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3333l/mmX射线全镂空自支撑透射光栅的制备与测试
被引量：
3
1
作者
李海亮
马杰
+4 位作者
朱效立
吴坚
谢常青
陈宝钦
刘明
《微纳电子技术》
CAS
北大核心
2010年第3期174-178,共5页
针对我国对高线密度X射线镂空透射光栅在空间环境探测和激光等离子体诊断方面的需求,将电子束光刻和X射线光刻技术相结合,制备出3333l/mmX射线全镂空透射光栅,栅线宽度接近150nm,周期300nm,栅线厚度为500nm,有效光栅面积达到60%。首先...
针对我国对高线密度X射线镂空透射光栅在空间环境探测和激光等离子体诊断方面的需求,将电子束光刻和X射线光刻技术相结合,制备出3333l/mmX射线全镂空透射光栅,栅线宽度接近150nm,周期300nm,栅线厚度为500nm,有效光栅面积达到60%。首先利用电子束光刻和微电镀技术在镂空聚酰亚胺薄膜底衬上制备X射线母光栅掩模,然后利用X射线光刻和微电镀技术实现了光栅图形的复制品,之后采用紫外光刻和微电镀技术制作加强筋结构,最后通过腐蚀体硅和等离子体刻蚀聚酰亚胺完成镂空透射光栅的制作。在国家同步辐射实验室光谱辐射和计量实验站上对此光栅在5～23nm波段进行了衍射效率标定。标定结果表明所制备的光栅栅线平滑,占空比合理,侧壁陡直,不同光栅之间一致性好,完全可以满足应用需求。
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关键词
镂空透射光栅
电子束光刻
X射线光刻
微电镀
衍射效率
下载PDF
职称材料
软X射线透射光栅支撑结构的制作工艺研究
被引量：
2
2
作者
徐向东
洪义麟
+4 位作者
田扬超
霍同林
周洪军
陶晓明
傅绍军
《微细加工技术》
2001年第3期22-25,共4页
在简述软X射线自支撑透射光栅制作工艺的基础上 ,重点研究支撑结构制作中的紫外光刻和电镀两步工艺。紫外光刻中的菲涅耳衍射会造成光刻胶不能显影到底或起保护作用的光刻胶面积减小、厚度减薄 ;比较了两个不同电镀条件下的电镀实验结...
在简述软X射线自支撑透射光栅制作工艺的基础上 ,重点研究支撑结构制作中的紫外光刻和电镀两步工艺。紫外光刻中的菲涅耳衍射会造成光刻胶不能显影到底或起保护作用的光刻胶面积减小、厚度减薄 ;比较了两个不同电镀条件下的电镀实验结果 ,结果表明低的温度和电流密度 ( 40℃、1 .5mA/cm2 )下的镀膜致密、光滑 ,应力小 ,对光栅结构无任何影响 ;高的温度和电流密度 ( 47℃、5.6mA/cm2 )下的镀膜相对粗糙、应力大 ,造成光栅线条的扭曲、并拢 ,甚至拉断光栅线条。
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关键词
全息光刻
透射光栅
软X射线
微电镀
制作工艺
下载PDF
职称材料
用AZ4620制作微电镀模的工艺研究(英文)
被引量：
2
3
作者
王明亮
郑剑铭
孙道恒
《微纳电子技术》
CAS
2004年第4期27-31,共5页
介绍了利用AZ4620光刻胶制作截面为5μm×5μm微电镀模的工艺流程,详细说明了工艺流程中影响实验结果的实验参数以及实验参数的优化方法,并用实验结果说明了应该避免的实验误区。最后根据优化后的参数制作出满足课题需要的实验结果。
关键词
AZ4620
微电镀模
制作工艺
光刻
悬臂梁
下载PDF
职称材料
题名
3333l/mmX射线全镂空自支撑透射光栅的制备与测试
被引量：
3
1
作者
李海亮
马杰
朱效立
吴坚
谢常青
陈宝钦
刘明
机构
北京工业大学激光工程研究院
中国科学院微电子研究所纳米加工与新器件集成技术实验室
出处
《微纳电子技术》
CAS
北大核心
2010年第3期174-178,共5页
基金
国家重点基础研究发展计划项目(2007CB935302)
国家高技术研究发展计划(2008AA8040208)
国家自然科学基金(60825403)
文摘
