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题名负偏压对电弧离子镀复合TiAlN薄膜的影响
被引量：8
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作者
黄美东
许世鹏
刘野
薛利
潘玉鹏
范喜迎
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机构
天津师范大学物理与电子信息学院
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出处
《表面技术》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2012年第6期1-1,2,3,6,共4页
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基金
国家自然科学基金(61078059)
天津师范大学创新计划项目(52X09038)
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文摘
采用电弧离子镀技术,以W18Cr4V高速钢为基体,调整基体负偏压,制得多个复合TiAlN薄膜试样,研究了基体负偏压对薄膜微观组织形貌、物相组成、晶格位向、硬度、厚度和沉积速率的影响。结果表明,过高或过低的负偏压会使得膜层表面不平整,显微硬度下降。当负偏压为200 V时,膜层的沉积速率最大;负偏压为150 V时,有利于薄膜(111)晶面的择优取向生长,且TiAlN膜的硬度最高。
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关键词
电弧离子镀
tiaLn薄膜
负偏压
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Keywords
arc ion plating
tia1n thin film
negative bias
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分类号
TG174.444
[金属学及工艺—金属表面处理]
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题名氮气流量对复合离子镀TiAlN薄膜性能的影响
被引量：2
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作者
薛利
黄美东
程芳
刘野
许世鹏
李云珂
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机构
天津师范大学物理与材料科学学院
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出处
《天津师范大学学报（自然科学版）》
CAS
2014年第1期38-41,共4页
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基金
国家自然科学基金资助项目(61078059)
天津师范大学创新计划资助项目(52X09038)
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文摘
利用电弧离子镀和磁控溅射相结合的复合镀技术,在300 V偏压、不同氮气流量下制备了一系列TiAlN薄膜.利用XP-2台阶仪、XRD、SEM和纳米力学测试系统分别对薄膜的沉积速率、晶体结构、表面形貌、硬度和弹性模量等进行测试和分析.实验结果表明:随着氮气流量的增大,薄膜的表面质量逐渐提高,薄膜的硬度和弹性模量均随氮气流量的增大呈现出先增加后减小的变化趋势.
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关键词
电弧离子镀
磁控溅射
tiaLn薄膜
氮气流量
晶体结构
表面形貌
硬度
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Keywords
arc ion plating
magnetron sputtering
tia1n thin film
nitrogen flow
crystal structure
surface morphology
hardness
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分类号
TN919
[电子电信—通信与信息系统]
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