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MRR:基于MBR的空间关系模型 被引量:6
1
作者 陈琳 杜友福 王元珍 《计算机工程与应用》 CSCD 北大核心 2002年第5期76-78,共3页
一些空间数据模型依赖于空间对象的近似表示,如广泛运用的最小边界矩形MBR,MBR的优点是关系存储和计算的有效性,但是MBR表示与它对应对象间的拓扑关系存在不一致性的矛盾。该文的MRR模型基于MBR,减少了MBR中不一致性。
关键词 地理信息系统 模糊空间系统 多矩形表示 mrr MBR 空间关系模型
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Anterograde and Retrograde Regulation of Nuclear Genes Encoding Mitochondrial Proteins during Growth, Development, and Stress 被引量:8
2
作者 Sophia Ng Inge De Clercqc +6 位作者 Olivier Van Akena Simon R. Lawd Aneta Ivanovad Patrick Willems Estelle Giraud Frank Van Breusegem James Wheland 《Molecular Plant》 SCIE CAS CSCD 2014年第7期1075-1093,共19页
Mitochondrial biogenesis and function in plants require the expression of over 1000 nuclear genes encoding mitochondrial proteins (NGEMPs). The expression of these genes is regulated by tissue-specific, developmenta... Mitochondrial biogenesis and function in plants require the expression of over 1000 nuclear genes encoding mitochondrial proteins (NGEMPs). The expression of these genes is regulated by tissue-specific, developmental, internal, and external stimuli that result in a dynamic organelle involved in both metabolic and a variety of signaling processes. Although the metabolic and biosynthetic machinery of mitochondria is relatively well understood, the factors that regu- late these processes and the various signaling pathways involved are only beginning to be identified at a molecular level. The molecular components of anterograde (nuclear to mitochondrial) and retrograde (mitochondrial to nuclear) signaling pathways that regulate the expression of NGEMPs interact with chloroplast-, growth-, and stress-signaling pathways in the cell at a variety of levels, with common components involved in transmission and execution of these signals. This positions mitochondria as important hubs for signaling in the cell, not only in direct signaling of mitochondrial function per se, but also in sensing and/or integrating a variety of other internal and external signals. This integrates and optimizes growth with energy metabolism and stress responses, which is required in both photosynthetic and non-photosynthetic cells. 展开更多
关键词 MITOCHONDRIA mitochondrial retrograde regulation mrr organellar crosstalk signaling.
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超声振动辅助气体介质电火花加工研究 被引量:5
3
作者 徐明刚 张建华 +1 位作者 张勤河 任升峰 《中国机械工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第14期1447-1450,共4页
