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一种新型Si电子束蒸发器的研制及其应用研究 被引量:16
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作者 王科范 刘金锋 +4 位作者 邹崇文 徐彭寿 潘海滨 张西庚 王文君 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第1期75-78,共4页
我们成功地设计出一种新型的Si电子束蒸发器 ,并将它应用于Ge/Si(111)量子点的生长。由于采用悬臂式设计 ,它完全克服了高压短路的问题。电子束蒸发器的性能试验表明 ,稳定输出功率可以控制输出稳定的Si束流。应用这种电子束蒸发器可以... 我们成功地设计出一种新型的Si电子束蒸发器 ,并将它应用于Ge/Si(111)量子点的生长。由于采用悬臂式设计 ,它完全克服了高压短路的问题。电子束蒸发器的性能试验表明 ,稳定输出功率可以控制输出稳定的Si束流。应用这种电子束蒸发器可以在 70 0℃ ,成功沉积出平整的单晶Si薄膜。进一步的试验表明 ,在这种缓冲层表面可以自组装生长出Ge量子点。 展开更多
关键词 电子束蒸发 量子点 缓冲层 si(111) 输出功率 薄膜 束流 自组装 单晶 表面
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预辅Al及AlN缓冲层厚度对GaN/Si(111)材料特性的影响 被引量:8
2
作者 廉瑞凯 李林 +6 位作者 范亚明 王勇 邓旭光 张辉 冯雷 朱建军 张宝顺 《中国激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第1期158-162,共5页
主要研究了采用高温AlN缓冲层外延生长GaN/Si(111)材料的工艺技术。利用高分辨X射线双晶衍射(HRXRD)分析研究了GaN/Si(111)样品外延层的应变状态和晶体质量,通过原子力显微镜(AFM)分析研究了不同厚度的高温AlN缓冲层对GaN外延层的表面... 主要研究了采用高温AlN缓冲层外延生长GaN/Si(111)材料的工艺技术。利用高分辨X射线双晶衍射(HRXRD)分析研究了GaN/Si(111)样品外延层的应变状态和晶体质量,通过原子力显微镜(AFM)分析研究了不同厚度的高温AlN缓冲层对GaN外延层的表面形貌的影响。实验结果表明,AlN缓冲层生长前预通三甲基铝(TMAl)的时间、AlN缓冲层的厚度对GaN外延层的应变状态、外延层的晶体质量以及表面形貌都有显著影响。得到最优的预辅Al时间为10s,AlN缓冲层的厚度为40nm。在此条件下外延生长的GaN样品(厚度约为1μm)表面形貌较好,X射线衍射(XRD)双晶摇摆曲线半峰全宽(FWHM)(0002)面和(10-12)面分别为452″和722″。 展开更多
关键词 材料 GAN si(111) ALN缓冲层 预辅Al 应变状态
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硅基PbSe/BaF_2/CaF_2薄膜及其光电特性 被引量:4
3
作者 金进生 吴惠桢 +3 位作者 常勇 寿翔 X.M.Fang P.J.McCann 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2001年第2期154-156,共3页
采用分子束外延方法在 Si(111)衬底上生长了 Pb Se/ Ba F2 / Ca F2 薄膜 ,扫描电镜和 X-光衍射分析显示 ,通过生长 Ba F2 / Ca F2 缓冲层的方法 ,在 Si(111)衬底上外延的 Pb Se薄膜晶体质量高 ,Pb Se表面光亮 ,无开裂现象发生 ,X-光衍... 采用分子束外延方法在 Si(111)衬底上生长了 Pb Se/ Ba F2 / Ca F2 薄膜 ,扫描电镜和 X-光衍射分析显示 ,通过生长 Ba F2 / Ca F2 缓冲层的方法 ,在 Si(111)衬底上外延的 Pb Se薄膜晶体质量高 ,Pb Se表面光亮 ,无开裂现象发生 ,X-光衍射峰峰宽窄 (15 3arcs) .外延生长的 Pb Se薄膜被应用于制作光电二极管 ,首次采用热蒸发金属铝膜在 Pb Se表面形成 Al- Pb Se肖特基结光电二极管 ,获得了比 Pb- Pb Se肖特基结更为稳定和理想的电流 展开更多
