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TiNi/ZnO复合智能薄膜的制备及性能研究
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作者 曾光 李子全 周衡志 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2010年第8期1447-1450,共4页
使用射频磁控溅射法在石英衬底上制备quartz/ZnO/TiNi及quartz/TiNi/ZnO复合薄膜结构,利用XRD、SEM划痕仪等测试方法研究了复合薄膜的相结构、微观组织、力学性能。利用DMA分别研究了quartz/TiNi与quartz/ZnO/TiNi复合结构的阻尼性能随... 使用射频磁控溅射法在石英衬底上制备quartz/ZnO/TiNi及quartz/TiNi/ZnO复合薄膜结构,利用XRD、SEM划痕仪等测试方法研究了复合薄膜的相结构、微观组织、力学性能。利用DMA分别研究了quartz/TiNi与quartz/ZnO/TiNi复合结构的阻尼性能随振动频率及振幅的变化规律。结果表明,前者频率响应范围在10Hz以内,后者响应范围达到20Hz;前者的临界外加激振电压仅为0.6V,后者的临界外加激振电压达到1.0V。阻尼性能测试表明,quartz/ZnO/TiNi复合结构的阻尼性能优于quartz/TiNi复合结构。由划痕仪测得两种复合薄膜结构与基体的临界结合力分别为45.75和40.15N。 展开更多
关键词 智能薄膜 射频磁控溅射 tini/zno复合薄膜 微观结构 阻尼性能
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