简述了超声振动辅助气体介质电火花加工原理,并设计开发了相应的实验机床。实验结果表明:工具电极做超声振动时的材料去除率比工件做超声振动时的材料去除率要小;材料去除率随峰值电压、峰值电流、脉冲宽度、气体介质压力的增大而增大,... 简述了超声振动辅助气体介质电火花加工原理,并设计开发了相应的实验机床。实验结果表明:工具电极做超声振动时的材料去除率比工件做超声振动时的材料去除率要小;材料去除率随峰值电压、峰值电流、脉冲宽度、气体介质压力的增大而增大,随脉间宽度、工具电极壁厚的增大而减小。简述了超声振动辅助气体介质电火花加工材料蚀除机理。 展开更多
关键词 超声振动 气体介质 电火花 去除率
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局部放电试验发现大型变压器制造缺陷的实例 被引量:9
4
作者 罗祝平 《变压器》 北大核心 2009年第9期69-70,共2页
1 前言 东莞500kV莞城变电站本期扩建的两台1000MVA变压器型号为SUB—MRR,额定电压525/√3/242/√3/34.5kV,日本某公司制造。
关键词 大型变压器 制造缺陷 局部放电试验 实例 额定电压 mrr SUB 变电站
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紫外光催化辅助Ga面GaN化学机械抛光试验研究
5
作者 杨友明 周海 +2 位作者 胡士响 夏丽琴 任相璞 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2024年第6期157-167,共11页
目的探究在紫外光催化辅助抛光过程中,相关因素对氮化镓晶片Ga面去除率(MRR)及表面粗糙度(Ra)的影响规律,提高单晶氮化镓高效率低损伤的超光滑表面质量。方法通过结合紫外光与化学机械进行抛光,采用单因素试验方案,对GaN晶片的Ga面进行... 目的探究在紫外光催化辅助抛光过程中,相关因素对氮化镓晶片Ga面去除率(MRR)及表面粗糙度(Ra)的影响规律,提高单晶氮化镓高效率低损伤的超光滑表面质量。方法通过结合紫外光与化学机械进行抛光,采用单因素试验方案,对GaN晶片的Ga面进行紫外光催化辅助化学机械抛光试验,比较在无光照、光照抛光盘、光照抛光液3种抛光方式和不同TiO_(2)浓度、pH值、H_(2)O_(2)含量、抛光压力、抛光盘转速和抛光液流条件下的抛光效果。最后通过正交试验进行抛光工艺参数优化,通过测量不同条件下紫外光催化辅助化学机械抛光过程中的MRR值和Ra值,探究GaN晶片Ga面抛光效果。结果在紫外光催化辅助抛光条件下,通过对单因素试验和正交试验的抛光参数进行分析和优化,GaN晶片材料去除率可以达到698.864nm/h,通过白光干涉仪观测可以获得表面粗糙度Ra值为0.430nm的亚纳米级超光滑GaN晶体表面。结论基于紫外光催化辅助GaN晶片Ga面化学机械抛光试验,紫外光辅助化学机械的复合抛光方式能够促进GaN表面生成物Ga_(2)O_(3)快速去除,其中光照抛光液方式能够极大地提高抛光效率。紫外光催化辅助Ga面GaN化学机械抛光可以获得高效低损伤的单晶氮化镓抛光加工表面质量。 展开更多
关键词 氮化镓 紫外光催化 抛光 mrr 表面粗糙度 单因素试验 正交试验
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螺旋锥齿轮超声研磨的试验研究 被引量:7
6
作者 杨建军 邓效忠 魏冰阳 《应用声学》 CSCD 北大核心 2008年第1期64-68,共5页
介绍了螺旋锥齿轮超声研磨加工的方法,利用声学和超声空化的相关理论分析了超声研齿的材料去除方式,在齿面接触区具有旋转超声加工的特点,在非接触区,超声空化对齿面产生空蚀或者直接激励磨粒撞击和滑擦齿面,引起材料的去除。进行了超... 介绍了螺旋锥齿轮超声研磨加工的方法,利用声学和超声空化的相关理论分析了超声研齿的材料去除方式,在齿面接触区具有旋转超声加工的特点,在非接触区,超声空化对齿面产生空蚀或者直接激励磨粒撞击和滑擦齿面,引起材料的去除。进行了超声研齿和普通研齿的对比试验,结果表明超声研齿的材料去除率可达到普通研磨的3倍,齿面粗糙度低至Ra0.2μm,水平截距c1.2μm。齿面研磨后的SEM照片证实,齿面质量明显提高。 展开更多
关键词 螺旋锥齿轮 空化 材料去除率 超声研磨加工
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基于多源数据融合的半导体晶片CMP抛光材料去除率预测 被引量:2
7
作者 方维 王宇宇 +2 位作者 宋志龙 吕冰海 赵文宏 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2024年第2期150-157,167,共9页
目的 对半导体晶片抛光过程中的工艺参数、耗材使用量、抛光垫状态参数等多源数据预处理后进行数据融合,建立材料去除率(MRR)预测模型,为实现半导体晶片抛光加工工艺的决策和处理奠定基础。方法 研究晶片抛光加工中的数据特点及数据融... 目的 对半导体晶片抛光过程中的工艺参数、耗材使用量、抛光垫状态参数等多源数据预处理后进行数据融合,建立材料去除率(MRR)预测模型,为实现半导体晶片抛光加工工艺的决策和处理奠定基础。方法 研究晶片抛光加工中的数据特点及数据融合需求,提取数据集中每个晶片加工过程中的统计特征并生成新数据集,同时引入邻域特征以应对晶片加工过程中动态因素对材料去除率的影响。提出基于深度自动编码器的多源数据融合及材料去除率预测方法。设计深度自动编码器参数,优化深度自动编码器的损失函数从而增强深度自动编码器对强相关性特征变量的重建。基于深度自动编码器进行多源传感器信号融合,降低数据维度。使用超参数搜索算法优化BP神经网络超参数,利用BP神经网络方法将融合后的数据进行半导体晶片抛光过程中的材料去除率预测。结果 采用PHM2016数据集对模型进行验证,均方误差MSE达到7.862,相关性R^(2)达到91.2%。结论 基于多源数据的融合模型能有效预测MRR,可以对半导体晶片CMP工艺过程的智能决策与控制起到良好的辅助作用。 展开更多
关键词 化学机械抛光 材料去除率 数据融合 深度自动编码器 BP神经网络预测
