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自组装方法化学沉积NiMoP镀层研究
被引量：
3
1
作者
刘璐
杨志刚
+1 位作者
刘殿龙
张弛
《稀有金属材料与工程》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2009年第5期895-900,共6页
应用自组装膜吸附钯的活化方法,在SiO2/Si平面基板表面化学沉积NiMoP阻挡层。应用XRF、XRD、SEM以及四探针等方法探讨了镀液中钼酸根浓度、温度及pH值对NiMoP镀层的影响。结果表明,镀层中Mo与P含量互相制约;随钼酸钠浓度上升,化学镀NiMo...
应用自组装膜吸附钯的活化方法,在SiO2/Si平面基板表面化学沉积NiMoP阻挡层。应用XRF、XRD、SEM以及四探针等方法探讨了镀液中钼酸根浓度、温度及pH值对NiMoP镀层的影响。结果表明,镀层中Mo与P含量互相制约;随钼酸钠浓度上升,化学镀NiMoP的沉积速度逐渐降低,镀层结构由非晶态向晶态转变,镀层电阻率降低;随镀液温度上升,NiMoP镀层的沉积速度逐渐升高;镀液pH值在一定范围内上升可提高NiMoP镀层的沉积速度,镀层的晶粒尺寸与沉积速度有相同的变化趋势。
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关键词
化学沉积
自组装层
nimop
阻挡层
下载PDF
职称材料
题名
自组装方法化学沉积NiMoP镀层研究
被引量：
3
1
作者
刘璐
杨志刚
刘殿龙
张弛
机构
清华大学先进材料教育部重点实验室
出处
《稀有金属材料与工程》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2009年第5期895-900,共6页
文摘
应用自组装膜吸附钯的活化方法,在SiO2/Si平面基板表面化学沉积NiMoP阻挡层。应用XRF、XRD、SEM以及四探针等方法探讨了镀液中钼酸根浓度、温度及pH值对NiMoP镀层的影响。结果表明,镀层中Mo与P含量互相制约;随钼酸钠浓度上升,化学镀NiMoP的沉积速度逐渐降低,镀层结构由非晶态向晶态转变,镀层电阻率降低;随镀液温度上升,NiMoP镀层的沉积速度逐渐升高;镀液pH值在一定范围内上升可提高NiMoP镀层的沉积速度,镀层的晶粒尺寸与沉积速度有相同的变化趋势。
关键词
化学沉积
自组装层
nimop
阻挡层
Keywords
electroless
deposition
self-assembled
monolayer
（SAM）
nimop
barrier
分类号
TQ153.2 [化学工程—电化学工业]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
自组装方法化学沉积NiMoP镀层研究
刘璐
杨志刚
刘殿龙
张弛
《稀有金属材料与工程》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2009
3
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职称材料
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