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AlGaN/GaN异质结材料的中子辐照效应 被引量:2
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作者 谷文萍 全思 +2 位作者 张林 徐小波 刘盼芝 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2015年第3期217-221,共5页
采用归一化能量1 Me V的中子脉冲反应堆对Al Ga N/Ga N异质结材料进行了辐照研究。实验发现,经1015cm-2注量的中子辐照后,异质结材料的二维电子气(2DEG)载流子浓度(ns)下降,而2DEG迁移率由于受到ns的调制作用略有增加,同时辐照导致的载... 采用归一化能量1 Me V的中子脉冲反应堆对Al Ga N/Ga N异质结材料进行了辐照研究。实验发现,经1015cm-2注量的中子辐照后,异质结材料的二维电子气(2DEG)载流子浓度(ns)下降,而2DEG迁移率由于受到ns的调制作用略有增加,同时辐照导致的载流子浓度ns下降造成了沟道串联电阻的增加和异质结构阈值电压(VTH)的正向漂移。分析认为,辐照感生类受主缺陷是造成ns下降和阈值电压漂移的原因。原子力显微镜(AFM)和X射线衍射仪(XRD)的测试结果表明,辐照后材料的表面形貌有所恶化,材料应变基本不变,而材料的螺位错和刃位错密度辐照后都略有增加。此外,实验结果还表明初始材料质量越好,辐照退化越小。 展开更多
关键词 AlGaN/GaN异质结构 中子辐照 受主缺陷 表面形貌 晶格应力
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GaN基材料和器件的质子辐照效应 被引量:1
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作者 谷文萍 张进成 +2 位作者 张林 徐小波 刘盼芝 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2016年第7期514-519,共6页
由于综合性能优势,GaN基功率器件更适合于卫星电子系统等空间设备中射频功率放大模块的发展需求。因此,GaN基器件及材料的辐照效应研究显得尤为重要。通过对GaN基材料和器件进行质子辐照研究,可以发现,低注量辐照增加了GaN材料的载流子... 由于综合性能优势,GaN基功率器件更适合于卫星电子系统等空间设备中射频功率放大模块的发展需求。因此,GaN基器件及材料的辐照效应研究显得尤为重要。通过对GaN基材料和器件进行质子辐照研究,可以发现,低注量辐照增加了GaN材料的载流子浓度和迁移率,降低了材料的串联电阻。此外,辐照增加了GaN的张应力,引起了材料表面形貌恶化,而对位错密度影响甚小。对于GaN基高电子迁移率晶体管(HEMT)器件,辐照发生在较高注量下,器件参数才发生较为明显的退化,而且阈值电压变化最为显著,分析认为,高注量辐照时,辐照感生受主缺陷造成的二维电子气(2DEG)浓度降低是上述器件退化的主要原因。 展开更多
关键词 AlGaN/GaN异质结构 质子辐照 材料表征 受主缺陷 去载流子效应
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不同氮氧比对N掺杂ZnO:Al薄膜结构及光电性能的影响
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作者 高立华 高松华 陈礼炜 《新乡学院学报》 2019年第12期16-18,26,共4页
采用射频磁控溅射技术,在不同氮氧比条件下,经过退火处理制备了N掺杂ZnO∶Al薄膜。对样品进行X射线衍射(XRD)、探针扫描显微镜(FAM)、透过率和电阻测试。结果表明:薄膜表面呈现柱状结构,当氮氧比为9∶1时,c轴择优取向最强。在可见光(500... 采用射频磁控溅射技术,在不同氮氧比条件下,经过退火处理制备了N掺杂ZnO∶Al薄膜。对样品进行X射线衍射(XRD)、探针扫描显微镜(FAM)、透过率和电阻测试。结果表明:薄膜表面呈现柱状结构,当氮氧比为9∶1时,c轴择优取向最强。在可见光(500~800 nm)范围内,平均透过率都达到了90%以上。随着氮氧比增大,薄膜电阻先增大后减小,后又略微增大。当氮氧比由3∶1增加到9∶1时,由于N作为施主和受主掺杂的浓度不同,薄膜实现了由n型导电转变为p型导电。 展开更多
