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壳聚糖膜与Co(Ⅱ)、Ni(Ⅱ)、Cu(Ⅱ)复合物的IR光谱和XPS谱 被引量:10
1
作者 郝志峰 杨阳 +2 位作者 余坚 张耀芳 陈广新 《光谱实验室》 CAS CSCD 2003年第6期799-802,共4页
将壳聚糖制成膜后浸泡在含有金属离子 Cu( )、Co( )、Ni( )的溶液中制备得到相应的复合物。根据 IR光谱中官能团特征频率的位移和 XPS谱中元素结合能的变化 ,表明 Co( )、Ni( )、Cu( )与壳聚糖膜的吸附机理包括物理作用和化学吸附 ,其... 将壳聚糖制成膜后浸泡在含有金属离子 Cu( )、Co( )、Ni( )的溶液中制备得到相应的复合物。根据 IR光谱中官能团特征频率的位移和 XPS谱中元素结合能的变化 ,表明 Co( )、Ni( )、Cu( )与壳聚糖膜的吸附机理包括物理作用和化学吸附 ,其中化学吸附是通过壳聚糖表面部分 - NH2 提供孤对电子和金属离子形成了配位键。 展开更多
关键词 壳聚糖膜 Co(Ⅱ) ni(Ⅱ) Cu(Ⅱ) 复合物 IR光谱 XPS谱 红外光谱 X射线光电子能谱 金属离子 宫能团 特征频率 吸附机理 化学吸附
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磁控溅射镍膜及其性能的研究 被引量:8
2
作者 余凤斌 夏祥华 +1 位作者 于子龙 耿秋菊 《绝缘材料》 CAS 2008年第2期57-59,63,共4页
采用磁控溅射法在聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)基材上制备了镍薄膜。用扫描电子显微镜(SEM)分析溅射功率、溅射真空室气压等工艺参数对镍薄膜表面形貌的影响;研究了溅射工艺参数与薄膜性能之间的关系。实验结果表明,在室温下,随着溅射气... 采用磁控溅射法在聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)基材上制备了镍薄膜。用扫描电子显微镜(SEM)分析溅射功率、溅射真空室气压等工艺参数对镍薄膜表面形貌的影响;研究了溅射工艺参数与薄膜性能之间的关系。实验结果表明,在室温下,随着溅射气压的增加,沉积速率和粒径都是先增加后又逐渐变小,而薄膜的电阻则随着压强的增大先减小后逐步增大;薄膜的表面粗糙度随着溅射功率的增加而增大;膜层与基材的剥离强度较大且均匀,膜层结合较为牢固,薄膜的耐摩擦性能较为优良。 展开更多
关键词 磁控溅射 薄膜 ni
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Ni-WC纳米复合镀层的制备及钝化性能研究 被引量:12
3
作者 武占文 陈吉 +1 位作者 朴楠 杨明川 《金属学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2013年第10期1185-1190,共6页
利用直流复合电镀方法将WC纳米颗粒均匀分散到Ni镀层,用微米压痕仪测试了镀层的力学性能,用动电位极化曲线研究了镀层在pH=9.0的0.05 mol/L H_3BO_3+0.075 mol/L Na_2B_4O_7缓冲溶液中的电化学性能.结果表明,与纯Ni镀层相比,纳米复合镀... 利用直流复合电镀方法将WC纳米颗粒均匀分散到Ni镀层,用微米压痕仪测试了镀层的力学性能,用动电位极化曲线研究了镀层在pH=9.0的0.05 mol/L H_3BO_3+0.075 mol/L Na_2B_4O_7缓冲溶液中的电化学性能.结果表明,与纯Ni镀层相比,纳米复合镀层的晶粒尺寸显著减小,约为21 nm;硬度提高了81%,达到651 HV;自腐蚀电流密度降低约一个数量级,约为1.29×10^(-7)A/cm^2;破钝电位基本一致,但致钝电位(10 mV)更低,维钝电流密度(1.79×10^(-6)A/cm^2)更小,仅为纯Ni镀层的1/7.利用Mott-Schottky理论结合点缺陷模型分析表明:表面钝化膜仍具有p型半导体特征,WC纳米颗粒显著降低基体Ni的晶粒尺寸,引起钝化膜中点缺陷密度和扩散系数的降低. 展开更多
关键词 纳米复合镀层 ni-WC 腐蚀 钝化膜 硬度
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镁合金表面Ni+C涂层的耐腐蚀与耐磨性能研究 被引量:9
4
作者 冯凯 李铸国 张超 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2017年第3期28-33,共6页
目的提高镁合金表面的耐腐蚀和耐磨损性能。方法采用非平衡磁控溅射离子镀技术与化学镀技术相结合,在GW83镁合金表面制备Ni+C复合膜层。通过扫描电子显微镜和拉曼光谱分析了薄膜的形貌、成分和结构。利用电化学和浸泡后ICP-AES测试,评... 目的提高镁合金表面的耐腐蚀和耐磨损性能。方法采用非平衡磁控溅射离子镀技术与化学镀技术相结合,在GW83镁合金表面制备Ni+C复合膜层。通过扫描电子显微镜和拉曼光谱分析了薄膜的形貌、成分和结构。利用电化学和浸泡后ICP-AES测试,评价了该复合碳膜涂层的耐腐蚀性能。同时采用摩擦磨损试验获得Ni+C复合膜层的磨损寿命。结果 Ni+C复合膜层致密均匀,表面孔隙率极低,表面碳层为典型的类石墨膜并且含有大量的无序结构。相对于GW83镁合金来说,Ni+C复合膜层的存在导致在3.5%Na Cl溶液中的腐蚀电位正移了301 m V,腐蚀电流密度从186μA/cm2降低至11μA/cm2。浸渍后ICP-AES试验显示,Ni+C涂覆的镁合金GW83的金属离子释放量更低。摩擦磨损试验表明,Ni+C涂层的磨损寿命为7000 s,与镁合金基体相比,Ni+C复合涂层极大地提高了其磨损寿命。结论在该Ni+C复合膜层中,表面碳层较致密,与Ni层结合良好,显著提高了基体的耐腐蚀性能。此外由于存在较厚的Ni中间层,对膜层起到了较大的支撑作用,Ni+C复合膜层从而延长了基体镁合金的磨损寿命。 展开更多
