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光学元件损伤暗场成像检测的算法 被引量:13
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作者 张际 李大海 《中国激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第8期1109-1112,共4页
基于强激光系统光学元件损伤的在线暗场成像检测,提出了一种无损、自动、快速检测的新算法。该算法根据模式识别中的聚类理论,对光学元件损伤的暗场图像实现了损伤斑块位置的自动检测分析。同时,根据损伤的暗场图像特点,用双向扫描方式... 基于强激光系统光学元件损伤的在线暗场成像检测,提出了一种无损、自动、快速检测的新算法。该算法根据模式识别中的聚类理论,对光学元件损伤的暗场图像实现了损伤斑块位置的自动检测分析。同时,根据损伤的暗场图像特点,用双向扫描方式得到了无遗漏点的损伤连续斑块,实现了损伤斑块尺度的自动检测。理论分析和实验均显示,损伤暗场自动检测图像的快速聚类算法能实现光学元件损伤位置和损伤尺度的准确、自动分析。 展开更多
关键词 光学器件 模式识别 聚类 暗场成像 在线检测
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SiO_2包覆纳米CaCO_3的透射电镜表征 被引量:5
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作者 施用晞 邵磊 陈建峰 《分析测试学报》 CAS CSCD 北大核心 2006年第3期103-105,共3页
在透射电子显微镜(TEM)电子衍射模式下,用适当孔径的物镜光阑选择非晶态S iO2的衍射区域,拍摄以溶胶-凝胶法制备的S iO2包覆纳米CaCO3的暗场像。与未经包覆S iO2的纳米CaCO3的暗场像作对比,可以看出经过S iO2包覆的纳米CaCO3粒子周围有... 在透射电子显微镜(TEM)电子衍射模式下,用适当孔径的物镜光阑选择非晶态S iO2的衍射区域,拍摄以溶胶-凝胶法制备的S iO2包覆纳米CaCO3的暗场像。与未经包覆S iO2的纳米CaCO3的暗场像作对比,可以看出经过S iO2包覆的纳米CaCO3粒子周围有一白色亮环,从而得到S iO2包覆层的暗场照片。用高分辨方法观察了包覆层与CaCO3粒子间的界面情况。 展开更多
关键词 SiO2-CaCO3 纳米复合材料 透射电子显微镜 暗场像
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An Effective On-line Surface Particles Inspection Instrument for Large Aperture Optical Element 被引量:4
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作者 Wen-Dong Ding Zheng-Tao Zhang +5 位作者 Da-Peng Zhang De Xu Hai-Bing Lv Xin-Xiang Miao Guo-Rui Zhou Hao Liu 《International Journal of Automation and computing》 EI CSCD 2017年第4期420-431,共12页
Surface particles growing in large aperture optical element (LAOE) have significant impact on LAOE's stable operation. It is a challenge for the online system to inspect the particles with long working distance, en... Surface particles growing in large aperture optical element (LAOE) have significant impact on LAOE's stable operation. It is a challenge for the online system to inspect the particles with long working distance, enough precision and high efficiency because of the system constraints. In this paper, an effective and portable inspection instrument is designed based on dark-field imaging principle. A Nikon lens and an industrial high definition (HD) camera are selected to construct the vision system to inspect particles of microns size spreading over hundreds of millimeters. Using two motors and other mechanical structure, the system can realize auto-focus and image rectification functions. The line light sources are installed on both sides of the LAOE in a sealed box while the vision system is portable and working outside the box. An adaptive binarization method is proposed to process the captured dark-field image. The distribution of particles on the LAOE's surface is investigated. Because of the high resolution of the captured image, the SSE2 instructions optimization method is used to reduce the time cost of the algorithm. Experiments show that the instrument can inspect LAOE effectively and accurately. 展开更多
关键词 dark-field imaging image rectification adaptive binarization particle inspection large aperture optical elements(LAOE).
