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液相沉积法制备TiO_2颗粒表面包覆SiO_2纳米膜 被引量:43
1
作者 覃操 王亭杰 金涌 《物理化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2002年第10期884-889,共6页
研究了用液相沉积法在TiO2颗粒表面包覆SiO2纳米膜的过程.通过透射电镜(TEM)和酸溶实验分析,证实本实验在TiO2颗粒表面包覆了一层连续、致密的SiO2纳米膜.(?)-电位分析表明,颗粒表面只需少量包覆就可以显著改变颗粒表面的电动力学行为... 研究了用液相沉积法在TiO2颗粒表面包覆SiO2纳米膜的过程.通过透射电镜(TEM)和酸溶实验分析,证实本实验在TiO2颗粒表面包覆了一层连续、致密的SiO2纳米膜.(?)-电位分析表明,颗粒表面只需少量包覆就可以显著改变颗粒表面的电动力学行为.采用X射线荧光光谱分析仪(XRF)测定SiO2包覆量随包覆过程的变化.通过X射线光电子能谱(XPS)分析,获得Ti2p、Si2p及Ols电子结合能及其相对强度随包覆过程的变化规律,揭示硅酸分子在TiO2颗粒表面的包覆过程.分析表明,初期形成的活性硅酸分子与TiO2颗粒表面的羟基反应形成Ti-O-Si键,后期形成的硅酸分子与已键合在表面的硅酸发生缩合反应,形成连续致密的硅膜,膜层在陈化过程中继续缓慢生长. 展开更多
关键词 液相沉积法 制备 TiO2颗粒 表面包覆 SIO2 纳米膜 二氧化钛 二氧化硅 改性 光催化剂
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磁控溅射镀膜中工作气压对沉积速率的影响 被引量:16
2
作者 王璘 余欧明 +2 位作者 杭凌侠 赵保平 王忠厚 《真空》 CAS 北大核心 2004年第1期9-12,共4页
沉积速率是磁控溅射镀膜技术中的一项重要指标 ,它由许多因素决定。为了定性地了解沉积速率与工作气压之间的关系 ,通过实验测定了不同工作气压下的沉积速率 ,发现存在一个最大值 ,并对应有一个最佳工作气压。运用气体放电理论对这一现... 沉积速率是磁控溅射镀膜技术中的一项重要指标 ,它由许多因素决定。为了定性地了解沉积速率与工作气压之间的关系 ,通过实验测定了不同工作气压下的沉积速率 ,发现存在一个最大值 ,并对应有一个最佳工作气压。运用气体放电理论对这一现象进行了分析。这个结论为提高薄膜制备效率指明了方向 。 展开更多
关键词 磁控溅射镀膜 沉积速率 工作气压 磁场
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电化学沉积羟基磷灰石过程晶体生长行为 被引量:18
3
作者 胡仁 时海燕 +2 位作者 林理文 庄燕燕 林昌健 《物理化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2005年第2期197-201,共5页
采用恒电流电化学沉积方法从含钙与磷盐水溶液中直接在纯金属钛电极表面沉积纳米羟基磷灰石涂层,运用EDS、SEM、XRD、FTIR等方法对其进行表征.重点考察了一种典型制备条件下钙磷沉积层的形貌、结构及组分随沉积时间的变化,进而探讨相应... 采用恒电流电化学沉积方法从含钙与磷盐水溶液中直接在纯金属钛电极表面沉积纳米羟基磷灰石涂层,运用EDS、SEM、XRD、FTIR等方法对其进行表征.重点考察了一种典型制备条件下钙磷沉积层的形貌、结构及组分随沉积时间的变化,进而探讨相应条件下电化学沉积羟基磷灰石涂层晶体生长过程的基本规律.研究表明电化学沉积法可用于在医用金属表面直接涂覆含钙离子缺陷的纳米羟基磷灰石涂层,典型条件下涂层的生长规律为:(1)沉积过程中羟基磷灰石晶粒以c轴方向沿沉积面法线方向择优生长,且这一趋势延续整个沉积过程;(2)内层晶粒的生长受到外层晶粒生长的抑制,对于同层的晶粒,当晶粒分布密集时,晶粒生长可能发生相互制约;(3)随沉积时间的延长,沉积量增加,而膜层的化学组成基本不发生变化. 展开更多
关键词 羟基磷灰石涂层 电化学沉积 晶体生长 沉积时间
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冷喷涂设备及冷喷涂技术应用研究进展 被引量:25
4
作者 赵国锋 王莹莹 +2 位作者 张海龙 唐鋆磊 陈永东 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2017年第11期198-205,共8页