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大量重复性朗读对提高成人学生英语口语水平的作用 被引量:6
8
作者 尹捷 《北京教育学院学报》 2005年第3期70-74,共5页
本文根据第二语言学习的本质,参照现行成人学生的英语口语学习方法和具体水平状况,提出“大量重复性朗读”这一方案;并通过一系列科学手段,讨论、研究和分析了此方案对提高成人学生英语口语水平的作用。
关键词 方法 口语能力 大量重复性朗读
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电极材料对直流短电弧铣削Ti2AlNb加工性能影响的实验研究
9
作者 尹先和 周建平 许燕 《制造技术与机床》 北大核心 2023年第9期39-43,共5页
Ti2AlNb作为一种新型航空发动机关键材料,由于其高强度、刚度和蠕变抗力,使得它成为一种难加工材料。短电弧铣削(SEAM)是一种新型高效的放电加工方法,具有不受材料的硬度、强度和韧性制约等优点,已经成为难加工材料一种重要加工方法。... Ti2AlNb作为一种新型航空发动机关键材料,由于其高强度、刚度和蠕变抗力,使得它成为一种难加工材料。短电弧铣削(SEAM)是一种新型高效的放电加工方法,具有不受材料的硬度、强度和韧性制约等优点,已经成为难加工材料一种重要加工方法。文章以Ti2AlNb实验对象,采用钨铜和304不锈钢作为电极材料,使用直流电源研究了不同电压下SEAM的加工机理,分析了工件材料去除率(MRR)、表面粗糙度(Sa)、相对工具电极磨损率(RTWR)。此外,还对加工后Ti2AlNb的表面形态、元素分布和显微硬度进行了研究。实验结果表明,24V电压下,钨铜电极与304不锈钢电极相比,MRR最高,为1981mm^(3)/min;RTWR最低,相对电极损耗仅为0.82%。工件截面轮廓宽度尺寸绝对差异最小以及工件再铸层硬度接近母材硬度,有利于进一步加工。 展开更多
关键词 直流短电弧铣削 TI2ALNB mrr RTWR 电极材料
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Optimization of Polishing Parameters with Taguchi Method for LBO Crystal in CMP 被引量:4
10
作者 Jun Li Yongwei Zhu +2 位作者 Dunwen Zuo Yong Zhu Chuangtian Chen 《Journal of Materials Science & Technology》 SCIE EI CAS CSCD 2009年第5期703-707,共5页
Chemical mechanical polishing (CMP) was used to polish Lithium triborate (LiB3O5 or LBO) crystal. Taguchi method was applied for optimization of the polishing parameters. Material removal rate (MRR) and surface ... Chemical mechanical polishing (CMP) was used to polish Lithium triborate (LiB3O5 or LBO) crystal. Taguchi method was applied for optimization of the polishing parameters. Material removal rate (MRR) and surface roughness are considered as criteria for the optimization. The polishing pressure, the abrasive concentration and the table velocity are important parameters which influence MRR and surface roughness in CMP of LBO crystal. Experiment results indicate that for MRR the polishing pressure is the most significant polishing parameter followed by table velocity; while for the surface roughness, the abrasive concentration is the most important one. For high MRR in CMP of LBO ctystal the optimal conditions are: pressure 620 g/cm^2, concentration 5.0 wt pct, and velocity 60 r/min, respectively. For the best surface roughness the optimal conditions are: pressure 416 g/cm^2, concentration 5.0 wt pct, and velocity 40 r/min, respectively. The contributions of individual parameters for MRR and surface roughness were obtained. 展开更多
关键词 Chemical mechanical polishing (CMP) Lithium triborate (LBO) crystal Material removal rate mrr Surface roughness Taguchi method