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连接向量特征匹配的暗场图像配准方法 被引量:4
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作者 黄卓 陈凤东 +4 位作者 刘国栋 魏富鹏 彭志涛 唐军 刘楠 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2018年第11期456-461,共6页
利用损伤点之间的位置关系,根据光学元件损伤暗场图像的特点设计了一种基于连接向量特征匹配的配准方法。该方法首先对基准图像及待配准图像分别进行图像预处理,提取损伤点轮廓的中心坐标作为损伤点的位置值。然后构建损伤点连接向量,... 利用损伤点之间的位置关系,根据光学元件损伤暗场图像的特点设计了一种基于连接向量特征匹配的配准方法。该方法首先对基准图像及待配准图像分别进行图像预处理,提取损伤点轮廓的中心坐标作为损伤点的位置值。然后构建损伤点连接向量,求出主方向并计算主方向下的连接向量特征,使用连接向量匹配获得匹配点对,最后利用RANSAC算法对匹配点对进行仿射变换参数计算。该方法具有旋转不变性,尺度不变性以及较高的配准准确度。实验对比分析了该方法与SIFT算法的计算效率及配准精度,结果表明在暗场图像条件下文中方法更有效且为背景单一,灰度信息较少同时要求较高的配准速度的场景下的图像配准问题提供了解决方案。 展开更多
关键词 图像配准 随机抽样一致性检验 仿射变换 暗场成像
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核/壳型Fe/Y_2O_3纳米复合粒子的制备及微结构分析 被引量:2
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作者 俞快 黄昊 +2 位作者 张雪峰 王登科 董星龙 《材料科学与工程学报》 CAS CSCD 北大核心 2009年第5期727-730,共4页
以Fe和Y2O3的微米粉为原料,压制成块体靶材,利用物理气相蒸发法原位合成了核/壳型Fe/Y2O3纳米复合粒子,并对其成分、形态和微结构进行了研究。高分辨透射电镜和暗场成像分析结果表明Fe/Y2O3纳米复合粒子具有清晰的"核/壳"结构... 以Fe和Y2O3的微米粉为原料,压制成块体靶材,利用物理气相蒸发法原位合成了核/壳型Fe/Y2O3纳米复合粒子,并对其成分、形态和微结构进行了研究。高分辨透射电镜和暗场成像分析结果表明Fe/Y2O3纳米复合粒子具有清晰的"核/壳"结构,其内核及外壳分别为-αFe和体心立方相Y2O3。通过"定量氧辅助-气-液-固"机制对纳米复合粒子的形成过程进行了探讨。实验结果表明,本文所采用的物理气相方法实现了稀土氧化物包覆异质金属纳米胶囊的合成,为多组元纳米结构的复合提供了实验依据。 展开更多
关键词 Fe/Y2O3 纳米粒子 核/壳 稀土 暗场成像
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高能电子成像暗场成像技术特性研究及改进方案 被引量:1
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作者 肖家浩 曹树春 +7 位作者 张子民 李中平 申晓康 赵全堂 程锐 刘铭 赵永涛 袁平 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2019年第11期105-111,共7页
基于EGS5与PARMELA模拟软件组成的高能电子成像系统,对暗场成像的模拟研究发现,通过调节光阑位置实现的暗场成像结果存在失真现象。针对该失真现象提出的改进方案,消除了暗场成像结果的失真。通过对40 MeV电子透射7~224μm的铝样品开展... 基于EGS5与PARMELA模拟软件组成的高能电子成像系统,对暗场成像的模拟研究发现,通过调节光阑位置实现的暗场成像结果存在失真现象。针对该失真现象提出的改进方案,消除了暗场成像结果的失真。通过对40 MeV电子透射7~224μm的铝样品开展的成像模拟结果表明:40 MeV高能电子暗场成像技术在铝样品厚度小于25μm情况下具有明显的面密度分辨优势,且空间分辨率达到μm量级,非常适用于高能量密度物质诊断。 展开更多
关键词 高能量密度物理 高能电子成像 暗场成像 空间分辨能力 面密度分辨本领
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Plasmonic locator with sub-diffraction-limited resolution for continuously accurate positioning
