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非晶SiO_2薄膜中氧双键缺陷电子及光学特性的第一性原理研究 被引量:3
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作者 刘新 单凡 +3 位作者 陈仙 陈帛雄 任旭升 张爱民 《原子与分子物理学报》 CAS CSCD 北大核心 2015年第5期875-878,共4页
利用第一性原理对离子溅射沉积的非晶SiO2薄膜微观结构进行了分析、研究,结果表明,氧双键缺陷(SGs)可以作为体缺陷稳定存在于非晶SiO2中,SGs缺陷导致非晶SiO2薄膜材料禁带中引入了新的电子态,减小了禁带宽度;同时采用时相关密度泛函理论... 利用第一性原理对离子溅射沉积的非晶SiO2薄膜微观结构进行了分析、研究,结果表明,氧双键缺陷(SGs)可以作为体缺陷稳定存在于非晶SiO2中,SGs缺陷导致非晶SiO2薄膜材料禁带中引入了新的电子态,减小了禁带宽度;同时采用时相关密度泛函理论(TDDFT)对其光学特性进行了研究,得到非晶SiO2薄膜介电常数与入射光子能量间的关系曲线,从介电常数的虚部发现SGs缺陷在3.6eV处存在一个光学吸收峰. 展开更多
关键词 非晶SiO2薄膜 氧双键缺陷 第一性原理 吸收光谱
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