冷喷涂技术相比于传统热喷涂技术有许多优势,例如喷涂温度低,涂层氧含量低,孔隙率低,在喷涂过程中不易发生氧化、烧损、相变等现象,这使得传统喷涂技术难以制备的氧敏感、热敏感、非晶、纳米材料涂层成为可能。从冷喷涂技术原理出发,介... 冷喷涂技术相比于传统热喷涂技术有许多优势,例如喷涂温度低,涂层氧含量低,孔隙率低,在喷涂过程中不易发生氧化、烧损、相变等现象,这使得传统喷涂技术难以制备的氧敏感、热敏感、非晶、纳米材料涂层成为可能。从冷喷涂技术原理出发,介绍了各类冷喷涂设备及冷喷涂涂层的沉积机理,详细阐述了冷喷涂涂层结合机理和结合方式(机械咬合、物理结合、冶金结合、化学结合),介绍了各类冷喷涂装备(高压和低压冷喷涂系统、真空冷喷涂系统、激光辅助冷喷涂系统、静电辅助冷喷涂系统、脉冲气体冷喷涂系统和激波风洞冷喷涂系统)及其研究现状。综述了近几年冷喷涂技术在防腐涂层、耐磨涂层、生物医用、抗菌涂层、电子工业、功能涂层、修复与再制造等领域的研究和应用现状,最后对冷喷涂技术的应用和发展前景进行了展望。 展开更多
关键词 冷喷涂 涂层 原理 设备 沉积机理
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织物阻燃涂层新工艺的研究进展 被引量:24
5
作者 任元林 张悦 +1 位作者 曾倩 谷叶童 《纺织学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2017年第9期168-173,共6页
针对传统的织物阻燃处理一般采用添加含卤等阻燃剂,存在对环境危害大,应用范围相对小的不足,在备受国内外研究者关注的阻燃涂层工艺研究基础上,系统介绍了可赋予天然或合成纤维及其织物优良阻燃性能的各种新型阻燃涂层技术,即溶胶-凝胶... 针对传统的织物阻燃处理一般采用添加含卤等阻燃剂,存在对环境危害大,应用范围相对小的不足,在备受国内外研究者关注的阻燃涂层工艺研究基础上,系统介绍了可赋予天然或合成纤维及其织物优良阻燃性能的各种新型阻燃涂层技术,即溶胶-凝胶法、层层自组装法以及生物大分子沉积技术,分别阐述了3种方法用于织物阻燃整理的具体工艺及其各自的国内外研究进展。与溶胶-凝胶和层层自组装技术相比,针对生物大分子沉积技术的研究相对较少,但其为纺织材料阻燃整理提供了一种新的可持续发展路线,也为织物阻燃涂层的设计提供了新思路。 展开更多
关键词 阻燃 涂层 溶胶-凝胶法 层层自组装法 生物大分子沉积
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电泳沉积制备羟基磷灰石/生物玻璃梯度涂层的研究 被引量:8
6
作者 陈晓明 焦玉恒 许传波 《材料科学与工程》 CSCD 北大核心 2002年第4期545-548,共4页
本文研究了羟基磷灰石颗粒、生物玻璃颗粒在醋酸介质中的电泳沉积规律 ,利用它们不同的沉积规律设计了羟基磷灰石 /生物玻璃梯度沉积装置。用电子探针分析了涂层横截面元素分布 。
关键词 制备 生物玻璃 羟基磷灰石 梯度涂层 电泳沉积 生物材料 醋酸介质
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等离子喷涂沉积过程与残余应力分析 被引量:17
7
作者 张显程 巩建鸣 涂善东 《压力容器》 2003年第1期33-36,共4页
介绍了等离子喷涂的沉积过程。由于基体与涂层的热膨胀系数的不匹配 ,在它们共同冷却的过程中 ,产生了不同的热变形。采用有限元瞬态热分析方法对等离子喷涂过程的温度场进行了分析。在此基础上 ,进一步计算了常用的Al2 O3涂层与 16Mn... 介绍了等离子喷涂的沉积过程。由于基体与涂层的热膨胀系数的不匹配 ,在它们共同冷却的过程中 ,产生了不同的热变形。采用有限元瞬态热分析方法对等离子喷涂过程的温度场进行了分析。在此基础上 ,进一步计算了常用的Al2 O3涂层与 16Mn基体组成的喷涂系统的残余应力分布 。 展开更多
关键词 等离子喷涂 涂层 沉积 有限元 残余应力
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多层涂层的摩擦学研究进展 被引量:13
8
作者 韩修训 阎逢元 +1 位作者 阎鹏勋 刘维民 《机械工程材料》 CAS CSCD 北大核心 2002年第5期1-5,41,共6页
