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nc-Si/SiO_2多层薄膜的三阶非线性光学性质
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作者 郭震宁 郭亨群 +4 位作者 何江流 王加贤 张文珍 成步文 李世忱 《光电子．激光》 EI CAS CSCD 2000年第4期359-361,共3页
用简并四波混频技术研究了 nc- Si/Si O2 多层薄膜的三阶非线性光学性质 ,观察到了位相共轭信号 ,测得实验用样品在光波波长为 5 89nm处的三阶非线性极化率χ( 3) 为 4.1× 10 - 7esu,并对该材料的光学非线性产生机理作了探讨。
关键词 nc-Si/SiO2薄膜 简并四波混频 光学非线性
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