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新世纪光刻技术及光刻设备的发展趋势 被引量:21
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作者 苏雪莲 《微电子技术》 2001年第2期8-17,共10页
本文主要阐述了光刻技术的发展极限及 193nm、 157nm光学光刻技术和电子束投影光刻 (SCALPEL)、X -射线光刻 (XRL)离子投影光刻 (IPL)等技术的发展趋势。并详细介绍了国际著名品牌的光刻机以及即将推出的新一代光刻机。对国内光刻设备... 本文主要阐述了光刻技术的发展极限及 193nm、 157nm光学光刻技术和电子束投影光刻 (SCALPEL)、X -射线光刻 (XRL)离子投影光刻 (IPL)等技术的发展趋势。并详细介绍了国际著名品牌的光刻机以及即将推出的新一代光刻机。对国内光刻设备的发展现状作了简要概述。 展开更多
关键词 光刻技术 光刻设备 电子束投影光刻 光学光刻
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特长公路隧道消防报警系统设计 被引量:2
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作者 赵忠杰 仝秋红 《现代电子技术》 1999年第8期26-28,共3页
针对公路隧道特征, 结合工程实例, 讨论了特长公路隧道消防报警设施的设置原则,给出了特长公路隧道消防报警系统的控制方案及救灾流程。
关键词 特长公路隧道 消防报警 系统方案
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光刻机的防死锁调度 被引量:2
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作者 何晓昳 吴智铭 《微型电脑应用》 2008年第6期52-54,3,共3页
半导体生产线是目前世界上公认的最复杂的制造系统之一。光刻机是半导体晶圆制造的瓶颈设备,其费用相当昂贵。光刻机由若干个自动组合装置组成,如果调度不当,生产可能会出现死锁。死锁的发生不仅大大降低光刻机的效率,而且破坏晶圆质量... 半导体生产线是目前世界上公认的最复杂的制造系统之一。光刻机是半导体晶圆制造的瓶颈设备,其费用相当昂贵。光刻机由若干个自动组合装置组成,如果调度不当,生产可能会出现死锁。死锁的发生不仅大大降低光刻机的效率,而且破坏晶圆质量。本文利用图论的算法编制软件并进行仿真可以得到无死锁的调度方案。 展开更多
关键词 晶圆制造 光刻机 无死锁调度
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今年与明年的世界半导体设备市场
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作者 翁寿松 《半导体杂志》 1999年第3期35-39,共5页
介绍了1999 ~2000 年世界半导体设备市场,包括设备投资、光刻机和布线形成设备。
关键词 半导体设备 设备投资 光机 布线形成设备 世界
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