多层涂层与单一涂层相比具有优异的力学性能 :低的内应力、高附着力、适当的硬度刚度比、低的摩擦及磨损。简要综述了多层涂层在摩擦学领域内新的研究进展 ,概括了目前多层涂层的制备方法及结构设计 。
关键词 多层涂层 涂层摩擦学 气相沉积
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金属钨涂层制备工艺的研究进展 被引量:19
9
作者 刘艳红 张迎春 葛昌纯 《粉末冶金材料科学与工程》 EI 2011年第3期315-322,共8页
金属钨属于难熔金属,具有高的强度和硬度,同时具有良好的化学稳定性,不易受到腐蚀,但其昂贵的价格及难加工特性限制了其应用,因此,用金属钨作为涂层材料来改善基体材料的性能,引起了众多研究者的关注。该文综述纯金属钨涂层的几种重要... 金属钨属于难熔金属,具有高的强度和硬度,同时具有良好的化学稳定性,不易受到腐蚀,但其昂贵的价格及难加工特性限制了其应用,因此,用金属钨作为涂层材料来改善基体材料的性能,引起了众多研究者的关注。该文综述纯金属钨涂层的几种重要制备方法,包括:熔盐电镀法,等离子喷涂法,爆炸喷涂法,气相沉积法等。等离子喷涂是钨涂层制备中最为成熟的1种方法,基体材料不受限制,涂层厚度容易控制。熔盐电镀法能够通过电化学反应从化合物中一步获得厚度均匀的金属钨涂层,并且可避免引入氧和碳等杂质。化学气相沉积法获得的钨涂层致密度高;物理气相沉积法可以在任意基材上获得钨涂层。同时介绍这些方法各自的技术特点和目前的研究现状,并对金属钨涂层的制备方法进行展望。 展开更多
关键词 钨涂层 电镀 喷涂 气相沉积 制备
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纳米复合电沉积技术及机理研究的现状 被引量:15
10
作者 孙伟 张覃轶 +1 位作者 叶卫平 黄尚宇 《材料保护》 CAS CSCD 北大核心 2005年第6期41-44,共4页
简介了纳米复合镀层的性能即纳米复合镀层比常规复合镀层具有更高的硬度、更优良的耐磨性和耐蚀性,重点介绍了复合电沉积机理的3种理论和6个数学模型,指出了各种模型的优点和不足之处,指出了需要完善的数学模型的研究方向。
关键词 复合电沉积 复合镀层 纳米粒子 沉积机理
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批量热浸镀锌工艺机理的研究现状 被引量:18
11
作者 王胜民 赵晓军 +1 位作者 党建伟 何明奕 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2016年第5期19-25,共7页
热浸镀锌是钢铁材料户外长效防护的最佳选择。传统的调整参数、试加合金等"试错法"难以满足现代制造业的发展,故全面、完整的热浸镀锌机理研究已迫在眉睫。针对我国批量热浸镀锌产量大、重经验轻理论、技术落后、污染严重等特... 热浸镀锌是钢铁材料户外长效防护的最佳选择。传统的调整参数、试加合金等"试错法"难以满足现代制造业的发展,故全面、完整的热浸镀锌机理研究已迫在眉睫。针对我国批量热浸镀锌产量大、重经验轻理论、技术落后、污染严重等特点,从镀层的形成机理、镀层的合金化机理、锌浴液态特征等方面综述分析了批量热浸镀锌工艺理论的研究现状和不足,指出了基体和锌浴界面之间的相互作用、合金元素添加的可预测性、浸镀后表面粘附锌液层的结晶、锌浴液态特征等研究的重要性。建议从以下几个方面完善热浸镀锌机理:加强基材离开锌浴至冷却结晶结束这一阶段镀层组织结构的演变研究;在研究镀层合金化机理的同时,注重合金化镀层的应用推广,尤其是加强低合金高强钢的热浸镀锌研究;重视并加强锌浴表面张力、流动性、结晶特性的液态特征研究和数据积累;在形层机理研究的基础上,结合工艺参数进行镀层的预设计及镀层预控制研究。 展开更多
关键词 批量热浸镀锌 热浸镀锌 镀锌 镀锌层 形层机理 合金镀层 锌浴
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长春光机所深紫外光学薄膜技术研究进展 被引量:17
12
作者 张立超 高劲松 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第11期2395-2401,共7页