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Magnetically rotational reactor for absorbing benzene emissions by ionic liquids 被引量:4
11
作者 Yangyang Jiang Chen Guo Huizhou Liu 《China Particuology》 SCIE EI CAS CSCD 2007年第1期130-133,共4页
A magnetically rotational reactor (MRR) has been developed and used in absorbing benzene emissions. The MRR has a permanent magnet core and uses magnetic ionic liquid [bmim]FeCl4 as absorbent. Benzene emissions were... A magnetically rotational reactor (MRR) has been developed and used in absorbing benzene emissions. The MRR has a permanent magnet core and uses magnetic ionic liquid [bmim]FeCl4 as absorbent. Benzene emissions were carried by N2 into the MRR and were absorbed by the magnetic ionic liquid. The rotation of the permanent magnet core provided impetus for the agitation of the magnetic ionic liquid, enhancing mass transfer and making benzene better dispersed in the absorbent. 0.68 g benzene emissions could be absorbed by a gram of [bmim]FeCl4, 0.27 and 0.40 g/g higher than that by [bmim]PF6 and [bmim]BF4, respectively. The absorption rate increased with increasing rotation rate of the permanent magnet. 展开更多
关键词 Magnetically rotational reactor mrr Magnetic ionic liquid Absorption Permanent magnet
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自由空间光通信中被动调制研究进展
12
作者 李晓鹏 魏梦霞 +1 位作者 祝战科 柯熙政 《光通信研究》 北大核心 2024年第3期153-161,共9页
【目的】传统的自由空间光(FSO)通信需要参与通信的两端同时安装激光发射系统、激光接收系统和捕获、追踪和瞄准系统,使得系统的重量、体积、功耗、设备复杂程度和技术难度被迫提升,限制了FSO通信的发展。而利用非对称空间激光通信链路... 【目的】传统的自由空间光(FSO)通信需要参与通信的两端同时安装激光发射系统、激光接收系统和捕获、追踪和瞄准系统,使得系统的重量、体积、功耗、设备复杂程度和技术难度被迫提升,限制了FSO通信的发展。而利用非对称空间激光通信链路构建的被动调制技术,能够实现通信端体积小、重量轻和功耗低的设计,为自由空间激光通信技术在中小型场景中的应用提供了便利。【方法】文章对被动调制的原理及其调制形式进行了阐述,介绍了逆向调制系统的组成和逆向调制器(MRR)的工作原理,对常见MRR如角反射器MRR和“猫眼”MRR进行了分析,并对波长的选择以及光学接收器口径的大小进行了探讨。【结果】总结了被动调制的不同实现类型和特点,概括了其在FSO通信中的应用,展望了该技术未来的发展方向和前景。【结论】被动调制在未来可沿着高速率、焦平面像素化、双向通信和相干检测等方向发展并且有较大的发展空间。 展开更多
关键词 自由空间光通信 被动调制 逆向调制器 猫眼效应
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新型耐电蚀磨料电极电化学放电加工MMC实验研究
13
作者 邓子杰 林浩然 +3 位作者 张凤林 郭金保 蔡鹏程 刘江文 《制造技术与机床》 北大核心 2024年第5期84-93,共10页
针对采用传统的铜基磨料电极电化学放电加工颗粒增强金属基复合材料(PR-MMCs)工具电极快速损耗的问题,文章提出一种采用熔点高、硬度高的钨铜作为磨料电极的基体材料,探索一种基于钨铜基磨料电极的高速磨削辅助电化学放电加工PR-MMCs的... 针对采用传统的铜基磨料电极电化学放电加工颗粒增强金属基复合材料(PR-MMCs)工具电极快速损耗的问题,文章提出一种采用熔点高、硬度高的钨铜作为磨料电极的基体材料,探索一种基于钨铜基磨料电极的高速磨削辅助电化学放电加工PR-MMCs的新方法。铜电极、铜基磨料电极和钨铜基磨料电极分别被用于铝基碳化硅(SiCp/Al)复合材料的加工对比实验。研究结果表明,相比铜电极和传统的铜基磨料电极,新型的钨铜基磨料电极在加工SiCp/Al中展现出更好的耐电蚀性能和加工效率:钨铜基磨料电极的电极相对损耗率(TWR)均低于铜电极和传统铜基磨料电极的电极相对损耗率,最低可达铜电极的1.1%和传统铜基磨料电极的28.8%;钨铜磨料电极的材料去除效率(MRR)均高于铜电极和传统铜基磨料电极,最高可达铜电极的8.0倍和传统铜基磨料电极的2.5倍。 展开更多
关键词 金属基复合材料 G-ECDM 钨铜磨料电极 电极相对损耗率 材料去除率
