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量子线材料折射率变化偏振相关性研究
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作者 周熠 缪庆元 +1 位作者 何平安 王宝龙 《光学与光电技术》 2019年第3期60-65,共6页
有源区载流子浓度变化导引的折射率变化是许多新型光通信器件的工作机理,对量子线材料折射率变化偏振相关性的研究有利于改善器件的性能。首先分析了线区材料组分、垒区材料组分、柱状量子线直径和载流子浓度对量子线材料TE模和TM模折... 有源区载流子浓度变化导引的折射率变化是许多新型光通信器件的工作机理,对量子线材料折射率变化偏振相关性的研究有利于改善器件的性能。首先分析了线区材料组分、垒区材料组分、柱状量子线直径和载流子浓度对量子线材料TE模和TM模折射率变化的影响。以此为基础,提出了一种实现量子线材料折射率变化低偏振相关的多参数调配方法,并设计出C波段(1 530~1 565 nm)内折射率变化低偏振相关(<1%)的InGaAs/InGaAsP量子线材料,表明该多参数调配方法对量子线材料折射率变化低偏振相关的设计具有指导作用。 展开更多
关键词 量子线 载流子引导 折射率变化 偏振相关 多参数调配
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兼顾增益和折射率变化的低偏振混合应变多量子阱结构研究
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作者 彭辉 缪庆元 《光学与光电技术》 2020年第3期111-118,共8页
对比分析了单量子阱TE模和TM模增益谱及其折射率变化谱随应变、阱宽的变化规律,同时分析了应变和阱宽对兼顾增益和折射率变化的影响。进一步考虑波导的光学限制因子及多量子阱阱间载流子浓度分布的不均匀性,提出一种多参数调配方法,据... 对比分析了单量子阱TE模和TM模增益谱及其折射率变化谱随应变、阱宽的变化规律,同时分析了应变和阱宽对兼顾增益和折射率变化的影响。进一步考虑波导的光学限制因子及多量子阱阱间载流子浓度分布的不均匀性,提出一种多参数调配方法,据此设计出C波段内兼顾增益谱和折射率变化谱的低偏振混合应变多量子阱结构。最后,通过分析选定合适的载流子浓度。当载流子浓度为3.22×1024m-3时,TE模和TM模3 dB谱宽交叠区面积分别为84.81 nm/cm和74.50 nm/cm,增益偏振相关性和折射率偏振相关性分别保持在4%和6%以内。该研究结果有助于未来全光网络中相关器件的优化设计。 展开更多
关键词 混合应变多量子阱 载流子导引 增益 折射率变化 3 dB谱宽交叠区面积 低偏振相关
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载流子导引的折射率变化偏振相关性研究
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作者 缪庆元 崔俊 +3 位作者 胡蕾蕾 何健 何平安 黄德修 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2012年第20期503-507,共5页
分析了载流子浓度、张应变量大小、量子阱阱宽和量子阱垒区材料组分对量子阱结构TE模和TM模折射率变化的影响.综合调配以上参数得到1530—1570 nm波长范围内同时具有大的折射率变化量(10^(-2)量级)和折射率变化低偏振相关(10^(-4)量级)... 分析了载流子浓度、张应变量大小、量子阱阱宽和量子阱垒区材料组分对量子阱结构TE模和TM模折射率变化的影响.综合调配以上参数得到1530—1570 nm波长范围内同时具有大的折射率变化量(10^(-2)量级)和折射率变化低偏振相关(10^(-4)量级)的量子阱结构.研究表明,不同的调配参数组合可以得到同一波长范围内基本一致的折射率变化谱. 展开更多
关键词 折射率变化 载流子导引 偏振相关 量子阱
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混合应变多量子阱实现折射率变化低偏振相关的理论分析
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作者 戴明 缪庆元 +3 位作者 何平安 王宝龙 何秀贞 骆意 《光学与光电技术》 2016年第2期64-69,共6页
考虑温度变化和载流子注入阱间分布不均匀性,给出求解量子阱材料折射率变化的理论分析模型。分析了量子阱应变量大小、阱宽、垒区材料组分和注入载流子浓度对TE模和TM模折射率变化的影响。设计出折射率变化低偏振相关的混合应变多量子... 考虑温度变化和载流子注入阱间分布不均匀性,给出求解量子阱材料折射率变化的理论分析模型。分析了量子阱应变量大小、阱宽、垒区材料组分和注入载流子浓度对TE模和TM模折射率变化的影响。设计出折射率变化低偏振相关的混合应变多量子阱结构,在0~40℃的温度范围,其折射率变化量在1 530~1 570nm波长范围内具有较大数值(6×10^-3),且具有低的偏振相关性;当载流子浓度从1×10^24 m-3增大到3×10^24 m-3时,其折射率变化量在增大的同时,仍可在一定温度下保持低偏振相关。 展开更多
关键词 多量子阱 混合应变 折射率变化 载流子导引 偏振相关
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Anomalous Channel Length Dependence of Hot-Carrier-Induced Saturation Drain Current Degradation in n-Type MOSFETs
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作者 张春伟 刘斯扬 +7 位作者 孙伟锋 周雷雷 张艺 苏巍 张爱军 刘玉伟 胡久利 何骁伟 《Chinese Physics Letters》 SCIE CAS CSCD 2015年第8期193-195,共3页