综述了深紫外光学薄膜技术在中科院长春光学精密机械与物理研究所的研究进展。为满足高性能深紫外光学系统对薄膜光学元件的需求,在以下方面开展了系统研究:定制了两台深紫外光学薄膜专用沉积设备,分别用于高性能深紫外光学薄膜的热蒸... 综述了深紫外光学薄膜技术在中科院长春光学精密机械与物理研究所的研究进展。为满足高性能深紫外光学系统对薄膜光学元件的需求,在以下方面开展了系统研究:定制了两台深紫外光学薄膜专用沉积设备,分别用于高性能深紫外光学薄膜的热蒸发与离子束溅射沉积工艺,实现了φ410mm光学元件的镀膜;通过优化薄膜沉积工艺,双面镀膜样品在193nm处典型透过率为98.5%~99%;对影响光学元件面形精度的因素进行了考察,可实现的膜厚均匀性为0.1%(rms),能够满足高质量深紫外光学系统的容差要求;采用X射线衍射方法对薄膜应力进行了测量,并采用有限元方法分析了应力对元件面形的影响;针对影响薄膜实用性能的因素,提出了针对性的解决方法,采用紫外辐照方法恢复了环境污染引起的透过率下降,发展了基于晶振监控法的膜厚精确控制方法。基于这些研究的阶段性成果,明确了下一步的研究方向。 展开更多
关键词 深紫外光学 光学薄膜 薄膜沉积 薄膜测量 透过率 面形精度
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TiN涂层微观组织结构与表面性能的研究 被引量:9
13
作者 周兰英 杨健 贾庆莲 《材料科学与工程》 CSCD 北大核心 2003年第1期80-82,共3页
不同沉积工艺得到的TiN涂层高速钢的物相主次不同 ,晶粒取向亦不同 ;通过实验分析得到以(111)晶面择优取向的试件表面原子密度最高 ,表面能亦最高 ,其耐磨性亦最好。
关键词 TIN涂层 微观组织 结构 表面性能 高速钢 沉积工艺 晶粒取向 氮化钛 等离子体 离子镀 表面处理
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工作参数对平面磁控溅射系统沉积速率的影响 被引量:13
14
作者 邱清泉 励庆孚 +2 位作者 苏静静 Jiao Yu Finley Jim 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第1期46-51,共6页
为了分析磁场、阴极电压、气压和靶基板间距等工作参数对沉积速率的影响,本文对磁控放电过程和沉积过程进行了讨论,并着重对沉积速率计算的无碰撞模型和碰撞模型进行了研究。靶功率是影响沉积速率的关键因素,通过对磁控放电特性分析发现... 为了分析磁场、阴极电压、气压和靶基板间距等工作参数对沉积速率的影响,本文对磁控放电过程和沉积过程进行了讨论,并着重对沉积速率计算的无碰撞模型和碰撞模型进行了研究。靶功率是影响沉积速率的关键因素,通过对磁控放电特性分析发现,随着磁场、电压的增大,等离子体阻抗降低,放电电流和靶功率增大,随着气压的增大,放电电流和靶功率先增大后减小;采用碰撞模型对沉积速率进行模拟发现,在靶功率恒定的情况下,沉积速率随着气压和靶基板间距的增大而减小。因此,在气压和靶基板间距保持恒定的情况下,沉积速率会随着磁场和电压的增大而增大;而在磁场、电压和靶基板间距保持恒定的情况下,沉积速率随着气压的增大,先增大后减小。上述结论对于薄膜制备效率和质量的提高具有一定的理论指导意义。 展开更多
关键词 磁控溅射 镀膜 沉积速率 仿真
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半导体制造中涂胶工艺的研究进展 被引量:14
15
作者 向东 何磊明 +2 位作者 瞿德刚 牟鹏 段广洪 《中国机械工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第3期354-361,共8页
涂胶工艺过程质量的好坏直接影响到光刻工艺的质量,综述了旋转涂胶法和雾化喷涂法两种涂胶方法的工艺特点和研究进展,另外还对电沉积法、气相沉积法等工艺方法进行了简要介绍。对比了旋涂法、喷涂法和电沉积法等涂胶方法的工艺特点,并... 涂胶工艺过程质量的好坏直接影响到光刻工艺的质量,综述了旋转涂胶法和雾化喷涂法两种涂胶方法的工艺特点和研究进展,另外还对电沉积法、气相沉积法等工艺方法进行了简要介绍。对比了旋涂法、喷涂法和电沉积法等涂胶方法的工艺特点,并对不同涂胶工艺方法的应用场合进行了总结。 展开更多
关键词 旋涂 喷涂 电沉积 光刻工艺
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石墨烯在涂镀层防腐领域的应用研究及进展 被引量:14
16