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抛光垫特性对氧化镓CMP影响的实验研究 被引量:6
14
作者 龚凯 周海 +2 位作者 韦嘉辉 宋放 王晨宇 《工具技术》 2018年第6期29-32,共4页
对比分析了不同抛光垫的表面形貌、表面粗糙度、硬度以及涵养量对氧化镓晶片化学机械抛光过程中表面质量和材料去除率的影响规律,结果表明:在同一抛光参数条件下,Suba600无纺布抛光垫的材料去除率最大,为30.8nm/min,但抛光后氧化镓表面... 对比分析了不同抛光垫的表面形貌、表面粗糙度、硬度以及涵养量对氧化镓晶片化学机械抛光过程中表面质量和材料去除率的影响规律,结果表明:在同一抛光参数条件下,Suba600无纺布抛光垫的材料去除率最大,为30.8nm/min,但抛光后氧化镓表面有明显的凹坑;Politex阻尼布、LP57聚氨酯抛光垫抛光后晶片表面形貌都较好,获得了镜面无损伤晶片表面,但LP57聚氨酯抛光垫的材料去除率为22.6nm/min,大于Politex阻尼布抛光垫16.4nm/min的材料去除率;LP57聚氨酯抛光垫更适合对单晶氧化镓晶片进行化学机械抛光。该研究为氧化镓化学机械抛光(CMP)提供了参考依据。 展开更多
关键词 抛光垫特性 单晶氧化镓 化学机械抛光 材料去除率 表面质量
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Linear all-optical signal processing using silicon micro-ring resonators 被引量:3
15
作者 Yunhong DING Haiyan OU +11 位作者 Jing XU Meng XIONG Yi AN Hao HU Michael GALILI Abel Lorences RIESGO Jorge SEOANE Kresten YVIND Leif Katsuo OXENLOWE Xinliang ZHANG Dexiu HUANG Christophe PEUCHERET 《Frontiers of Optoelectronics》 EI CSCD 2016年第3期362-376,共15页
Silicon micro-ring resonators (MRRs) are compact and versatile devices whose periodic frequency response can be exploited for a wide range of applications. In this paper, we review our recent work on linear all-opti... Silicon micro-ring resonators (MRRs) are compact and versatile devices whose periodic frequency response can be exploited for a wide range of applications. In this paper, we review our recent work on linear all-optical signal processing applications using silicon MRRs as passive filters. We focus on applications such as modulation format conversion, differential phase-shift keying (DPSK) demodulation, modulation speed enhancement of directly modulated lasers (DMLs), and monocycle pulse generation. The possibility to implement polarization diversity circuits, which reduce the polarization dependence of standard silicon MRRs, is illustrated on the particular example of DPSK demodulation. 展开更多
关键词 linear all-optical signal processing micro-ring resonator mrr polarization diversity silicon-on-insulator (SOI)
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速度谱低端法在MRR反演雨滴谱中的应用研究 被引量:3
16
作者 何思远 刘晓阳 +2 位作者 孙大利 张轲 左全 《北京大学学报(自然科学版)》 EI CAS CSCD 北大核心 2015年第3期427-436,共10页
针对微雨雷达(MRR)反演雨滴谱时,大气垂直气流影响较大(下沉气流达到1 m/s以上时,反演滴径的误差超过40%)以及如何剔除垂直气流的问题,应用速度谱低端法估计垂直气流,将降水粒子数密度最大处的速度作为速度谱的低端,并以此计算垂直气流... 针对微雨雷达(MRR)反演雨滴谱时,大气垂直气流影响较大(下沉气流达到1 m/s以上时,反演滴径的误差超过40%)以及如何剔除垂直气流的问题,应用速度谱低端法估计垂直气流,将降水粒子数密度最大处的速度作为速度谱的低端,并以此计算垂直气流的速度。为了检验这个垂直气流速度对MRR反演的修正效果,将与MRR放置在一起的Parsivel雨滴谱仪的测量值作为参考进行对比。大雨强条件下修正后的相对误差减小20%左右,中、小雨强时修正后的相对误差减小10%以上,说明用速度谱低端法计算的垂直气流可用于修正MRR的反演。 展开更多
关键词 mrr 垂直气流 雨滴谱 速度谱低端法
