然后利用梯度下降法优化微镜像素的灰度。对矩形掩模图和T型掩模图进行仿真验证表明,两种图形的误差值(PE)分别下降了83.9%、80.5%,该方法可以较大程度地提高数字光刻成像质量。 展开更多

关键词 数字光刻 成像畸变 梯度下降法 像素灰度 二元掩模

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双光源DMD数字光刻系统

11

作者 余秋香 易云 《光机电信息》 2011年第8期27-31,共5页

基于DMD数字光刻系统,建立了一种新型的双光源DMD数字光刻系统。双光源DMD数字光刻系统由光源照明系统、DMD数字微镜、投影物镜以及CCD调焦系统等几个部分组成。实验表明,与DMD数字光刻系统相比,双光源DMD数字光刻系统具有调焦点不被曝... 基于DMD数字光刻系统,建立了一种新型的双光源DMD数字光刻系统。双光源DMD数字光刻系统由光源照明系统、DMD数字微镜、投影物镜以及CCD调焦系统等几个部分组成。实验表明,与DMD数字光刻系统相比,双光源DMD数字光刻系统具有调焦点不被曝光的优点,可用于制作光纤端面微光学器件。 展开更多

关键词 双光源 DMD 数字光刻

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基于数字光刻投影系统的快速微加工技术 被引量：8

12

作者 张雅雅 崔建国 《应用光学》 CAS CSCD 北大核心 2015年第3期448-453,共6页

设计一种经济有效的微流体芯片加工方法,可以快速地在聚二甲基硅氧烷(PDMS)表面加工出不同尺寸的微流路。利用商用数字投影仪的成像原理,对其进行简单的改装,得到成缩小像的数字光刻投影系统(DLPS),并利用该系统在PDMS表面加工微流路;... 设计一种经济有效的微流体芯片加工方法,可以快速地在聚二甲基硅氧烷(PDMS)表面加工出不同尺寸的微流路。利用商用数字投影仪的成像原理,对其进行简单的改装,得到成缩小像的数字光刻投影系统(DLPS),并利用该系统在PDMS表面加工微流路;同时通过荷叶效应和毛细吸附效应两组实验,对DLPS的加工性能进行了验证和应用。该DLPS可在PDMS表面加工微结构,最小稳定加工精度可达40μm,通过模仿荷叶效应获得的材料表面,其疏水角增加到123°±3°。该DLPS系统可用于快速加工微流体芯片,当流路尺寸要求不是很严格时,低成本和高效率等优点使该系统完全适合在普通实验室开展微流体技术的研究。 展开更多

关键词 薄膜光学 微流路 数字光刻投影系统 聚二甲基硅氧烷 荷叶效应 毛细吸附效应

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用于数字光刻的非对称式投影物镜设计 被引量：2

13

作者 邝健 周金运 郭华 《应用光学》 CAS CSCD 北大核心 2016年第1期52-56,共5页

针对DMD数字光刻,利用ZEMAX光学设计软件,设计出了一套适用于型号0.7XGA DMD的10片式光刻投影物镜。该物镜采用非对称性结构,前组为改进的三分离物镜,后组为匹兹伐物镜加平像场镜,分辨率为2μm,近轴放大倍率为-0.15,像方数值孔径NA为0.1... 针对DMD数字光刻,利用ZEMAX光学设计软件,设计出了一套适用于型号0.7XGA DMD的10片式光刻投影物镜。该物镜采用非对称性结构,前组为改进的三分离物镜,后组为匹兹伐物镜加平像场镜,分辨率为2μm,近轴放大倍率为-0.15,像方数值孔径NA为0.158,全视场波像差小于λ/20,畸变小于0.014%,焦深为20μm,通过各项评价可知系统已经达到了衍射极限。在对该镜头进行公差分析后,利用Monte Carlo方法,模拟组装加工了100组镜头,得到90%的镜头MTF>0.46,50%的镜头MTF>0.51,证明了这种非对称性结构加工和校装的可能性。 展开更多

关键词 DMD数字光刻 光学设计 投影物镜 非对称式结构

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基于数字光刻技术的光纤端面微光学器件制作 被引量：1

14

作者 余秋香 易云 《科技广场》 2011年第3期132-134,共3页

本文提出采用DMD数字光刻技术制作光纤端面微光学器件,基于DMD数字光刻系统,建立了用于制作光纤端面微光学器件的双光源DMD数字光刻系统。利用双光源DMD数字光刻系统,在芯径为62.5μm,外径为125μm的多模光纤端面上制作了具有耦合作用... 本文提出采用DMD数字光刻技术制作光纤端面微光学器件,基于DMD数字光刻系统,建立了用于制作光纤端面微光学器件的双光源DMD数字光刻系统。利用双光源DMD数字光刻系统,在芯径为62.5μm,外径为125μm的多模光纤端面上制作了具有耦合作用的环形光栅。本技术中光纤端面微光学器件的掩模由计算机控制输出,具有设计灵活、实时控制的优点。 展开更多

关键词 光纤端面 微光学器件 双光源DMD数字光刻系统 数字光刻技术

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一种制作凹形聚二甲基硅氧烷微透镜阵列的方法 被引量：4

15

作者 钟可君 高益庆 +1 位作者 李凤 张志敏 《中国激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第3期205-209,共5页

提出一种制作凹形聚二甲基硅氧烷(PDMS)微透镜阵列的方法。用数字微镜器件(DMD)代替物理掩模,建立数字灰阶无掩模光刻系统,在光刻胶上制作正方形基底凸形微透镜阵列,以此阵列为母板,采用复制方法,制作了高填充因子的正方形基底凹形PDMS... 提出一种制作凹形聚二甲基硅氧烷(PDMS)微透镜阵列的方法。用数字微镜器件(DMD)代替物理掩模,建立数字灰阶无掩模光刻系统,在光刻胶上制作正方形基底凸形微透镜阵列,以此阵列为母板,采用复制方法,制作了高填充因子的正方形基底凹形PDMS微透镜阵列。实验和测试结果表明:数字灰阶无掩模光刻系统制作的微透镜阵列表面光滑,形貌良好;复制的PDMS微透镜阵列边缘清晰,表面光滑,焦面光斑光强均匀。为制作凹形微透镜阵列提供了一条制作简单、效率高、成本低、可大规模制作的新途径。 展开更多

关键词 光学器件 微光学元件 凹形微透镜阵列 数字灰阶无掩模光刻 模型复制技术 聚二甲基硅氧烷

原文传递

步进投影数字光刻技术研究

16

作者 徐文祥 王建 +1 位作者 赵立新 严伟 《中国仪器仪表》 2008年第12期48-50,共3页

随着微纳加工技术的不断发展,其对光刻技术提出了新的要求,步进投影数字光刻技术作为光刻技术的重要分支,在光刻发展的过程中,扮演着不可替代的角色。主要介绍步进投影数字光刻技术的原理及组成,详细阐述关键技术单元,如数字掩模投影成... 随着微纳加工技术的不断发展,其对光刻技术提出了新的要求,步进投影数字光刻技术作为光刻技术的重要分支,在光刻发展的过程中,扮演着不可替代的角色。主要介绍步进投影数字光刻技术的原理及组成,详细阐述关键技术单元,如数字掩模投影成像技术、照明均匀化处理技术、CCD同轴调焦及对准技术等,并利用该技术进行了分辨率测试和灰度图形曝光实验。实验结果表明该技术在微细加工领域达到国内先进水平。 展开更多

关键词 数字掩模 数字光刻 DMD 同轴调焦

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