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Mg_xZn_(1-x)O薄膜的生长及其光学性能 被引量:7
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作者 宁丹 刘成有 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第4期559-561,共3页
利用金属有机化学气相沉积(MOCVD)法在蓝宝石(1120)衬底上生长高质量的MgxZn1-xO合金薄膜,实验研究了各种不同Mg组分对样品光学性能的影响。通过光致发光荧光衰减特性对激子发光寿命的研究表明,激子的寿命随Mg组分的增加而增加,当Mg组... 利用金属有机化学气相沉积(MOCVD)法在蓝宝石(1120)衬底上生长高质量的MgxZn1-xO合金薄膜,实验研究了各种不同Mg组分对样品光学性能的影响。通过光致发光荧光衰减特性对激子发光寿命的研究表明,激子的寿命随Mg组分的增加而增加,当Mg组分达到50%时,激子的寿命为872ps。 展开更多
关键词 金属有机化学气相沉积(mocvd) MgxZn1-xO合金 寿命
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MOCVD生长高反射率AlN/GaN分布布拉格反射镜 被引量:5
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作者 尚景智 张保平 +4 位作者 吴超敏 蔡丽娥 张江勇 余金中 王启明 《光电子.激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第12期1592-1594,共3页
利用金属有机物化学气相沉积(MOCVD)方法在蓝宝石c面衬底上制备出高反射率AlN/GaN分布布拉格反射镜(DBR)。利用分光光度计测量,在418 nm附近最大反射率达到99%。样品表面显微照片显示,有圆弧形缺陷和少量裂纹出现;在缺陷和裂纹以外的区... 利用金属有机物化学气相沉积(MOCVD)方法在蓝宝石c面衬底上制备出高反射率AlN/GaN分布布拉格反射镜(DBR)。利用分光光度计测量,在418 nm附近最大反射率达到99%。样品表面显微照片显示,有圆弧形缺陷和少量裂纹出现;在缺陷和裂纹以外的区域,DBR具有较为平坦的表面,其粗糙度在10μm×10μm面积上为3.3 nm左右。样品的截面扫描电镜(SEM)照片显示,DBR具有良好的周期性。对反射率和表面分析的结果表明,该样品达到了制备GaN基垂直腔面发射激光器(VCSEL)的要求。 展开更多
关键词 金属有机物化学气相沉积(mocvd) 分布布拉格反射镜(DBR) 高反射率 氮化物
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MOCVD生长1.06μm InGaAs/GaAs量子阱LDs 被引量:4
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作者 潘教青 黄柏标 +4 位作者 张晓阳 岳金顺 秦晓燕 于永芹 尉吉勇 《光电子.激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第6期590-593,共4页
用低压MOCVD生长应变InGaAs/GaAs量子阱,采用中断生长、应变缓冲层(SBL)、改变生长速度和调节Ⅴ/Ⅲ等方法改善InGaAs/GaAs量子阱的光致发光(PL)质量。PL结果表明,10s生长中断结合适当的SBL生长的量子阱PL谱较好。该量子阱应用于1.06μm... 用低压MOCVD生长应变InGaAs/GaAs量子阱,采用中断生长、应变缓冲层(SBL)、改变生长速度和调节Ⅴ/Ⅲ等方法改善InGaAs/GaAs量子阱的光致发光(PL)质量。PL结果表明,10s生长中断结合适当的SBL生长的量子阱PL谱较好。该量子阱应用于1.06μm激光器的制备,未镀膜的宽条激光器(100μm×1000μm)有低阈值电流密度(110A/cm2)和高的斜率效率(0.256W/A,per.facet)。 展开更多
关键词 mocvd INGAAS/GAAS量子阱 LDs 半导体激光器 应变量子阱 中断生长 应变缓冲层
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MOCVD生长Al_(0.48)Ga_(0.52)N/Al_(0.54)Ga_(0.36)N多量子阱的结构和光学特性 被引量:4
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作者 王保柱 安胜彪 +3 位作者 文环明 武瑞红 王晓君 王晓亮 《光电子.激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第11期1454-1457,共4页