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光片上网络MRR故障检测方法研究 被引量:5
17
作者 朱爱军 陈端勇 +2 位作者 许川佩 胡聪 李智 《电子测量与仪器学报》 CSCD 北大核心 2017年第8期1200-1206,共7页
光片上网络(photonic network-on-chip,PNoC)是下一代片上网络互联的趋势和典范,MRR(microring resonator)是PNoC中的关键器件,然而由于制造缺陷,且MRR对温度波动高度敏感,MRR极易发生故障,如何检测MRR故障是十分重要并亟待解决的问题... 光片上网络(photonic network-on-chip,PNoC)是下一代片上网络互联的趋势和典范,MRR(microring resonator)是PNoC中的关键器件,然而由于制造缺陷,且MRR对温度波动高度敏感,MRR极易发生故障,如何检测MRR故障是十分重要并亟待解决的问题。针对该问题提出了一种基于故障检测图的MRR故障检测方法,将n端口的光路由器建模为完全加权有向图并且建立MRR故障模型,通过完全加权有向图与故障模拟,确定基于MRR故障模型和故障检测图的故障检测方法。实验结果证明,在单故障和双故障模拟下,该方法均能够获得满意的故障覆盖率。 展开更多
关键词 片上网络 故障 mrr
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NOVEL METHOD FOR DYNAMIC OPTIMIZATION OF STABILITY IN HIGH-SPEED MILLING SYSTEM 被引量:4
18
作者 宋清华 万熠 +2 位作者 艾兴 赵军 刘战强 《Transactions of Nanjing University of Aeronautics and Astronautics》 EI 2009年第3期184-191,共8页
Considering the self-excited and forced vibrations in high-speed milling processes, a novel method for dynamic optimization of system stability is used to determine the cutting parameters and structural parameters by ... Considering the self-excited and forced vibrations in high-speed milling processes, a novel method for dynamic optimization of system stability is used to determine the cutting parameters and structural parameters by increasing the chatter free material removal rate (CF-MRR) and surface finish. The method is hased on the theory of the chatter stability and the semi-bandwidth of the resonant region. The objective function of the method is material removal rate(MRR),the constraints are chatter stability and surface finish, and the optimizing variables are cutting and structural parameters. The optimization procedure is stated. The method is applied to a milling system and CF-MRR is increased 18.86%. It is shown that the influences of the chatter stability and the resonance are simultaneously considered in the dynamic optimization of the milling system for increasing CF-MRR and the surface finish. 展开更多
关键词 RESONANCE milling (machining) stability dynamic optimization regenerative chatter material removal rate mrr
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Silicon-on-insulator-based microwave photonic filter with widely adjustable bandwidth 被引量:5
19
作者 LU XU JIE HOU +4 位作者 HAITAO TANG YUAN YU YU YU XUEWEN SHU XINLIANG ZHANG 《Photonics Research》 SCIE EI CSCD 2019年第2期110-115,共6页
