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原电池沉积技术工艺条件对SrMoO_4薄膜结构与形貌的影响(英文) 被引量:1
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作者 赖欣 徐成刚 +3 位作者 崔春华 毕剑 高道江 赵可清 《应用基础与工程科学学报》 EI CSCD 2009年第4期590-596,共7页
室温下,在Sr(OH)2溶液中采用原电池方法直接制备了高晶态SrMoO4薄膜.通过XRD和SEM技术系统探讨了反应时间、溶液pH值和外加氧化剂等工艺条件对制备的SrMoO4薄膜的结晶性和表面形貌的影响.结果表明,电化学反应时间、溶液pH值和外加氧化剂... 室温下,在Sr(OH)2溶液中采用原电池方法直接制备了高晶态SrMoO4薄膜.通过XRD和SEM技术系统探讨了反应时间、溶液pH值和外加氧化剂等工艺条件对制备的SrMoO4薄膜的结晶性和表面形貌的影响.结果表明,电化学反应时间、溶液pH值和外加氧化剂对SrMoO4薄膜的晶体结构和表面形貌具有重要的影响:随着反应时间的增加,薄膜的结晶性和形貌会改善;在较高的溶液pH值条件下,SrMoO4晶粒沿c轴择优生长;当加入适量的过氧化氢氧化剂时,可加快SrMoO4晶粒的生长,但会产生团聚现象. 展开更多
关键词 影响 工艺条件 srmoo4薄膜 原电池沉积
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室温电化学方法制备SrMoO_4薄膜 被引量:4
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作者 高道江 赖欣 毕剑 《四川师范大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 2002年第5期497-499,共3页
采用恒电流技术于室温条件下直接在金属钼片上制备白钨矿结构的SrMoO4 薄膜 ,控制电化学反应的工艺条件为电流密度为 1mA cm2 、电解液的pH值为 13、电化学处理时间为 1h ,SEM和XRD分析结果表明制备的SrMoO4 薄膜为表面均匀致密且平均... 采用恒电流技术于室温条件下直接在金属钼片上制备白钨矿结构的SrMoO4 薄膜 ,控制电化学反应的工艺条件为电流密度为 1mA cm2 、电解液的pH值为 13、电化学处理时间为 1h ,SEM和XRD分析结果表明制备的SrMoO4 薄膜为表面均匀致密且平均粒径为 2 μm的四方晶系单相薄膜 . 展开更多
关键词 室温电化学方法 制备 srmoo4薄膜 电化学反应工艺 恒电流 白钨矿结构 电化学合成 电极电位
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