关键词 氮氧比 施主 受主 光电性能
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热处理对非掺杂半绝缘LEC GaAs电特性的影响
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作者 刘力锋 杨瑞霞 郭惠 《河北工业大学学报》 CAS 2001年第5期35-38,共4页
对非掺杂(ND)半绝缘(SI)液封直拉(LEC)GaAs单晶在 950℃下进行了不同 As压的热处理,研究了热处理对材料电特性的影响.发现在950℃温度和低As压条件下 进行14h热处理,可在样品中引入本征受主缺陷,并... 对非掺杂(ND)半绝缘(SI)液封直拉(LEC)GaAs单晶在 950℃下进行了不同 As压的热处理,研究了热处理对材料电特性的影响.发现在950℃温度和低As压条件下 进行14h热处理,可在样品中引入本征受主缺陷,并导致体霍尔迁移率大幅下降和体电阻 率明显增加.这些受主缺陷的产生是由于高温和低 AS压条件下 GaAs晶体中发生 As间隙 原子的外扩散.提高热处理过程中的As气压,可抑制这些受主缺陷的产生和电参数的变化. 展开更多
关键词 本征受主缺陷 砷压 热处理 电特性 非掺杂半绝缘液植拉砷化镓 NDSILECGaAS 单晶 霍尔迁移率
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黄铜矿类半导体砷化锗镉晶体的研究进展 被引量:5
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作者 李春彦 王锐 +2 位作者 杨春晖 徐衍岭 朱崇强 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第5期1022-1025,共4页
砷化锗镉,CdGeAs2,是三元的黄铜矿类半导体,具有非常高的非线性光学系数(236pm/V),这使得其作为CO2激光器倍频转换方面有突出的优势。长期以来生长晶体时由于存在严重的各向异性而使晶体开裂。砷化锗镉晶体在5.5μm处存在强吸收使得频... 砷化锗镉,CdGeAs2,是三元的黄铜矿类半导体,具有非常高的非线性光学系数(236pm/V),这使得其作为CO2激光器倍频转换方面有突出的优势。长期以来生长晶体时由于存在严重的各向异性而使晶体开裂。砷化锗镉晶体在5.5μm处存在强吸收使得频率转化的效率非常低,此吸收是晶体内存在大量受体缺陷造成的。本文对晶体生长的几种方法和红外吸收进行论述,并提出掺杂予体的方法降低红外吸收。 展开更多
关键词 砷化锗镉 开裂 受体缺陷 生长
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硫钝化对GaAs MESFET饱和源漏电流影响的实验研究
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作者 李晓光 王同祥 +1 位作者 李效白 杨瑞霞 《河北工业大学学报》 CAS 2004年第3期42-44,共3页
硫钝化对GaAsFET的电特性有重要影响[1].本文分析了硫钝化后GaAsMESFET饱和源漏电流(IDss)下降的原因,认为硫处理降低了和/(为施主缺陷密度;为受主缺陷密度),表面费米能级向价带顶移动,能带弯曲加剧,表面耗尽层变厚,导电沟道变窄,是导... 硫钝化对GaAsFET的电特性有重要影响[1].本文分析了硫钝化后GaAsMESFET饱和源漏电流(IDss)下降的原因,认为硫处理降低了和/(为施主缺陷密度;为受主缺陷密度),表面费米能级向价带顶移动,能带弯曲加剧,表面耗尽层变厚,导电沟道变窄,是导致饱和源漏电流下降的主要因素.对样品进行225℃退火可使饱和源漏电流恢复到钝化前的水平. 展开更多
关键词 硫钝化 场效应晶体管 饱和源漏电流 施主缺陷 受主缺陷
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