关键词 镁合金 磁控溅射 C膜 ni镀层 耐腐蚀性 耐磨性
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Electrodeposition and corrosion behavior of nanostructured Ni-TiN composite films 被引量:7
5
作者 朱旭蓓 蔡超 +2 位作者 郑国渠 张昭 李劲风 《Transactions of Nonferrous Metals Society of China》 SCIE EI CAS CSCD 2011年第10期2216-2224,共9页
The Ni-TiN nanocomposite film was successfully electrodeposited on brass copper substrates.The microstructures of the Ni-TiN nanocomposite film were investigated using scanning electron microscopy(SEM) and transmiss... The Ni-TiN nanocomposite film was successfully electrodeposited on brass copper substrates.The microstructures of the Ni-TiN nanocomposite film were investigated using scanning electron microscopy(SEM) and transmission electron microscopy(TEM).Its average grain size was analyzed through X-ray diffraction(XRD),and its anti-corrosion property was studied through potentiodynamic scanning curves and electrochemical impedance spectroscopy(EIS).The results show that the morphology of Ni-TiN composite film is sensitively dependent on the electroplating current density,TiN nanoparticle concentration,solution stirring speed,bath temperature and pH value of solution.The average grain size of the optimized nanocomposite film is about 50 nm.Meanwhile,the Ni-TiN nanocomposite films are much more resistant to corrosion than pure Ni coatings. 展开更多
关键词 ni-TiN nanocomposite film ELECTRODEPOSITION electrochemical impedance spectroscopy
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N_2流量对反应共溅射TiN/Ni纳米复合膜结构和结合强度的影响 被引量:7
6
作者 贺春林 高建君 +3 位作者 王苓飞 马国峰 刘岩 王建明 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2018年第12期2038-2042,共5页
以高纯Ti和Ni为靶材,在不同N_2气流量下反应磁控共溅射了TiN/Ni纳米复合膜,采用原子力显微镜、X射线衍射、X射线光电子能谱、场发射扫描电镜和划痕试验研究了N_2气流量对复合膜微结构、界面结合力和摩擦系数的影响。结果表明,共溅射TiN... 以高纯Ti和Ni为靶材,在不同N_2气流量下反应磁控共溅射了TiN/Ni纳米复合膜,采用原子力显微镜、X射线衍射、X射线光电子能谱、场发射扫描电镜和划痕试验研究了N_2气流量对复合膜微结构、界面结合力和摩擦系数的影响。结果表明,共溅射TiN/Ni纳米复合膜组织细小、表面光滑、致密。TiN为fcc结构,其择优取向为(111)面。随N_2气流量增加,复合膜孔隙率、晶粒尺寸和沉积速率均出现不同程度的下降;而膜表面粗糙度先减小后增大,界面结合力则先提高后下降。本实验条件下,在N_2气流量为16mL/min时所沉积的复合膜表面粗糙度最小、界面结合力最好,分别为2.75nm和44.6N,此时复合膜的摩擦系数最低,为0.14。 展开更多
关键词 TiN/ni 纳米复合膜 反应磁控共溅射 微结构 N2流量 界面结合力
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多孔NiTi形状记忆合金中Ni的释放行为 被引量:5
7
作者 姜海昌 戎利建 《金属学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2008年第2期198-202,共5页