针对我国对高线密度X射线镂空透射光栅在空间环境探测和激光等离子体诊断方面的需求,将电子束光刻和X射线光刻技术相结合,制备出3333l/mmX射线全镂空透射光栅,栅线宽度接近150nm,周期300nm,栅线厚度为500nm,有效光栅面积达到60%。首先利用电子束光刻和微电镀技术在镂空聚酰亚胺薄膜底衬上制备X射线母光栅掩模,然后利用X射线光刻和微电镀技术实现了光栅图形的复制品,之后采用紫外光刻和微电镀技术制作加强筋结构,最后通过腐蚀体硅和等离子体刻蚀聚酰亚胺完成镂空透射光栅的制作。在国家同步辐射实验室光谱辐射和计量实验站上对此光栅在5～23nm波段进行了衍射效率标定。标定结果表明所制备的光栅栅线平滑,占空比合理,侧壁陡直,不同光栅之间一致性好,完全可以满足应用需求。
关键词
镂空透射光栅
电子束光刻
X射线光刻
微电镀
衍射效率
Keywords
hollow-out transmission gratings
e-beam lithography
X-rays lithography
microelectroplating
diffraction efficiency
分类号
TN305 [电子电信—物理电子学]
下载PDF
职称材料
题名
软X射线透射光栅支撑结构的制作工艺研究
被引量：
2
2
作者
徐向东
洪义麟
田扬超
霍同林
周洪军
陶晓明
傅绍军
机构
中国科学技术大学国家同步辐射实验室
出处
《微细加工技术》
2001年第3期22-25,共4页
文摘
在简述软X射线自支撑透射光栅制作工艺的基础上 ,重点研究支撑结构制作中的紫外光刻和电镀两步工艺。紫外光刻中的菲涅耳衍射会造成光刻胶不能显影到底或起保护作用的光刻胶面积减小、厚度减薄 ;比较了两个不同电镀条件下的电镀实验结果 ,结果表明低的温度和电流密度 ( 40℃、1 .5mA/cm2 )下的镀膜致密、光滑 ,应力小 ,对光栅结构无任何影响 ;高的温度和电流密度 ( 47℃、5.6mA/cm2 )下的镀膜相对粗糙、应力大 ,造成光栅线条的扭曲、并拢 ,甚至拉断光栅线条。
关键词
全息光刻
透射光栅
软X射线
微电镀
制作工艺
Keywords
Holographic lithography
Transmission grating
microelectroplating
分类号
TN253 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
用AZ4620制作微电镀模的工艺研究(英文)
被引量：
2
3
作者
王明亮
郑剑铭
孙道恒
机构
厦门大学机电工程系
出处
《微纳电子技术》
CAS
2004年第4期27-31,共5页
基金
SupportedbyFujianNaturalScienceFund(A0110003)
KeyProjectofSciencePlanofFujian(2002H022)
文摘
介绍了利用AZ4620光刻胶制作截面为5μm×5μm微电镀模的工艺流程,详细说明了工艺流程中影响实验结果的实验参数以及实验参数的优化方法,并用实验结果说明了应该避免的实验误区。最后根据优化后的参数制作出满足课题需要的实验结果。
关键词
AZ4620
微电镀模
制作工艺
光刻
悬臂梁
Keywords
photolithography
cantilever
microelectroplating
AZ4620
分类号
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
3333l/mmX射线全镂空自支撑透射光栅的制备与测试
李海亮
马杰
朱效立
吴坚
谢常青
陈宝钦
刘明
《微纳电子技术》
CAS
北大核心
2010
3
下载PDF
职称材料
2
软X射线透射光栅支撑结构的制作工艺研究
徐向东
洪义麟
田扬超
霍同林
周洪军
陶晓明
傅绍军
《微细加工技术》
2001
2
下载PDF
职称材料
3
用AZ4620制作微电镀模的工艺研究(英文)
王明亮
郑剑铭
孙道恒
《微纳电子技术》
CAS
2004
2
下载PDF
职称材料
已选择
0
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