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偏压在大尺寸活性屏等离子渗氮中的作用机理
被引量：
1
1
作者
郑少梅
李丽华
赵程
《青岛科技大学学报（自然科学版）》
CAS
2015年第1期77-79,101,共4页
通过采用大尺寸活性屏进行等离子渗氮处理,研究和分析了偏压及其"阈值"对大尺寸活性屏渗氮的影响。实验结果表明:采用大尺寸活性屏渗氮时,加在工件上的偏压是一个决定性的因素,只有当负偏压大于"阈值"时,无论距活...
通过采用大尺寸活性屏进行等离子渗氮处理,研究和分析了偏压及其"阈值"对大尺寸活性屏渗氮的影响。实验结果表明:采用大尺寸活性屏渗氮时,加在工件上的偏压是一个决定性的因素,只有当负偏压大于"阈值"时,无论距活性屏多远的试样都能取得较好的渗氮效果。通过理论分析认为这个偏压阈值恰好是能够引起工件表面产生自溅射所需要的最低电压。研究认为采用大尺寸活性屏渗氮时,距离活性屏较远的工件是靠施加在其上的偏压引起工件表面产生自溅射生成大量的纳米粒子作为渗氮的载体实现渗氮的。
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关键词
活性屏离子渗氮
大尺寸活性屏
偏压“阈值”
自溅射
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职称材料
题名
偏压在大尺寸活性屏等离子渗氮中的作用机理
被引量：
1
1
作者
郑少梅
李丽华
赵程
机构
青岛理工大学机械工程学院
青岛科技大学机电工程学院
出处
《青岛科技大学学报（自然科学版）》
CAS
2015年第1期77-79,101,共4页
基金
国家自然科学基金项目(51307091)
文摘
通过采用大尺寸活性屏进行等离子渗氮处理,研究和分析了偏压及其"阈值"对大尺寸活性屏渗氮的影响。实验结果表明:采用大尺寸活性屏渗氮时,加在工件上的偏压是一个决定性的因素,只有当负偏压大于"阈值"时,无论距活性屏多远的试样都能取得较好的渗氮效果。通过理论分析认为这个偏压阈值恰好是能够引起工件表面产生自溅射所需要的最低电压。研究认为采用大尺寸活性屏渗氮时,距离活性屏较远的工件是靠施加在其上的偏压引起工件表面产生自溅射生成大量的纳米粒子作为渗氮的载体实现渗氮的。
关键词
活性屏离子渗氮
大尺寸活性屏
偏压“阈值”
自溅射
Keywords
active
screen
plasma
nitriding
（ASPN）
a
large
-
diameter
active
screen
the
bias
threshold
sputtered
分类号
TG156.8 [金属学及工艺—热处理]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
偏压在大尺寸活性屏等离子渗氮中的作用机理
郑少梅
李丽华
赵程
《青岛科技大学学报（自然科学版）》
CAS
2015
1
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