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题名光刻过程RtR控制方法研究进展分析
被引量：1
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作者
王亮
胡静涛
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机构
中国科学院沈阳自动化所工业信息学重点实验室
中国科学院研究生院
沈阳化工大学
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出处
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
2011年第3期199-205,共7页
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基金
国家科技重大专项(2009ZX02001-005)
沈阳市科技计划资助项目(108155202200)
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文摘
首先对光刻过程和RtR(Run-to-Run)控制技术的产生背景进行了介绍,对统计过程控制的不足进行了分析并给出了RtR控制器的一般结构。然后从过程建模和控制算法两个角度对三种主要的光刻过程RtR控制器EWMA,MPC和ANN进行了综述和评价,对这三种控制器在非线性控制、单变量控制、多变量控制的适用性和优化控制效果进行了比较分析。最后指出基于MPC的非线性多变量控制器将成为光刻过程RtR控制器的主要研究方向。
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关键词
半导体制造
光刻过程
rtr控制
过程控制
模型预测控制
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Keywords
semiconductor manufacturing
lithography process
rtr control
process control
model predictive control
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分类号
TN305.7
[电子电信—物理电子学]
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题名半导体混合产品批间控制的理论与实验研究
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作者
郑英
王彦吨
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机构
华中科技大学控制科学与工程系
中煤国际工程集团武汉设计研究院
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出处
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
2008年第5期454-457,共4页
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基金
国家自然基金资助项目(60604030,60704035)
湖北省自然基金资助项目(2005ABA252)
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文摘
提出了用一种半导体工业用双产品模型来研究基于机台和基于产品的控制方法。在此基础上,得到了闭环系统的输出,评估了控制性能。由于NH3的挥发类似于半导体工业的机台漂移,因此对纳米级SiO2粒子进行了实验研究。在氨溶液挥发的影响下制造不同大小的SiO2粒子,以模拟在机台干扰下生产不同产品。实验研究证实了理论结果,即基于机台的方法有时不稳定,而基于产品的方法是稳定的。
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关键词
批间控制
基于机台的控制方法
基于产品的控制方法
二氧化硅粒子大小控制
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Keywords
run-to-run （rtr） control
tool-based control
product-based control
SiO2 particle size control
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分类号
TP273
[自动化与计算机技术—检测技术与自动化装置]
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