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丝裂霉素C在Epi-LASIK术矫正高度和超高度近视中的应用 被引量：4
1
作者 周浩东 姜德咏 《国际眼科杂志》 CAS 2009年第4期743-745,共3页
目的:观察丝裂霉素C(mitomycin C,MMC)应用于机械法—准分子激光上皮瓣下角膜磨镶术(epipdisaser in situ keratomileusis,Epi-LASIK)术矫正高度和超高度近视中的疗效。方法:将高度和超高度近视204例408眼随机分为两组,MMC组102例204眼... 目的:观察丝裂霉素C(mitomycin C,MMC)应用于机械法—准分子激光上皮瓣下角膜磨镶术(epipdisaser in situ keratomileusis,Epi-LASIK)术矫正高度和超高度近视中的疗效。方法:将高度和超高度近视204例408眼随机分为两组,MMC组102例204眼;对照组102例204眼。所有手术皆运用AMOAmadeus Ⅱ Microkeratome直线式角膜上皮刀制作角膜上皮瓣,MMC组术中激光切削后置0.2g/LMMC棉片于基质床60-90s;对照组除不置MMC外余操作相同。术后随访两组角膜上皮瓣愈合时间、术后刺激症状、haze反应及裸眼视力。结果:所有患者均顺利完成手术。MMC组和对照组Epi-LASIK术后刺激症状皆轻微,316眼(77.4%)疼痛评分为0～1分。角膜上皮瓣愈合时间为3～6d。术后6mo查MMC组中199眼(97.5%)UCVA达到并超过BCVA;对照组168眼(82.4%)UCVA达到并超过BCVA;MMC组视力回退者5眼(2.5%),对照组视力回退者36眼(17.6%)。术后6mohaze反应MMC组与对照组对比,haze2级及haze2级以上差异有显著性(P<0.05),有统计学意义。结论:Epi-LASIK术矫正高度和超高度近视中应用0.2g/LMMC对减轻haze的形成、防止视力回退安全有效。 展开更多
关键词 丝裂霉素C 机械法-准分子激光上皮瓣下角膜磨镶术 HAZE 视力回退
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