多孔NiTi合金在生理盐水和模拟体液中的Ni释放速率远大于具有相同名义表面积的致密态NiTi合金.在恒定的静弯曲应变的作用下,多孔NiTi形状记忆合金Ni释放速率呈现增大的趋势.多孔NiTi合金在60℃的4 mol/L的NaOH溶液中浸泡24 h,然后在600... 多孔NiTi合金在生理盐水和模拟体液中的Ni释放速率远大于具有相同名义表面积的致密态NiTi合金.在恒定的静弯曲应变的作用下,多孔NiTi形状记忆合金Ni释放速率呈现增大的趋势.多孔NiTi合金在60℃的4 mol/L的NaOH溶液中浸泡24 h,然后在600℃进行1 h处理后,合金表面形成一层氧化膜,阻隔了浸液与基体的接触,明显降低多孔NiTi合金的Ni释放速率. 展开更多
关键词 多孔niTI形状记忆合金 ni释放 模拟体液 氧化膜
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聚合物-Ni(Ⅱ)膜电极的研究 被引量:6
8
作者 陈衍珍 李容芬 田昭武 《物理化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 1991年第2期158-162,共5页
Ni(Ⅱ)离子可与聚8羟基喹啉、聚邻氨基酚、聚邻苯二胺和聚苯胺络合。聚合物-Ni(Ⅱ)膜电极的循环伏安图有明显的氧化还原蜂,和彼此相似的电化学特性。聚8羟基喹啉膜(聚邻氨基酚,聚邻苯二胺)可用以交换Ni(Ⅱ)与H^+离子和分离Ni(Ⅱ)、Co(Ⅱ... Ni(Ⅱ)离子可与聚8羟基喹啉、聚邻氨基酚、聚邻苯二胺和聚苯胺络合。聚合物-Ni(Ⅱ)膜电极的循环伏安图有明显的氧化还原蜂,和彼此相似的电化学特性。聚8羟基喹啉膜(聚邻氨基酚,聚邻苯二胺)可用以交换Ni(Ⅱ)与H^+离子和分离Ni(Ⅱ)、Co(Ⅱ)和Fe(Ⅱ)离子。 展开更多
关键词 膜电极 聚合物 ni 羟基喹啉 电聚合
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掺硼金刚石薄膜表面高分散镍纳米颗粒的制备 被引量:1
9
作者 王彩华 《材料研究与应用》 CAS 2023年第1期136-141,共6页
化学气相沉积制备掺硼金刚石薄膜因具有电化学势窗口宽、化学稳定性高和抗污能力强等特征,在电化学领域中有广阔的应用前景。用高分散金属纳米颗粒对掺硼金刚石(BDD)薄膜进行表面修饰,可显著提高其比表面积和活性位点,提升掺硼金刚石薄... 化学气相沉积制备掺硼金刚石薄膜因具有电化学势窗口宽、化学稳定性高和抗污能力强等特征,在电化学领域中有广阔的应用前景。用高分散金属纳米颗粒对掺硼金刚石(BDD)薄膜进行表面修饰,可显著提高其比表面积和活性位点,提升掺硼金刚石薄膜的电化学性能。采用混合酸对掺硼金刚石薄膜进行表面改性,获得亲水性表面,继而生长镍金属框架材料(Ni-MOFs),热处理后获得镍纳米颗粒。借助接触角测定仪对薄膜表面终端进行分析,并通过扫描电子显微镜对纳米镍颗粒修饰的BDD薄膜进行表征。结果表明:BDD表面从以氢端基为主的H-BDD转变为以氧基团为主的O-BDD表面,接触角由70°减小为33.7°;纳米镍颗粒分散均匀,粒径大小为5—12 nm,颗粒密度约为3.5×10^(6)cm^(−2)。 展开更多
关键词 掺硼金刚石 薄膜 ni-MOFs 表面改性 修饰 纳米颗粒
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Ni修饰层对SnO_2薄膜气敏性能影响 被引量:4
10
作者 王磊 杜军 +1 位作者 毛昌辉 杨志民 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第6期512-516,共5页
采用磁控溅射技术在SnO2薄膜表面修饰金属Ni,研究Ni修饰量对SnO2薄膜气敏性能影响。对Ni-SnO2薄膜进行表面成分分析,发现Ni的表面含量和化学价态对Ni-SnO2薄膜气敏性能影响至关重要。Ni的表面修饰量在3.4%-8.8%之间将有效提高SnO... 采用磁控溅射技术在SnO2薄膜表面修饰金属Ni,研究Ni修饰量对SnO2薄膜气敏性能影响。对Ni-SnO2薄膜进行表面成分分析,发现Ni的表面含量和化学价态对Ni-SnO2薄膜气敏性能影响至关重要。Ni的表面修饰量在3.4%-8.8%之间将有效提高SnO2薄膜对低浓度氢气的敏感性能。180℃工作温度下,表面含Ni3.4%的SnO2薄膜对1000ppm的氢气灵敏度最高为59.6,同时响应时间和恢复时间降低至15s和125s。Ni修饰量增加到23.4%,薄膜的气敏性能恶化,这是因为修饰层过厚,阻碍气体与SnO2材料接触。同时,XPS证实NiO是增加SnO2薄膜气敏性能的主要物质,增敏机理解释为Ni氧化后形成的NiO在SnO2薄膜上形成p-n结,促进元件的电导变化,从而提高了薄膜的气敏性能。 展开更多
关键词 SNO2 ni 薄膜 表面修饰 气体传感器
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空心玻璃微球镍镀层的制备及其电磁性能 被引量:3
11
作者 于美 刘建华 +1 位作者 李松梅 徐亮 《材料工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第6期1-4,共4页