关键词 PbSe薄膜 BaF2/CaF2缓冲层 肖特基结 I-V特性 分子束外延 光电二极管 si(111)
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Si(111)衬底上GaN的MOCVD生长 被引量:3
4
作者 胡加辉 朱军山 +4 位作者 冯玉春 张建宝 李忠辉 郭宝平 徐岳生 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第4期517-520,i0002,共5页
利用LP-MOCVD在S i(111)衬底上,以高温A lN为缓冲层,分别用低温GaN(LT-GaN)和偏离化学计量比富Ga高温GaN(HT-GaN)为过渡层外延生长六方相GaN薄膜。采用高分辨率双晶X射线衍射(DCXRD),扫描电子显微镜(SEM),原子力显微镜(AFM)和室温光致... 利用LP-MOCVD在S i(111)衬底上,以高温A lN为缓冲层,分别用低温GaN(LT-GaN)和偏离化学计量比富Ga高温GaN(HT-GaN)为过渡层外延生长六方相GaN薄膜。采用高分辨率双晶X射线衍射(DCXRD),扫描电子显微镜(SEM),原子力显微镜(AFM)和室温光致荧光光谱(RT-PL)进行分析。结果表明,有偏离化学计量比富Ga HT-GaN为过渡层生长的GaN薄膜质量和光致荧光特性均明显优于以LT-GaN为过渡层生长的GaN薄膜,得到GaN(0002)和(10ī2)的DCXRD峰,其半峰全宽(FWHM)分别为698 s和842 s,室温下的光致荧光光谱在361 nm处有一个很强的发光峰,其半峰全宽为44.3 m eV。 展开更多
关键词 氮化镓 si(111) 金属有机化学气相沉积 双晶X射线衍射
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SiO_2/Si(111)表面Ge量子点的生长研究 被引量:3
5
作者 王科范 盛斌 +3 位作者 刘金锋 徐彭寿 潘海滨 韦世强 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第5期358-361,366,共5页
Si衬底用化学方法清洗后,表面大约残余1.0 nm厚SiO2薄膜。利用原子力显微镜(AFM)和反射高能电子衍射(RHEED)来研究温度和Ge蒸发厚度对在SiO2薄膜表面生长的Ge量子点的影响。实验结果表明,当衬底温度超过500℃时,SiO2开始与Ge原子发生化... Si衬底用化学方法清洗后,表面大约残余1.0 nm厚SiO2薄膜。利用原子力显微镜(AFM)和反射高能电子衍射(RHEED)来研究温度和Ge蒸发厚度对在SiO2薄膜表面生长的Ge量子点的影响。实验结果表明,当衬底温度超过500℃时,SiO2开始与Ge原子发生化学反应,并形成与Si(111)表面直接外延的Ge量子点。在650℃时,只有Ge的厚度达到0.5nm时,Ge量子点才开始形成。 展开更多
关键词 GE量子点 siO2薄膜 si(111) 原子力显微镜(AFM) 反射高能电子衍射(RHEED)
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AlN-Si(111)异质结构界面陷阱态研究 被引量:2
6
作者 周春红 郑有炓 +9 位作者 邓咏桢 孔月婵 陈鹏 席冬娟 顾书林 沈波 张荣 江若琏 韩平 施毅 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2004年第11期3888-3894,共7页
利用Al_AlN_Si(111)MIS结构电容_频率谱研究了金属有机化学气相沉积法生长的Si基AlN的AlN_Si异质结构中的电荷陷阱态 .揭示了AlN_Si异质结构界面电荷陷阱态以及AlN层中的分立陷阱中心 .结果指出 :AlN层中存在Et-Ev=2 5 5eV的分立陷阱中... 利用Al_AlN_Si(111)MIS结构电容_频率谱研究了金属有机化学气相沉积法生长的Si基AlN的AlN_Si异质结构中的电荷陷阱态 .揭示了AlN_Si异质结构界面电荷陷阱态以及AlN层中的分立陷阱中心 .结果指出 :AlN层中存在Et-Ev=2 5 5eV的分立陷阱中心 ;AlN_Si界面陷阱态在Si能隙范围内呈连续分布 ,带中央态密度最低 ,Nss为 8× 10 1 1 eV- 1 cm- 2 ,对应的时间常数τ为 8× 10 - 4s ,俘获截面σn 为 1 5 8× 10 - 1 4cm2 ;在AlN界面层存在三种陷阱态 。 展开更多
