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非晶SiO_2薄膜中氧双键缺陷电子及光学特性的第一性原理研究
被引量:
3
1
作者
刘新
单凡
+3 位作者
陈仙
陈帛雄
任旭升
张爱民
《原子与分子物理学报》
CAS
CSCD
北大核心
2015年第5期875-878,共4页
利用第一性原理对离子溅射沉积的非晶SiO2薄膜微观结构进行了分析、研究,结果表明,氧双键缺陷(SGs)可以作为体缺陷稳定存在于非晶SiO2中,SGs缺陷导致非晶SiO2薄膜材料禁带中引入了新的电子态,减小了禁带宽度;同时采用时相关密度泛函理论...
利用第一性原理对离子溅射沉积的非晶SiO2薄膜微观结构进行了分析、研究,结果表明,氧双键缺陷(SGs)可以作为体缺陷稳定存在于非晶SiO2中,SGs缺陷导致非晶SiO2薄膜材料禁带中引入了新的电子态,减小了禁带宽度;同时采用时相关密度泛函理论(TDDFT)对其光学特性进行了研究,得到非晶SiO2薄膜介电常数与入射光子能量间的关系曲线,从介电常数的虚部发现SGs缺陷在3.6eV处存在一个光学吸收峰.
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关键词
非晶SiO2薄膜
氧双键缺陷
第一性原理
吸收光谱
下载PDF
职称材料
题名
非晶SiO_2薄膜中氧双键缺陷电子及光学特性的第一性原理研究
被引量:
3
1
作者
刘新
单凡
陈仙
陈帛雄
任旭升
张爱民
机构
西安飞行自动控制研究所
西安交通大学
出处
《原子与分子物理学报》
CAS
CSCD
北大核心
2015年第5期875-878,共4页
基金
总装预先研究项目(51318020101)
文摘
利用第一性原理对离子溅射沉积的非晶SiO2薄膜微观结构进行了分析、研究,结果表明,氧双键缺陷(SGs)可以作为体缺陷稳定存在于非晶SiO2中,SGs缺陷导致非晶SiO2薄膜材料禁带中引入了新的电子态,减小了禁带宽度;同时采用时相关密度泛函理论(TDDFT)对其光学特性进行了研究,得到非晶SiO2薄膜介电常数与入射光子能量间的关系曲线,从介电常数的虚部发现SGs缺陷在3.6eV处存在一个光学吸收峰.
关键词
非晶SiO2薄膜
氧双键缺陷
第一性原理
吸收光谱
Keywords
Amorphous
SiO2
thin
films
silanone
groups
First
principles
Absorption
spectrum
分类号
O484 [理学—固体物理]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
非晶SiO_2薄膜中氧双键缺陷电子及光学特性的第一性原理研究
刘新
单凡
陈仙
陈帛雄
任旭升
张爱民
《原子与分子物理学报》
CAS
CSCD
北大核心
2015
3
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职称材料
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参考文献
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