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常温下ZnO/Ag/ZnO复合薄膜的制备及其光电特性
被引量:
6
1
作者
郭凯
于涛
+2 位作者
宋斌斌
李新连
赵树利
《激光与光电子学进展》
CSCD
北大核心
2017年第10期463-468,共6页
采用射频磁控溅射与电子束蒸发的方式,制备了ZnO/Ag/ZnO三层复合薄膜,研究了Ag薄膜厚度以及电子束蒸发的沉积速率对复合薄膜光电性能的影响。实验结果表明,当Ag薄膜厚度为8nm、电子束蒸发的沉积速率为0.5nm·s^(-1)时,复合薄膜的性...
采用射频磁控溅射与电子束蒸发的方式,制备了ZnO/Ag/ZnO三层复合薄膜,研究了Ag薄膜厚度以及电子束蒸发的沉积速率对复合薄膜光电性能的影响。实验结果表明,当Ag薄膜厚度为8nm、电子束蒸发的沉积速率为0.5nm·s^(-1)时,复合薄膜的性能最优,其方块电阻为6.01Ω,波长400~800nm范围内的光平均透过率为91.39%。优化后的ZnO/Ag/ZnO复合薄膜具有良好的光电特性。
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关键词
薄膜
zno
/
ag
/
zno
复合薄膜
电子束蒸发
射频磁控溅射
光电特性
原文传递
题名
常温下ZnO/Ag/ZnO复合薄膜的制备及其光电特性
被引量:
6
1
作者
郭凯
于涛
宋斌斌
李新连
赵树利
机构
北京低碳清洁能源研究所
北京市纳米结构薄膜太阳能电池工程技术研究中心
出处
《激光与光电子学进展》
CSCD
北大核心
2017年第10期463-468,共6页
文摘
采用射频磁控溅射与电子束蒸发的方式,制备了ZnO/Ag/ZnO三层复合薄膜,研究了Ag薄膜厚度以及电子束蒸发的沉积速率对复合薄膜光电性能的影响。实验结果表明,当Ag薄膜厚度为8nm、电子束蒸发的沉积速率为0.5nm·s^(-1)时,复合薄膜的性能最优,其方块电阻为6.01Ω,波长400~800nm范围内的光平均透过率为91.39%。优化后的ZnO/Ag/ZnO复合薄膜具有良好的光电特性。
关键词
薄膜
zno
/
ag
/
zno
复合薄膜
电子束蒸发
射频磁控溅射
光电特性
Keywords
thin
films
zno
/
ag
/
zno
composite
films
electron
beam
evaporation
radio
frequency
m
ag
netron
sputtering
opto-electronie
properties
分类号
TN304.21 [电子电信—物理电子学]
原文传递
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
常温下ZnO/Ag/ZnO复合薄膜的制备及其光电特性
郭凯
于涛
宋斌斌
李新连
赵树利
《激光与光电子学进展》
CSCD
北大核心
2017
6
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