关键词 界面陷阱 异质结构 si(111) AIN 界面电荷 电容 金属有机化学气相沉积 连续分布 能隙 态密度
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PECVD法制备的ZnO薄膜结晶性能的影响 被引量:2
7
作者 王应民 孙云 +3 位作者 杜楠 蔡莉 李禾 程国安 《微细加工技术》 EI 2007年第2期28-33,共6页
报道了在等离子体作用下,以CO2/H2为氧源,Zn(C2H5)2为锌源,N2为载气,在Si(111)衬底上采用自行设计等离子体化学气相沉积(PECVD)装置来生长的ZnO薄膜。采用X射线衍射仪(XRD)、原子力显微镜(AFM)和场发射扫描电镜分别对不同衬底温度生长... 报道了在等离子体作用下,以CO2/H2为氧源,Zn(C2H5)2为锌源,N2为载气,在Si(111)衬底上采用自行设计等离子体化学气相沉积(PECVD)装置来生长的ZnO薄膜。采用X射线衍射仪(XRD)、原子力显微镜(AFM)和场发射扫描电镜分别对不同衬底温度生长的薄膜样品进行了组成、表面和横截面的形貌表征,并且测试了薄膜的PL谱。研究结果表明,衬底温度直接影响薄膜的结晶质量。随衬底温度的升高,ZnO薄膜的结晶取向性开始增强,晶粒尺寸增大。在衬底温度约为450℃时,生长的ZnO薄膜有很强的择优取向性。 展开更多
关键词 si(111) ZNO薄膜 等离子体增强化学气相沉积 X射线衍射仪 原子力显微镜
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PECVD法制备硅基ZnO薄膜光学性能的研究 被引量:2
8
作者 王应民 杜楠 +2 位作者 蔡莉 李禾 程国安 《材料工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第11期71-75,共5页
使用薄膜分析系统研究在不同衬底温度下生长的硅基ZnO薄膜反射谱,了解衬底温度对薄膜的结晶状况影响。研究结果表明,随衬底温度的升高,晶粒之间融合长大,薄膜的折射率增大;在衬底温度450℃时生长的ZnO薄膜,薄膜的折射率最大为4.2,反射... 使用薄膜分析系统研究在不同衬底温度下生长的硅基ZnO薄膜反射谱,了解衬底温度对薄膜的结晶状况影响。研究结果表明,随衬底温度的升高,晶粒之间融合长大,薄膜的折射率增大;在衬底温度450℃时生长的ZnO薄膜,薄膜的折射率最大为4.2,反射谱的吸收边更接近380nm,在520nm处有一个弱的吸收峰,与ZnO薄膜的PL谱测试结果一致。再升高衬底温度,晶粒会出现异常长大,晶粒排布将受到影响,导致薄膜折射率下降。 展开更多
关键词 si(111) ZNO薄膜 等离子增强化学气相沉积 反射光谱
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过渡层结构和生长工艺条件对S i基G aN的影响
9
作者 冯玉春 胡加辉 +4 位作者 张建宝 王文欣 朱军山 杨建文 郭宝平 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第5期907-910,897,共5页
为了提高MOCVD外延硅基GaN材料的质量,在硅(111)衬底上以HT-A lN为缓冲层,在缓冲层上再生长变组份过渡层后外延生长GaN。过渡层为多层复合结构,分为高温变组分A lGaN、GaN、低温A lN、高温变组分A lGaN。在高温生长A lGaN和GaN层中插入... 为了提高MOCVD外延硅基GaN材料的质量,在硅(111)衬底上以HT-A lN为缓冲层,在缓冲层上再生长变组份过渡层后外延生长GaN。过渡层为多层复合结构,分为高温变组分A lGaN、GaN、低温A lN、高温变组分A lGaN。在高温生长A lGaN和GaN层中插入一层低温生长A lN以缓解降温过程中应力对厚GaN层的影响,为了缓慢释放热应力、采用合适的慢降温工艺。当外延层的厚度小于1.7微米时GaN外延层无龟裂,而厚度不断增加时,GaN外延层产生龟裂。本文研究了A lN缓冲层生长温度、高温变组分A lGaN生长过程中生长时间的变化对所生长GaN材料的影响。采用三维视频显微镜、高分辨率双晶X射线衍射(DCXRD)、扫描电子显微镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)和室温光致荧光光谱(RT-PL)对样品进行了测试分析。测试结果表明所研制的硅基GaN表面光亮、平整,过渡层的引入有利于降低外延层中应力,提高GaN结晶质量。 展开更多