We demonstrate a silicon-based microwave photonic filter(MPF) with flattop passband and adjustable bandwidth. The proposed MPF is realized by using a 10 th-order microring resonator(MRR) and a photodetector,both of wh... We demonstrate a silicon-based microwave photonic filter(MPF) with flattop passband and adjustable bandwidth. The proposed MPF is realized by using a 10 th-order microring resonator(MRR) and a photodetector,both of which are integrated on a photonic chip. The full width at half-maximum(FWHM) bandwidth of the optical filter achieved at the drop port of the 10 th-order MRR is 21.6 GHz. The ripple of the passband is less than 0.3 dB, while the rejection ratio is 32 dB. By adjusting the deviation of the optical carrier wavelength from the center wavelength of the optical bandpass filter, the bandwidth of the MPF can be greatly changed. In the experiment, the FWHM bandwidth of the proposed MPF is tuned from 5.3 to 19.5 GHz, and the rejection ratio is higher than 30 dB. 展开更多
关键词 MPF mrr Silicon-on-insulator-based
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Experimental demonstration of high-Q MRR based on a germanium-on-insulator platform with an yttria insulator in the mid-IR range 被引量:1
20
作者 JINHA LIM JOONSUP SHIM +1 位作者 INKI KIM SANGHYEON KIM 《Photonics Research》 SCIE EI CAS CSCD 2023年第11期I0017-I0024,共8页
We experimentally demonstrate an all-pass microring resonator (MRR) based on a Y_(2)O_(3)BOX germanium-oninsulator (GeOI) platform operating in the mid-IR region.The ring resonator was numerically designed to have a h... We experimentally demonstrate an all-pass microring resonator (MRR) based on a Y_(2)O_(3)BOX germanium-oninsulator (GeOI) platform operating in the mid-IR region.The ring resonator was numerically designed to have a high quality (Q) factor in the 4.18μm to 4.22μm wavelength range in the fundamental TE mode.According to our design,the GeOI ring resonator was fabricated by the direct wafer-bonding technology with an yttria(Y_(2)O_(3)) buried oxide layer,which is transparent at the mid-IR region,for the bonding interface and the electron beam lithography.The experimental resonant characteristic was obtained using our fiber-based mid-IR measurement setup.The GeOI single MRR exhibited an extinction ratio (ER) of 15.28 dB and an insertion loss (IL)of 1.204 dB,and the racetrack showed an ER of 22.77 dB and an IL of 0.627 dB.Furthermore,the free spectral range of the device was 5.29 nm,and the loaded Q factor of 94,528 (176,158 of intrinsic Q factor) was extracted by the nonlinear least squares method.We believe this demonstration of our GeOI MRR offers a valuable opportunity to implement multipurpose devices such as optical sensors,switches,and filters in the mid-IR range. 展开更多
关键词 resonator INSULATOR mrr
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