采用化学镀技术在低密度玻璃微球表面沉积了一层Ni镀层,制备了具有导电性和磁性的Ni镀层/玻璃微球壳一核复合粉体。采用X射线衍射仪(XRD)、扫描电镜(SEM)和能谱仪(EDS)对化学镀前后玻璃微球的结构、表面形貌以及成分进行了分析... 采用化学镀技术在低密度玻璃微球表面沉积了一层Ni镀层,制备了具有导电性和磁性的Ni镀层/玻璃微球壳一核复合粉体。采用X射线衍射仪(XRD)、扫描电镜(SEM)和能谱仪(EDS)对化学镀前后玻璃微球的结构、表面形貌以及成分进行了分析。结果表明,化学镀后玻璃微球表面包覆了一层均匀致密的Ni薄膜,厚度约为0.2μm,镍具有面心立方结构。使用波导法在8~12GHz波段内对化学镀前后的微球进行了介电常数和磁导率测试。电磁性能研究表明,玻璃微球化学镀镍后电磁损耗增大,显示出作为电磁波吸收材料的应用前景。 展开更多
关键词 玻璃微球 化学镀 ni薄膜 电磁性能
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Electroless plating and growth kinetics of Ni-P alloy film on SiC_p/Al composite with high SiC volume fraction 被引量:4
12
作者 方萌 胡玲 +3 位作者 杨磊 史常东 吴玉程 汤文明 《Transactions of Nonferrous Metals Society of China》 SCIE EI CAS CSCD 2016年第3期799-805,共7页
After Sn/Pd activating, the SiCp/Al composite with 65% SiC (volume fraction) was coated by electroless Ni?P alloy plating. Surface morphology of the composite and its effect on the Ni?P alloy depositing process and bo... After Sn/Pd activating, the SiCp/Al composite with 65% SiC (volume fraction) was coated by electroless Ni?P alloy plating. Surface morphology of the composite and its effect on the Ni?P alloy depositing process and bonding action of Ni and P atoms in the Ni?P alloy were studied. The results show that inhomogeneous distribution of the Sn/Pd activating points results in preferential deposition of the Ni?P alloy particles on the Al alloy and rough SiC particle surfaces and in the etched caves. The Ni?P alloy film has an amorphous structure where chemical bonding between Ni and P atoms exists. After a continuous Ni?P alloy film formed, electroless Ni?P alloy plating is not affected by surface morphology and characteristics of the SiCp/Al composite any longer, but by the electroless plating process itself. The Ni?P alloy film follows linear growth kinetics with an activation energy of 68.44 kJ/mol. 展开更多
关键词 SiC_p/Al composite electroless plating ni-P alloy film MICROSTRUCTURE growth kinetics
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Pd-Ni合金氢气传感器抗干扰性能提升研究
13
作者 薛勇 张浩 +4 位作者 张月鑫 陈唯捷 林章程 肖彩丽 禹宇 《测试技术学报》 2023年第5期386-393,共8页
设计了一种Pd_(90)Ni_(10)薄膜电阻型氢气传感器,在Pd_(90)Ni_(10)薄膜表面覆盖一层保护膜以提高传感器在不同环境气体中的抗干扰性能。首先,研究了HfO_(2)、聚四氟乙烯(PTFE)、SiO_(2)、Al_(2)O_(3)4种不同材料对传感器抗干扰性能的提... 设计了一种Pd_(90)Ni_(10)薄膜电阻型氢气传感器,在Pd_(90)Ni_(10)薄膜表面覆盖一层保护膜以提高传感器在不同环境气体中的抗干扰性能。首先,研究了HfO_(2)、聚四氟乙烯(PTFE)、SiO_(2)、Al_(2)O_(3)4种不同材料对传感器抗干扰性能的提升影响,试验发现Al_(2)O_(3)保护膜对提升传感器抗干扰性能的效果最佳。其次,对Al_(2)O_(3)保护膜的厚度进行了优化,将Pd_(90)Ni_(10)薄膜氢气传感器的抗干扰性能进一步提升。最后,对传感器的零点电阻稳定性、氢气响应重复性、梯度响应等性能进行测试,得到了适用于Pd_(90)Ni_(10)薄膜氢气传感器的保护膜优化条件,使传感器的抗干扰等性能得到了提升。 展开更多
关键词 氢气传感器 Pd-ni 抗干扰 薄膜
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催化剂膜厚对碳纳米管薄膜生长的影响 被引量:4
14