关键词 si(111) CAN ALN ALGAN
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以金属为缓冲层在Si(111)上分子束外延GaN及其表征 被引量:1
10
作者 林郭强 曾一平 +1 位作者 王晓亮 刘宏新 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第10期1998-2002,共5页
用电子束蒸发方法在Si(111)衬底上蒸发了Au/Cr和Au/Ti/Al/Ti两种金属缓冲层,然后在金属缓冲层上用气源分子束外延(GSMBE)生长GaN.两种缓冲层的表面都比较平整和均匀,都是具有Au(111)面择优取向的立方相Au层.在Au/Cr/Si(111)上MBE生长的G... 用电子束蒸发方法在Si(111)衬底上蒸发了Au/Cr和Au/Ti/Al/Ti两种金属缓冲层,然后在金属缓冲层上用气源分子束外延(GSMBE)生长GaN.两种缓冲层的表面都比较平整和均匀,都是具有Au(111)面择优取向的立方相Au层.在Au/Cr/Si(111)上MBE生长的GaN,生长结束后出现剥离.在Au/Ti/Al/Ti/Si(111)上无AlN缓冲层直接生长GaN,得到的是多晶GaN;先在800℃生长一层AlN缓冲层,然后在710℃生长GaN,得到的是沿GaN(0001)面择优取向的六方相GaN.将Au/Ti/Al/Ti/Si(111)在800℃下退火20min,金属层收缩为网状结构,并且成为多晶,不再具有Au(111)方向择优取向. 展开更多
关键词 GAN 分子束外延 si(111) 缓冲层 金属
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Visible photoluminescence from ZnO/diamond-like carbon thin films 被引量:3
11
作者 张立春 李清山 +1 位作者 董艳锋 马自侠 《Optoelectronics Letters》 EI 2012年第2期113-116,共4页
ZnO/diamond-like carbon (DLC) thin films are deposited by pulsed laser deposition (PLD) on Si (111) wafer. Visible room-temperature photoluminescence (PL) is observed from ZnO/DLC thin films by fluorescence spectropho... ZnO/diamond-like carbon (DLC) thin films are deposited by pulsed laser deposition (PLD) on Si (111) wafer. Visible room-temperature photoluminescence (PL) is observed from ZnO/DLC thin films by fluorescence spectrophotometer. The Gaussian curve fitting of PL spectra reveals that the broadband visible emission contains three components with λ=508 nm, 554 nm and 698 nm. The origin and possible mechanism of the visible PL are discussed, and they can be attributed to the PL recombination of ZnO and DLC thin films. 展开更多
关键词 Pulsed laser deposition silicon wafers Zinc oxide
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电结晶制Co/Pt多层膜的结构及磁性研究 被引量:2
12