The dependencies of hot-carrier-induced degradations on the effective channel length Lch,eff are investigated for n-type metal-oxide-semiconductor field effect transistor (MOSFETs). Our experiments find that, with d... The dependencies of hot-carrier-induced degradations on the effective channel length Lch,eff are investigated for n-type metal-oxide-semiconductor field effect transistor (MOSFETs). Our experiments find that, with decreasing Lch,eff, the saturation drain current (Iasat ) degradation is unexpectedly alleviated. The further study demonstrates that the anomalous Lch,eff dependence of Idsat degradation is induced by the increasing influence of the substrate current degradation on the lazar degradation with Lch,eff reducing. 展开更多
关键词 Anomalous Channel Length Dependence of Hot-carrier-induced Saturation Drain Current Degradation in n-Type MOSFETs
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P型Cz-Si太阳能电池光致再生技术
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作者 豆维江 李小玄 +1 位作者 王宝磊 郑新霞 《工业技术创新》 2018年第1期1-4,共4页
对P型Cz-Si太阳能电池进行光致再生(LIR)测试,探寻抑制光致衰减(LID)效应的解决方案。选取A、B组电池样品各4片,在230℃下,A组分别采用[1,10,20,30]k W/m^2的光照功率进行10 s的LIR处理、B组采用20 k W/m^2的光照功率分别进行[10,20,30,... 对P型Cz-Si太阳能电池进行光致再生(LIR)测试,探寻抑制光致衰减(LID)效应的解决方案。选取A、B组电池样品各4片,在230℃下,A组分别采用[1,10,20,30]k W/m^2的光照功率进行10 s的LIR处理、B组采用20 k W/m^2的光照功率分别进行[10,20,30,40]s的LIR处理;A、B组均在2 k W/m^2光照功率、85℃温度下进行10 H的LID测试,考察LIR后和LID后的电池转换效率相对变化值。随着光照功率的增大,LIR后的相对变化值由0.148%提升至0.792%,LID后的相对变化值由-2.608%改善至-0.396%,效果显著;随着光照时间的推移,LIR后的相对变化值由0.695%提升至0.939%,LID后的相对变化值由-0.794%改善至-0.395%,不甚显著。对现象成因进行讨论,表明高光照功率激发了电池硅基体内部的H^+、H^0和H^-,其中H^0和H^-存在的电子能够分别对硅基体内部和表面进行钝化,提升其少子寿命;H^+能够与B^-结合成BH复合体,阻碍BO复合体的生成,从而抑制电池的LID效应。 展开更多
关键词 P型Cz-Si太阳电池 光致衰减 光致再生 BO复合体 少子寿命
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一个新的pMOSFET栅电流退化模型 被引量:1
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作者 张进城 郝跃 +1 位作者 朱志炜 刘海波 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第10期1315-1319,共5页
研究了最大栅电流应力 (即 p MOSFET最坏退化情况 )下 p MOSFET栅电流的退化特性 .实验发现 ,在最大栅电流应力下 ,p MOSFET栅电流随应力时间会发生很大下降 ,而且在应力初期和应力末期栅电流的下降规律均会偏离公认的指数规律 .给出了... 研究了最大栅电流应力 (即 p MOSFET最坏退化情况 )下 p MOSFET栅电流的退化特性 .实验发现 ,在最大栅电流应力下 ,p MOSFET栅电流随应力时间会发生很大下降 ,而且在应力初期和应力末期栅电流的下降规律均会偏离公认的指数规律 .给出了所有这些现象的详细物理解释 ,并在此基础上提出了一种新的用于 p 展开更多
关键词 PMOSFET 热载流子退化 栅电流退化模型 场效应晶体管
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流化床结晶技术在循环水除硬上的应用 被引量:1
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作者 杨占忠 张迪 +2 位作者 张营 林志军 荆建波 《广东化工》 CAS 2021年第23期58-60,共3页
本文采用填料诱导结晶沉淀原理设计流化床结晶反应器,用于循环水除硬工序上,通过中试实验测试表明:选用0.3~0.5mm粒径的石英砂作为填料,在流速为60 m/h,流量为720 L/h的情况下,粒径有明显增大,结晶率和SS去除率均达到90%左右,为流化床... 本文采用填料诱导结晶沉淀原理设计流化床结晶反应器,用于循环水除硬工序上,通过中试实验测试表明:选用0.3~0.5mm粒径的石英砂作为填料,在流速为60 m/h,流量为720 L/h的情况下,粒径有明显增大,结晶率和SS去除率均达到90%左右,为流化床结晶工程应用中去除硬度提供试验依据。 展开更多
关键词 填料诱导结晶沉淀 流化床结晶反应器 填料 流速 流量 结晶率
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PMOSFET's热载流子退化模拟及寿命评估的统一模型
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作者 张进城 郝跃 朱志炜 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第12期1586-1591,共6页
对 PMOSFET's几种典型器件参数随应力时间的退化规律进行了深入研究 ,给出了一个新的器件退化监控量 ,并建立了不同器件参数退化的统一模型 .模拟结果和测量结果的比较表明 ,新的退化模型具有较高的准确性和较宽的适用范围 .新的退... 对 PMOSFET's几种典型器件参数随应力时间的退化规律进行了深入研究 ,给出了一个新的器件退化监控量 ,并建立了不同器件参数退化的统一模型 .模拟结果和测量结果的比较表明 ,新的退化模型具有较高的准确性和较宽的适用范围 .新的退化模型不但可以用于器件参数退化量的模拟 。 展开更多
关键词 PMOSFET 热载流子退化 退化模拟 寿命评估 场效应晶体管
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