作者 王小冬 王六定 +2 位作者 席彩萍 李昭宁 赵景辉 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第2期528-531,共4页
采用射频等离子体增强化学气相沉积技术,以Ni为催化剂,在Si基底上沉积出定向性良好的碳纳米管。用扫描电镜表征了催化剂颗粒大小和相应的碳纳米管形貌。深入研究了催化剂膜厚对碳纳米管生长的影响。结果表明:不同厚度的催化剂薄膜经刻... 采用射频等离子体增强化学气相沉积技术,以Ni为催化剂,在Si基底上沉积出定向性良好的碳纳米管。用扫描电镜表征了催化剂颗粒大小和相应的碳纳米管形貌。深入研究了催化剂膜厚对碳纳米管生长的影响。结果表明:不同厚度的催化剂薄膜经刻蚀形成的颗粒密度、尺寸、分布等对碳纳米管的合成质量起主要作用。催化剂厚度≤5 nm时,形成的颗粒密度较小而且分布不均,制备的碳纳米管产量低、定向性差。催化剂厚度≥15 nm时,形成的颗粒较大,粘连在一起,生长时大部分被非晶碳包覆,几乎没有碳纳米管的生长。催化剂厚度为10 nm时,形成的颗粒密度大、分布较均,制备的碳纳米管纯度高、定向性好。 展开更多
关键词 碳纳米管 ni薄膜 催化剂 膜厚
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Efficient prediction of corrosion behavior in ternary Ni-based alloy systems:Theoretical calculations and experimental verification
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作者 Xuelian Xiao Keke Chang +3 位作者 Kai Xu Ming Lou Liping Wang Qunji Xue 《Journal of Materials Science & Technology》 SCIE EI CAS CSCD 2023年第36期94-106,共13页
Pourbaix diagrams are calculated to describe electrochemical processes for alloys in aqueous solution.With the multi-component differentiation of alloy systems,the construction of Pourbaix diagrams is fac-ing challeng... Pourbaix diagrams are calculated to describe electrochemical processes for alloys in aqueous solution.With the multi-component differentiation of alloy systems,the construction of Pourbaix diagrams is fac-ing challenges,especially for non-single-phase alloy systems.In this study,the simultaneous construction of phase diagrams and Pourbaix diagrams were implemented for predicting the evolution of the phases in the immune and passive regions.The CALPHAD(CALculation of PHAse Diagram)approach was used to quickly access the Gibbs free energies of various phases and the chemical potential of the elements in the phases from the thermodynamic database of the Ni-Si-Al-Y system.The corrosion behavior of two typical Ni-Al-Si and Ni-Al-Y systems was investigated.Si and Y were added to Ni-based alloys to produce the solid solutions L12-Ni_(3)(Al,Si)and L12-Ni_(3)Al+Ni_(5)Y,respectively.Calculations showed that NiO and Al_(2)O_(3)make up the passive area of the Ni_(3)Al 1 alloy.The introduction of SiO_(2)and Y(OH)3 in the passive region separately helped to minimize the alloys’susceptibility to corrosion.However,Si reduced the thermody-namical possibility of NiO for mation in the passive film,and the addition of Y caused extreme galvanic corrosion.Experiments on Ni-based alloys validated the results through electrochemical