作者 印仁和 曾绍海 +1 位作者 曹为民 董晓明 《化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2005年第20期1871-1874,共4页
以单晶Si(111)为基底,在以P盐[主要成分Pt(NO2)2(NH3)2]和CoSO4为主盐的硼酸体系中电结晶Co/Pt多层膜.SEM观察多层膜的断面形貌,证实多层膜具有周期结构.经XRD测试,首次证实了Co-Pt界面上有CoPt3化合物的存在.用PPMS测试了多层膜的磁滞... 以单晶Si(111)为基底,在以P盐[主要成分Pt(NO2)2(NH3)2]和CoSO4为主盐的硼酸体系中电结晶Co/Pt多层膜.SEM观察多层膜的断面形貌,证实多层膜具有周期结构.经XRD测试,首次证实了Co-Pt界面上有CoPt3化合物的存在.用PPMS测试了多层膜的磁滞回线,平行于外磁场时膜的矫顽力约为165Oe,垂直于外磁场时的矫顽力随Co含量的增加而增加,最大达到396Oe.首次用电结晶方法制得了易磁化轴垂直于膜面的Co/Pt多层膜. 展开更多
关键词 电化学结晶 多层膜 X射线衍射 磁滞回线 垂直磁各向异性 Co/Pt多层膜 周期结构 电结晶 磁性研究 si(111)
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微波热处理在钛的硅化工艺中的应用 被引量:1
13
作者 欧阳斯可 汪涛 +3 位作者 戴永兵 吴建生 何贤昶 沈荷生 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第4期296-298,共3页
采用微波等离子体退火方法使溅射的金属Ti膜与Si(111)衬底发生固相反应 ,直接生成低阻态的金属硅化物薄膜 ,XRD检测显示最终生成的C5 4相TiSi2 在Si(111)衬底上有明显的织构 ,证明了微波等离子体退火应用于钛的硅化工艺中的可行性。
关键词 衬底 si(111) 金属硅化物 微波等离子体 退火 溅射 直接 证明 固相反应 薄膜
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隧道电子和局域场对固液界面纳米区域反应的影响——控电位下的Si(111)表面的STM诱导纳米刻蚀 被引量:3
14
作者 谢兆雄 蔡雄伟 +2 位作者 施财辉 毛秉伟 田昭武 《电化学》 CAS CSCD 1997年第2期132-135,共4页
隧道电子和局域场对固液界面纳米区域反应的影响①——控电位下的Si(111)表面的STM诱导纳米刻蚀谢兆雄*蔡雄伟施财辉毛秉伟田昭武(厦门大学固体表面物理化学国家重点实验室物理化学研究所化学系厦门361005)扫描隧道... 隧道电子和局域场对固液界面纳米区域反应的影响①——控电位下的Si(111)表面的STM诱导纳米刻蚀谢兆雄*蔡雄伟施财辉毛秉伟田昭武(厦门大学固体表面物理化学国家重点实验室物理化学研究所化学系厦门361005)扫描隧道显微技术(STM)目前已成为纳米加... 展开更多
关键词 硅表面 局域场 STM 纳米加工 刻蚀 隧道电子
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Si_(60)团簇与Si(111)面碰撞的紧束缚分子动力学模拟 被引量:2
15
作者 李延龄 黄红梅 《徐州师范大学学报(自然科学版)》 CAS 2004年第4期31-33,共3页
利用普适的紧束缚分子动力学模拟研究在不同入射条件下Si60团簇与Si(111)面的碰撞机理,结果表明Si60分子是"非弹性分子",入射角度对碰撞结果有重要影响,Si60分子易和Si(111)面发生化学反应,其保持结构特性吸附于Si(111)表面... 利用普适的紧束缚分子动力学模拟研究在不同入射条件下Si60团簇与Si(111)面的碰撞机理,结果表明Si60分子是"非弹性分子",入射角度对碰撞结果有重要影响,Si60分子易和Si(111)面发生化学反应,其保持结构特性吸附于Si(111)表面的能量域值在50~80eV之间. 展开更多
关键词 紧束缚分子动力学 团簇 碰撞 入射角 域值 化学反应 表面 si(111) 生化 利用
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超晶格插入层对Si基上GaN薄膜位错密度的影响(英文) 被引量:1
16