7
作者 Peng Fei Gao Hong Yan Zou +2 位作者 Ming Xuan Gao Yuan Fang Li Cheng Zhi Huang 《Aggregate》 2022年第2期154-161,共8页
Both the accurate distance measurement and positioning information at the nanoscale are important for the analysis of micro/nano interactions.Plasmon ruler has been an indispensable optical tool to detect the chemical... Both the accurate distance measurement and positioning information at the nanoscale are important for the analysis of micro/nano interactions.Plasmon ruler has been an indispensable optical tool to detect the chemical and biological dynamic processes via distance-dependent plasmon coupling in the nearly aggregated state.But it cannot disclose the detailed and accurate information of positions and dynamic movements of its two plasmonic components owing to the inherent diffraction limit.Herein,a plasmonic locator is presented which consists of a heterotypic pair of red/blue plasmonic components with significant wavelength difference(∼150 nm).Attributed to the detuned energy(∼0.64 eV)of the two components,the plasmonic locator has the ability of sub-diffraction-limited resolution(center to center,30 nm)and accurate positioning under conventional dark-field microscopy,making the relative dynamic information of nearby red/blue components be recorded accurately at video rate.As an important complement to the current aggregate science and technology of plasmonics,this newly developed plasmonic locator presents a facile means to realize super-resolution imaging,accurate positioning,and continuous tracing in chemical and biological interactions at the single-molecule level. 展开更多
关键词 accurate positioning dark-field microscopy image reconstruction plasmonic locator sub-diffractionlimited resolution
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大口径精密光学元件质量检测装置 被引量:3
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作者 米曾真 谢志江 +3 位作者 袁晓东 刘长春 徐旭 楚红雨 《计量学报》 CSCD 北大核心 2012年第4期321-325,共5页