corrosion.It was also discovered that the presence of Ni_(5)Y produced galvanic corrosion and that Si reduced the oxide in the passive film,causing pitting corrosion.The corrosion prediction of the quaternary alloys indicates that the solid solution of Si in Ni_(5)Y reduces the galvanic corrosion effect and the dissolution of passive film.The current work demonstrates that phase diagrams and Pourbaix diagrams may be efficiently and accurately predicted using a well-constructed thermodynamic database,which has major implications for future studies on the corrosion behavior of multi-component alloys. 展开更多
关键词 Pourbaix diagrams CALPHAD ni-based alloys Passive film
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Corrosion behavior of additive-manufactured NiFeCrMo alloys in various corrosion media
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作者 Dong-peng Wang Shuai Wang +7 位作者 Zhen Chen Xing-cheng Xie Zhen-zhen Dong Hong-zhou Dong Yi-cheng Wu Zhen-guang Liu Wei-li Li Yu-xin Wang 《Journal of Iron and Steel Research International》 SCIE EI CAS CSCD 2023年第8期1574-1585,共12页
To understand the corrosion performance of additive-manufactured Ni-based in various corrosion media during the actual engineering application environment,the corrosion properties of NiFeCrMo alloys were investigated ... To understand the corrosion performance of additive-manufactured Ni-based in various corrosion media during the actual engineering application environment,the corrosion properties of NiFeCrMo alloys were investigated in 3.5 wt.%NaCl solution,1 mol/L H2SO_(4) solution,and 1 mol/L KOH solution,using potentiodynamic polarization and electrochemical impedance spectroscopy.The electrochemical measurement results revealed that the additive-manufactured NiFeCrMo alloys have higher corrosion resistance in all three solutions,compared with the as-cast samples.The results of the scanning electron microscope confirmed that the degree of additive-manufactured NiFeCrMo alloys after potentiostatic polarization in all three solutions is less serious.X-ray photoelectron spectroscopy analysis revealed that the enhancement of the corrosion resistance for the additive-manufactured NiFeCrMo alloys is attributed to the modification of the composition of the passive films.Additive manufactured processing promotes the enrichment of the element of Cr or Mo in the passive film and it suppresses the formation of the oxidation of the element of Fe,leading to higher