作者 刘晓峰 冯玉春 彭冬生 《电子器件》 CAS 2008年第1期61-64,共4页
为了降低MOCVD外延生长Si基GaN的缺陷密度,尝试引入超晶格插入层。界面突变的超晶格插入层能有效地阻挡由缓冲层延伸出来的位错。即使超晶格本身也产生位错,但位错的产生率比阻挡率低,所以超晶格总体起阻挡作用,可以减少后续生长的HT-G... 为了降低MOCVD外延生长Si基GaN的缺陷密度,尝试引入超晶格插入层。界面突变的超晶格插入层能有效地阻挡由缓冲层延伸出来的位错。即使超晶格本身也产生位错,但位错的产生率比阻挡率低,所以超晶格总体起阻挡作用,可以减少后续生长的HT-GaN(高温氮化镓)的位错密度。研究了超晶格厚度对HT-GaN的位错密度的影响,比较了超晶格厚度不同的3个样品,并采用高分辨双晶X射线衍射(DCXRD)对GaN进行结晶质量的分析,分别用H3PO4+H2SO4混合溶液和熔融KOH对样品进行腐蚀并用扫描电子显微镜(SEM)对腐蚀的样品进行观察。用H3PO4+H2SO4腐蚀过的样品比用KOH腐蚀过的样品的位错密度大,进一步验证了之前有报道过的H3PO4+H2SO4溶液同时腐蚀螺位错和混合位错而KOH只腐蚀螺位错。分析结果表明,引入适当厚度的超晶格插入层,可以有效地降低后续生长的GaN的位错密度。 展开更多
关键词 GAN si(111) 超晶格 位错密度
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脉冲激光沉积法在Si(111)衬底上生长高c轴取向LiNbO_3薄膜
17
作者 曹亮亮 叶志镇 +1 位作者 王新昌 赵炳辉 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第3期211-213,221,共4页
在氧压20Pa,衬底温度600℃,靶材与衬底距离4cm的最优化条件下,利用脉冲激光沉积(PLD)技术首次在无诱导电压和任何缓冲层的情况下,在单晶Si(111)衬底上生长具有优良结晶品质和高c轴取向的LiNbO3晶体薄膜。利用X射线衍射(XRD)、扫描电子... 在氧压20Pa,衬底温度600℃,靶材与衬底距离4cm的最优化条件下,利用脉冲激光沉积(PLD)技术首次在无诱导电压和任何缓冲层的情况下,在单晶Si(111)衬底上生长具有优良结晶品质和高c轴取向的LiNbO3晶体薄膜。利用X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)和原子力显微镜(AFM)对LiNbO3薄膜的结晶品质,择优取向性以及表面形貌进行了系统的分析。结果表明生长出了具有优异晶体质量的c轴取向LiNbO3薄膜,表面光滑平整且无裂纹产生,表面粗糙度约4.8nm,有利于硅基光电子器件的制备和利用。 展开更多
关键词 LINBO3 si(111) C轴取向 脉冲激光沉积
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利用STM研究Ag粒子在Si(111)7×7重构表面的生长 被引量:1
18
作者 柏亚军 申自勇 +2 位作者 侯士敏 赵兴钰 薛增泉 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第6期411-414,共4页
利用超高真空扫描隧道显微镜 (UHVSTM)研究了室温条件下沉积在Si(111) 7× 7重构表面不同覆盖度的Ag粒子。实验结果表明 ,低覆盖度时的Ag粒子主要有A、B两种类型 ,其中A型Ag粒子呈环状结构 ,最小的A型Ag粒子由 3个Ag原子组成 ;而B... 利用超高真空扫描隧道显微镜 (UHVSTM)研究了室温条件下沉积在Si(111) 7× 7重构表面不同覆盖度的Ag粒子。实验结果表明 ,低覆盖度时的Ag粒子主要有A、B两种类型 ,其中A型Ag粒子呈环状结构 ,最小的A型Ag粒子由 3个Ag原子组成 ;而B型Ag粒子则是由两层Ag原子构成。高覆盖度时Ag粒子的生长过程为层岛混合生长 (Stranski Krastanov)模式。本文还研究了不同蒸发速率对Ag原子成核的影响 ,发现在高蒸发速率条件下Ag原子在Si(111) 7× 7重构表面更容易成核。 展开更多
关键词 粒子 原子 表面 成核 STM 室温条件 环状结构 si(111) 超高真空 扫描隧道显微镜
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Si(111)面电子结构、表面能和功函数的第一性原理研究(英文) 被引量:1