针对精密光学元件表面缺陷检测效率低、大口径元件不便于检测问题,设计了一种应用于大型激光装置的大口径光学元件缺陷检测装置。通过强光手电筒、LED灯及高亮度卤素灯3种光源对40mm×40mm的K9样片暗场成像对比实验,得知光照强度... 针对精密光学元件表面缺陷检测效率低、大口径元件不便于检测问题,设计了一种应用于大型激光装置的大口径光学元件缺陷检测装置。通过强光手电筒、LED灯及高亮度卤素灯3种光源对40mm×40mm的K9样片暗场成像对比实验,得知光照强度最大的卤素灯光源检测效果最佳。研究了基于线阵CCD扫描的三维电控平移台的运动机理,确保高精度图像的采集。在此基础上,分析了图像区域定位、二值化处理、缺陷的检测等关键技术,实现了元件的高精度、实时在线检测。 展开更多
关键词 计量学 精密光学元件 暗场成像 图像处理 激光惯性约束聚变 线阵CCD 三维平移台
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基于Mask R-CNN的触摸屏玻璃疵病检测与识别 被引量:3
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作者 张博 周军 +1 位作者 王芳 韩森 《软件导刊》 2019年第2期64-67,71,共5页
为快速有效地检测与识别触摸屏玻璃疵病,提出了一种基于Mask R-CNN技术的检测与识别方法。Mask R-CNN是Faster R-CNN技术的扩展,其在边界框识别的现有分支上添加一个并行的用于预测对象掩膜的分支,是基于R-CNN系列、FPN、FCIS等工作之... 为快速有效地检测与识别触摸屏玻璃疵病,提出了一种基于Mask R-CNN技术的检测与识别方法。Mask R-CNN是Faster R-CNN技术的扩展,其在边界框识别的现有分支上添加一个并行的用于预测对象掩膜的分支,是基于R-CNN系列、FPN、FCIS等工作之上的一种技术,相对于传统的目标检测和分割算法有很大提升。使用暗场散射成像、多图片堆栈等方法采集数据样本,同时采用几何变换方法扩增样本库。为提升训练速率和检测精确率,根据训练样本差异性,通过测试不同的VGG16、ResNet50+FPN以及ResNet101+FPN主干网络提取图像特征。实验表明,ResNet50+FPN的识别精确率较高,达到96.7%。基于Mask R-CNN的检测与识别方法不仅能对疵病快速检测与识别,还能提高识别精确率。 展开更多
关键词 MaskR-CNN 疵病检测 暗场散射 多图片堆栈 触摸屏玻璃
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基于TMS320C6748的暗场图像实时处理系统 被引量:1
10
作者 刘国华 鲁楷滨 +1 位作者 杜谦 肖靖楠 《微电子学与计算机》 CSCD 北大核心 2018年第8期128-131,共4页
以浮点型DSP(TMS320C6748)处理器为核心,设计了一种暗场图像实时处理系统,探讨了系统的原理和设计方法,给出了系统的实现方案,并进行了金纳米球暗场图像的采集与分析实验.系统通过步进电机控制暗场系统分光光栅转动,匹配暗场图像的连续... 以浮点型DSP(TMS320C6748)处理器为核心,设计了一种暗场图像实时处理系统,探讨了系统的原理和设计方法,给出了系统的实现方案,并进行了金纳米球暗场图像的采集与分析实验.系统通过步进电机控制暗场系统分光光栅转动,匹配暗场图像的连续采集;同时,通过CMOS摄像头完成图像采集,并由DSP进行图像处理,得到待测样品散射光谱图.实验表明,金纳米球散射的实测与理论光谱特性基本吻合,检测精度达到了预期要求.该图像处理系统实现了对暗场图像的实时处理,在肿瘤早期诊疗、重金属检测、生化实时检测等领域具有重要的应用价值. 展开更多
关键词 DSP(TMS320C6748) 实时处理 暗场图像 散射光谱
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结合邻域信息的带钢表面明暗域缺陷图像配准 被引量:1
11
作者 魏玉兰 颜云辉 +1 位作者 李兵 董德威 《东北大学学报(自然科学版)》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第11期1619-1622,共4页
