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极紫外投影光刻原理装置的集成研究 被引量:4
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作者 金春水 马月英 +1 位作者 裴舒 曹健林 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第7期852-857,共6页
论述了光刻技术发展的历程、趋势和极紫外投影光刻技术的特性 ,并介绍了极紫外投影光刻原理装置的研制工作。该装置由激光等离子体光源、掠入射椭球聚光镜、透射掩模、施瓦茨微缩投影物镜及相应的真空系统组成。其工作波长为 13nm ,在... 论述了光刻技术发展的历程、趋势和极紫外投影光刻技术的特性 ,并介绍了极紫外投影光刻原理装置的研制工作。该装置由激光等离子体光源、掠入射椭球聚光镜、透射掩模、施瓦茨微缩投影物镜及相应的真空系统组成。其工作波长为 13nm ,在直径为 0 1mm的像方视场内设计分辨率优于 0 1μm。 展开更多
关键词 极紫外投影光刻原理装置 极紫外投影光刻 多层膜反射镜 schwarzschild物镜 集成电路 制造技术
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Schwarzschild物镜装卡应力对光学元件面形的影响 被引量:3
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作者 王玲 王新 +3 位作者 穆宝忠 伊圣振 朱京涛 王占山 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第10期2599-2603,共5页
为了实现接近衍射极限的分辨率,工作在极紫外波段的Schwarzschild物镜要求其光学元件的面形精度达到约1nm(RMS值);而在物镜的装配过程中,装卡产生的应力会影响光学元件的面形精度,定量计算装卡应力对元件面形的影响是获得高分辨率成像... 为了实现接近衍射极限的分辨率,工作在极紫外波段的Schwarzschild物镜要求其光学元件的面形精度达到约1nm(RMS值);而在物镜的装配过程中,装卡产生的应力会影响光学元件的面形精度,定量计算装卡应力对元件面形的影响是获得高分辨率成像的关键。在光学设计、公差分析的基础上,采用有限元模型系统地分析了应力对Schwarzschild物镜光学元件面形精度的影响。结果表明:采用自行设计的物镜结构,应力对主镜面形的影响可以达到0.7nm,而对副镜的影响可以忽略;应力所产生的光学元件面形变化会使系统的几何传递函数(5000lp/mm)从0.76下降到0.61。 展开更多
关键词 schwarzschild物镜 有限元 面形误差 应力
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18.2nm Schwarzschild显微物镜用多层膜带宽匹配问题分析 被引量:1
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作者 王占山 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 1999年第3期14-18,共5页
软X射线多层膜的进展使正入射高分辨率成像系统从红外、可见和紫外扩展到软X射线波段。由于软X射线多层膜的反射率还不能像其它波段反射镜反射率那样高,因此由两块同心球面反射镜组成的Schwarzschild物镜在软X射线波... 软X射线多层膜的进展使正入射高分辨率成像系统从红外、可见和紫外扩展到软X射线波段。由于软X射线多层膜的反射率还不能像其它波段反射镜反射率那样高,因此由两块同心球面反射镜组成的Schwarzschild物镜在软X射线波段得到了广泛的应用。本文从多层膜带宽匹配条件、Schwarzschild显微物镜的几何尺寸和多层膜镀制设备的性能出发,研究了实现Schwarzschild显微物镜带宽匹配条件的镀膜过程,为实际制备Schwarzschild显微物镜用多层膜提供理论指导。 展开更多
关键词 软X射线多层膜 带宽匹配 显微物镜
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Schwarzschild microscopes in vacuum ultraviolet and soft X-ray regions
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作者 M.WATANABE M.YANAGIHARA +5 位作者 T.EJIMA M.TOYODA Y.KONDO T.HATANO T.TSURU M.YAMAMOTO 《Nuclear Science and Techniques》 SCIE CAS CSCD 2005年第3期129-138,共10页
Microscopes in vacuum ultraviolet and soft X-ray regions using a normal incidence type of Schwarzschild objective are reviewed. The objective consists of a concave mirror and a convex mirror coated with a high reflect... Microscopes in vacuum ultraviolet and soft X-ray regions using a normal incidence type of Schwarzschild objective are reviewed. The objective consists of a concave mirror and a convex mirror coated with a high reflectance multilayer,having a large numerical aperture comparing with other objectives. The microscopes have been used to diagnose inertia-confinement-fusion plasmas,and to investigate small samples or microstructures of in- organic and organic materials by imaging them using laboratory light sources. Synchrotron radiation has been also used to obtain a microbeam for a photoelectron scanning microscope with a spatial resolution of 0.1 μm. The struc- ture and performance of two laboratory microscopes developed at Tohoku University are demonstrated. One of them is a soft X-ray emission imaging microscope. An image of an artificial pattern made of W and SiO2 on Si wafer by focusing Si L emission was presented. The other is an ultraviolet photoelectron scanning microscope using a He (he- lium) gas discharge lamp. The valence band spectra of a microcrystal of FeWO4 were presented. Furthermore other applications such as demagnifying optics for lithography and optics to gather fluorescence for emission spectroscopy are introduced. 展开更多
关键词 施瓦兹希尔物镜 真空紫外线辐射 软X-射线 显微镜 光电子
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