作者 李泽民 王胜民 +2 位作者 赵晓军 张俊 潘艳芝 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2020年第1期154-162,共9页
石墨烯作为新型材料,具有优异的化学稳定性、极好的导电性及可增强树脂附着力和无二次污染等综合性能,成为诸多工业应用领域的研究热点。首先,简要概述了近年来石墨烯分散性的发展历程,分散方法主要以物理和化学分散法为主,并对两种方... 石墨烯作为新型材料,具有优异的化学稳定性、极好的导电性及可增强树脂附着力和无二次污染等综合性能,成为诸多工业应用领域的研究热点。首先,简要概述了近年来石墨烯分散性的发展历程,分散方法主要以物理和化学分散法为主,并对两种方法的弊端进行了分析和讨论,得出两种方法在分散过程中都会引入缺陷及结构受损。其次,概述了石墨烯的两种防腐机理,第一种机理是石墨烯片状结构堆叠形成致密物理阻隔层,第二种机理是依靠石墨烯良好的导电性,给涂镀层提供良好的导电循环通路,赋予涂镀层良好的电化学保护性能。然后,对石墨烯在薄膜防腐领域和水性有机防腐涂料功能化填料应用等方面进行了详细介绍,比较了各类复合涂料制备方法的优缺点并提出了改进策略,分析得到了石墨烯增强有机涂料附着力的同时,还提升了有机涂料的物理屏蔽性能、力学性能和防腐性能。另外,介绍了石墨烯作为增强相在金属微粉镀层中的应用,通过电沉积和化学沉积法,在基体表面沉积石墨烯金属微粉复合镀层,复合镀层中的石墨烯具有极好的化学稳定性,抑制了镀层的腐蚀速率。最后,基于上述石墨烯在涂镀层中的作用及机械镀工艺,提出了“石墨烯-锌”的研究概念,并从分散稳定性、环保性、经济性、适用范围、产业标准化等方向,提出了石墨烯在防腐材料领域里的发展趋势及研究建议。 展开更多
关键词 石墨烯 涂料 镀层 电沉积 防腐 导电性
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工艺参数变化对冷喷涂铝沉积性能的影响 被引量:14
17
作者 D.Zhang P.H.Shipway D.G.McCartney 《中国表面工程》 EI CAS CSCD 2008年第4期1-7,共7页
在环境温度下以氦气为驱动气,在低碳钢基体上冷喷涂铝粉,采用工业纯铝粉,颗粒尺寸范围为-75+15μm。测得涂层沉积效率达到40%,孔隙率低于1.0vol%,涂层的硬度由铝粉末的硬度31kgf.mm-2提高到了53kgf.mm-2,这主要是涂层内产生严重塑性变... 在环境温度下以氦气为驱动气,在低碳钢基体上冷喷涂铝粉,采用工业纯铝粉,颗粒尺寸范围为-75+15μm。测得涂层沉积效率达到40%,孔隙率低于1.0vol%,涂层的硬度由铝粉末的硬度31kgf.mm-2提高到了53kgf.mm-2,这主要是涂层内产生严重塑性变形的结果。研究了滞止压力、喷涂距离、送粉速率和喷枪与基板相对运动速度等工艺参数变化对沉积效率的影响。结果表明,以上每一个工艺参数的变化均对沉积效率产生显著影响。滞止压力、喷涂距离和送粉速率通过改变颗粒碰撞速度来影响沉积效率;当碰撞速率降低时沉积效率降低。然而,当颗粒速度降低时,由于参与冲击的颗粒(非沉积颗粒)比例增加,涂层的孔隙率并没有被影响。当增加喷枪与基体的相对运动速度时,沉积速率显著降低;这一结果表明沉积效率还存在某种喷射流量或剂量的影响因素,例如在沉积初期的"激活"期,喷射剂量就直接影响了沉积效率。 展开更多
关键词 冷喷涂 AL涂层 工艺参数 沉积性能
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Effects of nitrogen flux on microstructure and tribological properties of in-situ TiN coatings deposited on TC11 titanium alloy by electrospark deposition 被引量:12
18
作者 洪翔 谭业发 +2 位作者 王小龙 谭华 徐婷 《Transactions of Nonferrous Metals Society of China》 SCIE EI CAS CSCD 2015年第10期3329-3338,共10页