stability of the passive films.The reason for the higher corrosion resistance of the additive-manufactured NiFeCrMo alloys was related to the enrichment of the element of Cr,as well as the lower content of the elements of Ni and Fe near the grain boundaries,which are beneficial to forming a more compact passive film.The combined results are essential for the applications of high-strength Ni-based as structural materials in a corrosion environment. 展开更多
关键词 ni-based alloy Additive manufacturing CORROSION Passive film Corrosion media
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Ni在穿孔顶头制备和穿孔过程中的作用 被引量:3
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作者 郑成明 袁荷平 田青超 《钢管》 CAS 2020年第2期63-66,共4页
以20Cr2Ni3成品穿孔顶头和失效穿孔顶头为研究对象,探究Ni在穿孔顶头制备和穿孔过程中的作用。对顶头氧化膜的形貌和成分进行分析。研究发现:具有疏松多孔的两层氧化膜结构的成品穿孔顶头在穿孔后发生失效,其外层氧化膜绝大部分脱落,而... 以20Cr2Ni3成品穿孔顶头和失效穿孔顶头为研究对象,探究Ni在穿孔顶头制备和穿孔过程中的作用。对顶头氧化膜的形貌和成分进行分析。研究发现:具有疏松多孔的两层氧化膜结构的成品穿孔顶头在穿孔后发生失效,其外层氧化膜绝大部分脱落,而内层氧化膜与基体紧密黏合在一起。Ni在顶头制备和穿孔过程中,始终以单质的形式存在于内层氧化膜。分析认为:在高温穿孔过程中,富Ni处的氧化膜结构致密、无裂纹,而贫Ni处出现大裂纹;Ni充当黏结剂的作用,将氧化物紧紧地黏合在一起,起到有效保护顶头的作用。 展开更多
关键词 穿孔顶头 ni 氧化膜 黏结剂 失效分析
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基体温度对反应共溅射TiN/Ni纳米复合膜结构和耐蚀性的影响 被引量:3
18
作者 贺春林 高建君 +3 位作者 王苓飞 陈宏志 付馨莹 马国峰 《中国表面工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2018年第2期85-93,共9页
为研究基体温度对纳米复合膜结构和耐蚀性的影响,以Ti和Ni为靶材,利用反应磁控共溅射技术在100~400℃温度下沉积了Ti N/Ni纳米复合膜,采用XRD、XPS、AFM、FESEM/EDS、电化学技术和划痕试验表征研究复合膜的微结构、耐蚀性和膜基结合力... 为研究基体温度对纳米复合膜结构和耐蚀性的影响,以Ti和Ni为靶材,利用反应磁控共溅射技术在100~400℃温度下沉积了Ti N/Ni纳米复合膜,采用XRD、XPS、AFM、FESEM/EDS、电化学技术和划痕试验表征研究复合膜的微结构、耐蚀性和膜基结合力。结果表明:该膜含有面心立方的Ti N和Ni相,其择优取向由低温时的Ti N(111)面转变为高温时的Ti N(200)面。随温度增加,复合膜晶粒尺寸和均方根表面粗糙度先减小后增大,并在温度200℃时达最小。复合膜的界面结合力随温度增加先增大后下降,在300℃时达最大。复合膜具有优异的耐蚀性,其中300℃沉积的膜层腐蚀电流密度最小,较304不锈钢基体约小1个数量级。增加Ni含量有利于提高复合膜的耐蚀性。Ti N/Ni纳米复合膜的腐蚀形式为薄膜的局部脱落,穿膜针孔等结构缺陷是引起Ti N/Ni纳米复合膜腐蚀失效的根本原因。 展开更多
关键词 TI N/ni 纳米复合膜 磁控反应共溅射 微结构 耐蚀性
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光电化学响应分析Ni201在中性溶液中形成表面钝化膜的半导体性质 被引量:3
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作者 檀玉 梁可心 张胜寒 《金属学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2012年第8期971-976,共6页
应用光电化学响应法和:Mott-Schottky曲线法,研究了Ni201在500℃空气中生成的氧化膜和在pH值为8.4的中性缓冲溶液中阳极氧化生成钝化膜的半导体性质,分析了Ni201表面钝化膜的结构和组成.Mott-Schottky曲线表明,Ni20l在该中性溶液中生成... 应用光电化学响应法和:Mott-Schottky曲线法,研究了Ni201在500℃空气中生成的氧化膜和在pH值为8.4的中性缓冲溶液中阳极氧化生成钝化膜的半导体性质,分析了Ni201表面钝化膜的结构和组成.Mott-Schottky曲线表明,Ni20l在该中性溶液中生成钝化膜的平带电位约为0.40 V,其在500℃空气中生成的氧化膜的平带电位约为0.15 V,前者的载流子浓度约是后者的34倍.在中性缓冲溶液中生成钝化膜的光电流谱表明,Ni201的结构由内层NiO和外层Ni(OH)_2构成,其带隙宽度分别为2.8和1.6 eV.其中,具有晶体结构的内层NiO的带隙宽度与Ni201在500℃空气中生成的氧化膜的带隙宽度2.4 eV相似.通过光电化学法和Mott-Schottky曲线建立Ni201表面钝化膜的电子能带结构模型,解释了其内层NiO和外层Ni(OH)_2同是p型半导体组成的钝化膜的半导体性质. 展开更多