采用金属有机物化学气相淀积(MOCVD)技术,在蓝宝石衬底上生长了Al0.48Ga0.52N/Al0.54Ga0.36N多量子阱(MQWs)结构。通过双晶X射线衍射(DCXRD)、原子力显微镜(AFM)和阴极荧光(CL)等测试技术,分别对样品的结构和光学特性进行了表征。在DCXR... 采用金属有机物化学气相淀积(MOCVD)技术,在蓝宝石衬底上生长了Al0.48Ga0.52N/Al0.54Ga0.36N多量子阱(MQWs)结构。通过双晶X射线衍射(DCXRD)、原子力显微镜(AFM)和阴极荧光(CL)等测试技术,分别对样品的结构和光学特性进行了表征。在DCXRD图谱中,可以观察到明显的MQWs衍射卫星峰,通过拟和,MQWs结构中阱和垒的厚度分别为2.1和9.4nm,Al组分分别为0.48和0.54。在AFM表面形貌图上,可以观察到清晰的台阶流,表明MQWs获得了二维生长;与此同时,MQWs结构存在一些裂缝,主要原因为AlGaNMQWs结构和下层GaN层间存在很大的应力。CL测试表明,AlGaNMQWs结构的发光波长为295nm,处于深紫外波段,同时观察到处于蓝光、绿光波段的缺陷发光。 展开更多
关键词 AlGaN 多量子阱(MQWs) 金属有机物化学气相淀积(mocvd)
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Characteristics of InGaN multiple quantum well blue-violet laser diodes 被引量:1
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作者 LI Deyao1, ZHANG Shuming1, WANG Jianfeng1, CHEN Jun1, CHEN Lianghui2, CHONG Ming2, ZHU Jianjun1, ZHAO Degang1, LIU Zongshun1, YANG Hui1 & LIANG Junwu1 1. State Key Laboratory of Integrated Optoelectronics, Institute of Semiconductors, Chinese Academy of Sciences, Beijing 100083, China 2. Nano-Optoelectronics Laboratory, Institute of Semiconductors, Chinese Academy of Sciences, Beijing 100083, China 《Science China(Technological Sciences)》 SCIE EI CAS 2006年第6期727-732,共6页
Studies on InGaN multiple quantum well blue-violet laser diodes have been reported. Laser structures with long-period multiple quantum wells were grown by metal-organic chemical vapor deposition. Triple-axis X-ray dif... Studies on InGaN multiple quantum well blue-violet laser diodes have been reported. Laser structures with long-period multiple quantum wells were grown by metal-organic chemical vapor deposition. Triple-axis X-ray diffraction (TAXRD) measurements show that the multiple quantum wells were high quality. Ridge waveguide laser diodes were fabricated with cleaved facet mirrors. The laser diodes lase at room temperature under a pulsed current. A threshold current density of 3.3 kA/cm[2]; a characteristic temperature T 0 of 145 K were observed for the laser diode. 展开更多
关键词 metalorganic chemical vapor deposition (mocvd) GAN-BASED laser diodes multiple quantum well RIDGE waveguide threshold current.
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ZnO薄膜的结构特征及光学性能评价 被引量:2
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作者 宁丹 张保平 刘成有 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2008年第3期513-515,共3页
利用金属有机物化学气相沉积(MOCVD)方法在Al2O3(0001)衬底上生长ZnO薄膜,通过改变衬底温度及生长舱压力,得到了各种不同表面形貌的ZnO薄膜。扫描电镜(SEM)用来对样品的形貌进行观察,当衬底温度及生长舱压力分别为400℃,40Pa和450℃,8Pa... 利用金属有机物化学气相沉积(MOCVD)方法在Al2O3(0001)衬底上生长ZnO薄膜,通过改变衬底温度及生长舱压力,得到了各种不同表面形貌的ZnO薄膜。扫描电镜(SEM)用来对样品的形貌进行观察,当衬底温度及生长舱压力分别为400℃,40Pa和450℃,8Pa时,得到了纳米管及纳米墙结构。利用X射线衍射谱(XRD)、透射光谱及光致发光谱对样品的结构及光学性能进行评价。实验结果证明对于较高的生长温度和较低的生长舱压力所生长的样品具有较好的结晶质量。 展开更多