为解决带钢表面明暗域缺陷图像检测方式采集到的同一位置处的图片之间存在位移及旋转问题,同时考虑到因板带振动及现场生产环境造成的噪声影响,提出采用结合邻域内像素间空间与灰度信息的互信息配准方法.在互信息配准计算中图像中每个... 为解决带钢表面明暗域缺陷图像检测方式采集到的同一位置处的图片之间存在位移及旋转问题,同时考虑到因板带振动及现场生产环境造成的噪声影响,提出采用结合邻域内像素间空间与灰度信息的互信息配准方法.在互信息配准计算中图像中每个像素的灰度值由其邻域内像素的灰度值按照距离及灰度变化关系分配不同的权值共同得到.实验证明,该方法的配准精度完全可满足带钢缺陷检测需求,有效减弱了噪声对配准精度的影响,为带钢表面缺陷识别及质量评价奠定了基础. 展开更多
关键词 带钢 明暗域 缺陷检测 邻域信息 互信息 图像配准
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基于Matlab的暗场图像处理算法研究
12
作者 董玥萌 杜谦 +1 位作者 张文嘉 刘国华 《微电子学与计算机》 2021年第10期35-41,共7页
为了克服传统暗场图像处理误差较大、重复性较差等问题,文章提出一种暗场光谱分析算法.此算法以Matlab为平台,在暗场环境下通过图像膨胀等方法对金纳米粒子进行精确识别并计算亮度,同时考虑光谱标准化、除去污染物杂质等问题,然后重建... 为了克服传统暗场图像处理误差较大、重复性较差等问题,文章提出一种暗场光谱分析算法.此算法以Matlab为平台,在暗场环境下通过图像膨胀等方法对金纳米粒子进行精确识别并计算亮度,同时考虑光谱标准化、除去污染物杂质等问题,然后重建单粒子散射峰并记录其光谱特性.金纳米棒检测实验结果表明,此算法相较于根据粒子亮度进行二值化处理的传统方法在识别粒子上更加灵活精确,粒子识别率可达91.33%,粒子拟合的准确率提升了15.59%.此算法还可以批量检测粒子在结合前后的光谱特性,数据结果与理论值相符,数据处理效果良好,为暗场图像处理领域提供了更灵活、快速、准确性高的新型算法. 展开更多
关键词 MATLAB 暗场图像 金纳米粒子 单粒子光谱
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陶瓷ZrO_2晶粒的透射电镜研究
13
作者 梁超伦 江丹 +3 位作者 李雪梅 廖成竹 杜金菊 赵文霞 《中山大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 2007年第S2期219-222,共4页
运用透射电子显微镜中的暗场技术,观察和研究了陶瓷ZrO2多晶试样的晶粒形貌特征。在暗场像下能清楚观察到其晶粒呈六方片状,尺寸在305nm到410nm之间。与明场像相比,暗场像中晶粒的取向衬度更加明显,暗场技术是研究和观察多晶颗粒形态和... 运用透射电子显微镜中的暗场技术,观察和研究了陶瓷ZrO2多晶试样的晶粒形貌特征。在暗场像下能清楚观察到其晶粒呈六方片状,尺寸在305nm到410nm之间。与明场像相比,暗场像中晶粒的取向衬度更加明显,暗场技术是研究和观察多晶颗粒形态和尺寸的有力工具之一。 展开更多
关键词 陶瓷ZrO2 形貌 暗场像
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基于稀疏矩阵的光学元件表面疵病检测 被引量:8
14
作者 陈晨 王红军 +4 位作者 王大森 田爱玲 刘丙才 朱学亮 刘卫国 《中国激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2019年第4期174-182,共9页
提出了一种基于稀疏矩阵的表面疵病快速拼接方法。该方法采用环形白光光源均匀地照射到被测元件表面,光经显微散射暗场成像系统后形成暗背景下的亮疵病图像。通过对光学元件的x,y方向进行扫描,得到子孔径拼接图像。基于稀疏矩阵和图像拼... 提出了一种基于稀疏矩阵的表面疵病快速拼接方法。该方法采用环形白光光源均匀地照射到被测元件表面,光经显微散射暗场成像系统后形成暗背景下的亮疵病图像。通过对光学元件的x,y方向进行扫描,得到子孔径拼接图像。基于稀疏矩阵和图像拼接,对子孔径图像进行快速拼接,得到全孔径疵病图像。基于最小外接矩形原理,对图像疵病进行识别和分类,最终得到7个光学元件表面疵病划痕,其最大长、宽分别为15.2110 mm和0.0297 mm;麻点有5个,其最大长、宽分别为0.1089 mm和0.0967 mm。将测量得到的划痕宽度与标准划痕宽度进行对比,得到划痕宽度的相对误差范围为-5.00%~5.50%。在此基础上,对实际的光学表面进行检测,得到光学元件表面疵病信息。 展开更多
关键词 测量 疵病检测 显微散射暗场成像 图像拼接 稀疏矩阵 疵病识别
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超薄切片与高角环形暗场像联用表征Pd/Al_2O_3催化剂贵金属的分散性 被引量:5
15