19
作者 刘其军 刘正堂 冯丽萍 《中山大学研究生学刊(自然科学与医学版)》 2009年第2期71-77,共7页
本文采用基于密度泛函理论(DFT)框架下的平面波超软赝势法研究了体相Si和Si(111)面。计算得到的体相Si的晶格常数、体积模量和结合能较好地与其它文献结果吻合。在表面结构中,由于Si-3p态的影响导致键长和电荷密度的改变。键长在第一二... 本文采用基于密度泛函理论(DFT)框架下的平面波超软赝势法研究了体相Si和Si(111)面。计算得到的体相Si的晶格常数、体积模量和结合能较好地与其它文献结果吻合。在表面结构中,由于Si-3p态的影响导致键长和电荷密度的改变。键长在第一二层,二三层和三四层之间由2.338(?)变为2.286(?),2.382(?),2.352(?),电荷密度由0.57946×10~3 electrons/nm^3变为0.60419×10~3,0.5143×10~3和0.55925×10~3electrons/nm^3。计算得到的Si(111)的表面能和功函数为Si的应用提供了理论依据。 展开更多
关键词 si(111) 电子结构 表面能 功函数 第一性原理
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Growth of Strain Free GaN Layers on (0001) Oriented Sapphire by Using Quasi-Porous GaN Template 被引量:1
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作者 解新建 钟飞 +8 位作者 邱凯 刘贵峰 尹志军 王玉琦 李新华 姬长建 韩奇峰 陈家荣 曹先存 《Chinese Physics Letters》 SCIE CAS CSCD 2006年第6期1619-1622,共4页
We report the reduced-strain gallium-nitride (GaN) epitaxial growth on (0001) oriented sapphire by using quasiporous GaN template. A GaN film in thickness of about 1 μm was initially grown on a (0001) sapphire ... We report the reduced-strain gallium-nitride (GaN) epitaxial growth on (0001) oriented sapphire by using quasiporous GaN template. A GaN film in thickness of about 1 μm was initially grown on a (0001) sapphire substrate by molecular beam epitaxy. Then it was dealt by putting into 45% NaOH solution at 100℃ for lOmin. By this process a quasi-porous GaN film was formed. An epitaxial GaN layer was grown on the porous GaN layer at 1050℃ in the hydride vapour phase epitaxy reactor. The epitaxial layer grown on the porous GaN is found to have no cracks on the surface. That is much improved from many cracks on the surface of the GaN epitaxial layer grown on the sapphire as the same as on GaN buffer directly. 展开更多
关键词 EPITAXIAL LATERAL OVERGROWTH VAPOR-PHASE EPITAXY MBE GROWTH si(111) MOVPE SUBSTRATE siLICON
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