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贵金属化学气相沉积的研究进展 被引量：12
1
作者 胡昌义 戴姣燕 +2 位作者 陈松 欧阳远良 王云 《贵金属》 CAS CSCD 2005年第2期57-63,共7页
简要介绍了贵金属薄膜和涂层材料化学气相沉积(CVD)技术的研究进展,包括贵金属的CVD制备方法、沉积贵金属的各种前驱体化合物以及CVD制备的贵金属薄膜和涂层的应用状况等。
关键词 金属材料 贵金属薄膜和涂层 化学气相沉积 前驱体 应用
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