关键词 金属有机物化学气相沉积 ZNO薄膜 生长温度 压力
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808nm高效率激光二极管 被引量:1
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作者 陈宏泰 车相辉 +9 位作者 林琳 位永平 王晶 黄科 张世祖 徐会武 王晓燕 杨红伟 安振峰 花吉珍 《微纳电子技术》 CAS 北大核心 2011年第7期418-421,共4页
目前808nm高效率激光二极管产品的转换效率只有50%左右,还有很大的提升空间。通过提高欧姆接触层浓度、界面渐变和波导层掺杂等方面的外延材料结构优化,减小附加电压和电阻值,设计制作了808nm大光腔应变量子阱外延材料;并制作了200μm... 目前808nm高效率激光二极管产品的转换效率只有50%左右,还有很大的提升空间。通过提高欧姆接触层浓度、界面渐变和波导层掺杂等方面的外延材料结构优化,减小附加电压和电阻值,设计制作了808nm大光腔应变量子阱外延材料;并制作了200μm发光区标准单管,提取了材料内部参数,材料内损耗iα为0.67cm-1,内量子效率iη为0.88;将圆片解理成2mm腔长的巴条进行腔面镀膜,并烧结成标准单管,25℃下单管电光效率达到61.1%;将巴条烧结到微通道载体上,制作成标准微通道水冷单条阵列,水温15℃110A下输出光功率126.6W,电光转换效率62.77%。 展开更多
关键词 高效率 激光二极管 808nm 金属有机化学气相沉积(mocvd) 大光腔
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MOCVD生长GaN膜的光调制反射谱研究
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作者 杨凯 张荣 +6 位作者 臧岚 秦林洪 沈波 施洪涛 郑有炓 Z.C.Huang J.C.Chen 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 1997年第2期188-192,共5页
采用光调制反射光谱(PR)研究了(0001)晶向蓝宝石村底上MOCVD方法生长的单晶六角GaN薄膜的室温光学性质。测得六角GaN薄膜的禁带宽度为3.400eV,对PR谱的调制机理进行了分析,发现信号来自缺陷作用下的表面电场调制。光吸收增和光... 采用光调制反射光谱(PR)研究了(0001)晶向蓝宝石村底上MOCVD方法生长的单晶六角GaN薄膜的室温光学性质。测得六角GaN薄膜的禁带宽度为3.400eV,对PR谱的调制机理进行了分析,发现信号来自缺陷作用下的表面电场调制。光吸收增和光反射谱的测量,得到3.39eV的光学吸收边和3.3eV的反射峰,证实了光调制反射光谱的结果。 展开更多
关键词 氮化镓 光调制反射光谱 mocvd生长
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AlGaN缓冲层结构对Si基GaN材料性能的影响
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作者 邹学锋 王波 +4 位作者 房玉龙 尹甲运 郭艳敏 张志荣 冯志红 《半导体技术》 CSCD 北大核心 2017年第8期631-635,共5页
Si衬底与GaN之间较大的晶格失配和热失配引起的张应力使GaN外延层极易产生裂纹,如何补偿GaN所受到的张应力是进行Si基GaN外延生长面临的首要问题。采用金属有机化合物化学气相沉积(MOCVD)技术在4英寸(1英寸=2.54 cm)Si(111)衬底上制备了... Si衬底与GaN之间较大的晶格失配和热失配引起的张应力使GaN外延层极易产生裂纹,如何补偿GaN所受到的张应力是进行Si基GaN外延生长面临的首要问题。采用金属有机化合物化学气相沉积(MOCVD)技术在4英寸(1英寸=2.54 cm)Si(111)衬底上制备了GaN外延材料并研究了不同AlGaN缓冲层结构对Si基GaN外延材料性能的影响,并采用高分辨X射线衍射仪(HRXRD)、原子力显微镜(AFM)、喇曼光谱以及光学显微镜对制备的GaN材料的性能进行了表征。采用3层AlGaN缓冲层结构制备了表面光亮、无裂纹的GaN外延材料,其(002)晶面半高宽为428 arcsec,表面粗糙度为0.194 nm。结果表明,采用3层AlGaN缓冲层结构可以有效地降低GaN材料的张应力和位错密度,进而遏制表面裂纹的出现,提高晶体质量。 展开更多
关键词 氮化镓 外延 铝镓氮 金属有机化合物化学气相沉积技术(mocvd) SI衬底
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808nm无Al量子阱激光器mini阵列的研制
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作者 王翎 李沛旭 +5 位作者 房玉锁 汤庆敏 张新 夏伟 任忠祥 徐现刚 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2011年第12期920-922,共3页