In order to improve the tribological properties of titanium alloys,the in-situ TiN coatings were prepared by electrospark deposition(ESD) on the surface of TC11 titanium alloy.The effects of nitrogen flux on the mic... In order to improve the tribological properties of titanium alloys,the in-situ TiN coatings were prepared by electrospark deposition(ESD) on the surface of TC11 titanium alloy.The effects of nitrogen flux on the microstructure and tribological properties of TiN coatings were investigated.The results show that the coating is relative thin when the nitrogen flux is small and mainly consists of Ti2N,α-Ti,Ti O and TiN phases,and the metastable phase of Ti2N is developed due to the rapid solidification of ESD.While in excessive nitrogen flux condition,many micro-cracks and holes might be generated in the coating.In moderate nitrogen flux,the coating is mainly composed of TiN phase,and is dense and uniform(50-55 μm).The average hardness is HV0.2 1165.2,which is 3.4 times that of the TC11 substrate.The TiN coatings prepared in moderate nitrogen flux perform the best wear resistance.The wear loss of the coating is 0.4 mg,which is 2/9 that of the TC11 substrate.The main wear mechanisms of the coatings are micro-cutting wear accompanied by multi-plastic deformation wear. 展开更多
关键词 titanium alloy TiN coating electrospark deposition friction and wear
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圆柱形平面式磁控溅射靶的特点与设计原理 被引量:7
19
作者 孙东明 《昆明理工大学学报(理工版)》 2000年第2期54-57,共4页
介绍了一种根据矩形平面靶的结构原理设计圆柱形、平面式磁控溅射靶的方法 .并对如何发挥圆柱形。
关键词 磁控溅射 真空镀膜
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Al_2O_3/Cu复合镀层的微观结构及其生长模型 被引量:10
20
作者 赵乃勤 王玉林 +3 位作者 曲传江 董向红 郑冀 李国俊 《金属热处理学报》 CSCD 1999年第3期14-18,共5页
电沉积Al2O3/Cu 复合镀层的光镜及SEM 分析结果表明,复合镀层的组织结构受极板放置方式、电流密度和施镀时间的影响;电沉积初期以平面生长和螺旋生长两种方式进行,并以平面生长为主,形成胞状形态;沉积后期转向基体金属... 电沉积Al2O3/Cu 复合镀层的光镜及SEM 分析结果表明,复合镀层的组织结构受极板放置方式、电流密度和施镀时间的影响;电沉积初期以平面生长和螺旋生长两种方式进行,并以平面生长为主,形成胞状形态;沉积后期转向基体金属的择尤生长,形成脊状生长形态。 展开更多
关键词 复合镀层 电沉积 微观结构 生长模型 氧化铝
原文传递
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