作者 杨卫亚 凌凤香 +2 位作者 沈智奇 王少军 张会成 《精细石油化工》 CSCD 北大核心 2017年第4期1-4,共4页
通过超薄切片与高角环形暗场像联用表征蒽醌加氢制双氧水Pd/Al_2O_3催化剂贵金属的分散性,提出了以平均尺寸、尺寸分布、空间粒子密度及表面原子分散度4个指标全面评估负载型贵金属催化剂金属分散性质的方法。实验结果显示,Pd/Al_2O_3... 通过超薄切片与高角环形暗场像联用表征蒽醌加氢制双氧水Pd/Al_2O_3催化剂贵金属的分散性,提出了以平均尺寸、尺寸分布、空间粒子密度及表面原子分散度4个指标全面评估负载型贵金属催化剂金属分散性质的方法。实验结果显示,Pd/Al_2O_3催化剂切片厚度以30~40nm较为适宜,能够获得幅面更大的试样薄区,从而根据高角环形暗场像得到催化剂的平均尺寸、尺寸分布、空间粒子密度及表面原子分散度的信息。超薄切片与高角环形暗场像联用可以克服化学吸附法及普通TEM表征贵金属分散度的不足。所述的组合表征方法与氢氧滴定相比,不仅可以得到贵金属原子表面分散度,还可以更直观、全面评价贵金属在载体上的分散状态,尤其对不适合使用氢氧滴定法及常规TEM衬度成像难以区分的金属纳米粒子和载体的体系,具有较高应用价值。 展开更多
关键词 超薄切片 高角环形暗场像 贵金属催化剂 分散性
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扫描电镜中扫描透射成像装置的研制及应用
16
作者 赵学平 侯小虎 +4 位作者 刘飞 梁绍波 郭春霞 崔晓明 白朴存 《实验科学与技术》 2023年第3期57-61,共5页
使用扫描电镜自带的背散射电子探头(BSED)作透射散射电子探测器,设计了一套适合FEI Quanta 650FEG扫描电镜使用的扫描透射(STEM)成像装置,并制定了该STEM成像装置的操作说明。以埃洛石复合ZrO_(2)纳米颗粒为观察对象,对自制STEM成像装... 使用扫描电镜自带的背散射电子探头(BSED)作透射散射电子探测器,设计了一套适合FEI Quanta 650FEG扫描电镜使用的扫描透射(STEM)成像装置,并制定了该STEM成像装置的操作说明。以埃洛石复合ZrO_(2)纳米颗粒为观察对象,对自制STEM成像装置的实用性进行了验证。结果表明:STEM像衬度与背散射电子探头到样品之间的距离相关,通过调整背散射电子探头与样品之间的距离,可以实现高角环形暗场像的采集,使ZrO_(2)纳米颗粒的亮度明显高于埃洛石;STEM像衬度与透射电镜采集的HAADF-STEM像一致,元素分布状态也与埃洛石和ZrO_(2)纳米颗粒对应,表明所研制的STEM成像装置具有较好的实用性。 展开更多
关键词 扫描电镜 扫描透射电镜 成像装置 像衬度 高角环形暗场像
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美人蕉矮化病植株中发现的一种类似类病毒的RNA 被引量:2
17
作者 陈炜 田波 +5 位作者 朱王香 杨希才 丁明孝 盖秀珍 翟中和 陈立华 《病毒学报》 CAS 1985年第3期268-272,共5页
北京栽培的多年生植物美人蕉(Canna Indica)发生一种矮化病(CaSD),病叶组织中未发现病毒颗粒,但发现一种分子量约为1.9×10~5的核酸。这种核酸对核糖核酸酶敏感,抗脱氧核糖核酸酶,称谓CaSD-RNA。在CF-11纤维素柱上层析,90%以上CaSD... 北京栽培的多年生植物美人蕉(Canna Indica)发生一种矮化病(CaSD),病叶组织中未发现病毒颗粒,但发现一种分子量约为1.9×10~5的核酸。这种核酸对核糖核酸酶敏感,抗脱氧核糖核酸酶,称谓CaSD-RNA。在CF-11纤维素柱上层析,90%以上CaSD-RNA可在含15%乙醇缓冲液中洗脱下来。分子展层后用暗场电镜观察,在不变性条件下为类似棒状的结构。在变性条件下为环状分子结构。用双向聚丙烯酰胺凝胶电泳技术证实,CaSD-RNA为环状分子。其侵染性尚待证实。 展开更多
关键词 类病毒 美蕉人矮化病 双向电泳 暗场电镜图像
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纳米多相金属结构尖端分析方法(四)
18
作者 中村吉男 陈恒庆 《冶金标准化与质量》 2006年第5期46-49,共4页
首先叙述了衍射衬比度法及与其表里一致关系的电子衍射。其次,叙述最近电子显微镜情况与暗场像观察中的注意事项。最后,对分析纳米多相结构的有效空心光锥照明暗场像及其特征,作一介绍。
关键词 衍射衬比度法 空心光锥照明暗场像 特征
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