通过分析激光器的结构,优化设计了非对称宽波导激光器结构及外延生长条件。利用低压金属有机化合物气相淀积技术(LP-MOCVD)生长了高质量的InGaAsP/GaInP无铝应变量子阱外延材料,制作成808 nm高功率半导体激光器mini阵列,将其应用到1 064... 通过分析激光器的结构,优化设计了非对称宽波导激光器结构及外延生长条件。利用低压金属有机化合物气相淀积技术(LP-MOCVD)生长了高质量的InGaAsP/GaInP无铝应变量子阱外延材料,制作成808 nm高功率半导体激光器mini阵列,将其应用到1 064 nm全固态激光器中。20℃下,制作的808 nm,0.5 cm半导体激光器mini阵列,连续驱动电流50 A时输出功率达到50 W,最高光电转换效率达到53%。将该808 nm激光器mini阵列应用到全固态1 064 nm激光模组中,50 W,1 064 nm激光输出时,工作电流只有15 A。经过多于500 h老化以后,1 064 nm全固态激光器的功率衰减小于2%。 展开更多
关键词 半导体激光器mini阵列 InGaAsP/GaInP 应变量子阱 金属有机化合物化学气相淀积
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金属有机物化学气相沉积法生长Ga_(2(1-x))In_(2x)O_3薄膜的结构及光电性能研究
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作者 杨帆 马瑾 +2 位作者 孔令沂 栾彩娜 朱振 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2009年第10期7079-7082,共4页
采用金属有机物化学气相沉积(MOCVD)法在蓝宝石(0001)衬底上制备出了Ga2(1-x)In2xO3(x=0.1—0.9)薄膜,研究了薄膜的结构、电学和光学特性以及退火处理对薄膜性质的影响.测量结果表明:当In组分x=0.2时,样品为单斜β-Ga2O3结构;x=0.5的样... 采用金属有机物化学气相沉积(MOCVD)法在蓝宝石(0001)衬底上制备出了Ga2(1-x)In2xO3(x=0.1—0.9)薄膜,研究了薄膜的结构、电学和光学特性以及退火处理对薄膜性质的影响.测量结果表明:当In组分x=0.2时,样品为单斜β-Ga2O3结构;x=0.5的样品,薄膜呈现非晶结构,退火处理后薄膜结构得到明显的改善,由非晶结构转变为具有(222)单一取向的立方In2O3结构;对于x=0.8,薄膜为立方In2O3结构,退火后薄膜的晶体质量得到提高.在可见光区薄膜本身的透过率均达到了85%以上,带隙宽度随样品中Ga含量的改变在3.76—4.43eV之间变化,且经退火处理后带隙宽度明显增大. 展开更多
关键词 金属有机物化学气相沉积 Ga2(1-x)In2xO3薄膜 蓝宝石衬底 退火
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红橙光InGaN/GaN量子阱的结构与光学性质研究
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作者 苏辉 张荣 +8 位作者 谢自力 刘斌 李毅 傅德颐 赵红 华雪梅 韩平 施毅 郑有炓 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2011年第10期747-750,共4页
采用金属有机物化学气相沉积(MOCVD)技术生长了具有高In组分InGaN阱层的InGaN/GaN多量子阱(MQW)结构,高分辨X射线衍射(HRXRD)ω-2θ扫描拟合得到阱层In含量28%。比较大的表面粗糙度表明有很大的位错密度。室温下光致荧光(PL)研究发现该... 采用金属有机物化学气相沉积(MOCVD)技术生长了具有高In组分InGaN阱层的InGaN/GaN多量子阱(MQW)结构,高分辨X射线衍射(HRXRD)ω-2θ扫描拟合得到阱层In含量28%。比较大的表面粗糙度表明有很大的位错密度。室温下光致荧光(PL)研究发现该量子阱发射可见的红橙光,峰位波长在610 nm附近。变温PL(15~300 K)进一步揭示量子阱在低温下有两个发光机制,对应的发射峰波长分别为538 nm和610 nm。由于In分凝和载流子的局域化导致的载流子动力改变,使得量子阱PL发光峰值随温度增加呈明显的"S"变化趋势。 展开更多
关键词 INGAN/GAN多量子阱 金属有机化学气相沉积 光致荧光谱 原子力显微镜 红橙光
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MOCVD化合物半导体材料及其应用
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作者 彭瑞伍 胡金波 《稀有金属》 EI CAS CSCD 北大核心 1998年第3期164-168,共5页
总结了我国在MOCVD化合物半导体材料方面的最新进展,重点为MOCVD化学、ⅢⅤ族和ⅡⅥ族半导体材料及其在光电和微波器件中的应用。为进一步发展我国的MOCVD材料提出了若干建议。
关键词 mocvd 半导体材料 半导体器件 化合物半导体
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