关键词 ni201 钝化膜 Mott—Schottky曲线 光电化学响应 半导体性质
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Microstructure,mechanical and corrosion properties of TiN/Ni nanomultilayered films 被引量:2
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作者 Chun-Lin He Jin-Lin Zhang +4 位作者 Lei-Peng Xie Guo-Feng Ma Zhao-Fu Du Jian-Ming Wang Dong-Liang Zhao 《Rare Metals》 SCIE EI CAS CSCD 2019年第10期979-988,共10页
Nanomultilayered TiN/Ni thin films with different bilayer periods(57.8-99.7 nm) and Ni single-layer thickness(3.9-19.2 nm) were prepared by alternatively sputtering Ti and Ni targets in N2 gas atmosphere.The micros tr... Nanomultilayered TiN/Ni thin films with different bilayer periods(57.8-99.7 nm) and Ni single-layer thickness(3.9-19.2 nm) were prepared by alternatively sputtering Ti and Ni targets in N2 gas atmosphere.The micros tructure,mechanical and corrosion properties of the multilayer films were investigated by X-ray diffraction(XRD),field emission scanning electron microscopy(FESEM),X-ray photoelectron spectroscopy(XPS),nanoindenter and electrochemical technologies.The multilayer films are fine with a mean grain size of ~8-9 nm independent of the bilayer period.However,the smoothness and compactness seem to decrease with the bilayer period increasing.The hardness(H) and elastic modulus(E) of the multilayer films gradually decrease as the bilayer period increases,and the multilayer film with bilayer period of 57.8 nm exhibits higher H,ratios of(H/E^*and H^3/E^*2)(E^*is effective Young’s modulus)than the monolithic TiN film and the other multilayers.The multilayer films exhibit an obvious passivation phenomenon in 10% H2SO4 solution,and the passive current and corrosion current densities decrease,whereas the corrosion potential increases when the bilayer period or Ni single-layer thickness decreases.It is found that the passivating behavior and corrosion potential of the multilayers are more sensitive to Ni single-layer thickness than the bilayer period.More corrosion pits and lamellar flaking could be found on the films with larger bilayer period or Ni single-layer thickness. 展开更多
关键词 TiN/ni Multilayer film Reactive SPUTTERING MICROSTRUCTURE MECHAniCAL property CORROSION resistance
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