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A transmission line-type electrical model for tapered TSV considering MOS effect and frequency-dependent behavior 被引量:3
1
作者 刘松 单光宝 +1 位作者 谢成民 杜欣荣 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 2015年第2期92-98,共7页
The analytical model of voltage-controlled MOS capacitance of tapered through silicon via (TSV) is derived. To capture the frequency-dependent behavior of tapered TSV, the conventional analytical equations of RLCG f... The analytical model of voltage-controlled MOS capacitance of tapered through silicon via (TSV) is derived. To capture the frequency-dependent behavior of tapered TSV, the conventional analytical equations of RLCG for two-wire transmission lines are revised. With the adoption of MOS capacitance model and the revised RLCG analytical equations, a transmission line-type electrical model for tapered TSV is proposed finally. All the proposed models are validated by simulation tools, and a good correlation is obtained between the proposed models and simulations up to 100 GHz. With the proposed model, both the semiconductor phenomenon and frequency- dependent behavior of tapered TSV can be fully captured at high frequency, and the performance of tapered TSV can be evaluated accurately and conveniently prior to 3D IC design. 展开更多
关键词 3D IC TSV TSV electrical model mos effect transmission line
原文传递
考虑MOS效应的锥型硅通孔寄生电容解析模型 被引量:3
2
作者 杨银堂 王凤娟 +2 位作者 朱樟明 刘晓贤 丁瑞雪 《电子与信息学报》 EI CSCD 北大核心 2013年第12期3011-3017,共7页
该文采用求解泊松方程等数学方法,提出了考虑MOS效应的锥型硅通孔(TSV)寄生电容解析模型。基于铜材料TSV,对比了解析模型与Ansoft Q3D参数提取模型,得出在偏置电压为-0.4 V,0.5 V和1.0 V时,对于锥型TSV侧面倾角为75°,80°,85&#... 该文采用求解泊松方程等数学方法,提出了考虑MOS效应的锥型硅通孔(TSV)寄生电容解析模型。基于铜材料TSV,对比了解析模型与Ansoft Q3D参数提取模型,得出在偏置电压为-0.4 V,0.5 V和1.0 V时,对于锥型TSV侧面倾角为75°,80°,85°和90°4种情况,多个参数变化时解析模型最大均方根误差分别为6.12%,4.37%,3.34%和4.84%,忽略MOS效应时,最大均方根误差分别达到210.42%,214.81%,214.52%和211.47%,验证了该解析模型的准确性和考虑MOS效应的必要性。Ansoft HFSS仿真结果表明,考虑MOS效应以后11S的最大减幅大约为19 dB,21S的最大增幅大约为0.01 dB,锥型TSV的传输性能得到改善。 展开更多
关键词 集成电路 锥型硅通孔 寄生电容 mos效应 泊松方程
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直流磁控溅射铂电阻薄膜 被引量:12
3
作者 周鸿仁 刘秀蓉 徐蓓娜 《电子科技大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1997年第6期662-665,共4页
根据薄膜理论和通过成膜工艺实验,研究了影响铂薄膜电阻温度系数的主要因素。1)对铂靶材料的纯度要求高,含杂质极少;2)淀积薄膜要有一定厚度,通常近于1μm才能有较大的α;3)成膜以后,需经过高温热处理,减少缺陷,结晶化... 根据薄膜理论和通过成膜工艺实验,研究了影响铂薄膜电阻温度系数的主要因素。1)对铂靶材料的纯度要求高,含杂质极少;2)淀积薄膜要有一定厚度,通常近于1μm才能有较大的α;3)成膜以后,需经过高温热处理,减少缺陷,结晶化改善。通过大量实验,使用高铝陶瓷基片或微晶玻璃基片,溅射铂薄膜的厚度为800nm,高温热处理1h,可以获得电阻温度系数为3.850×10-3/℃的铂电阻薄膜。 展开更多
关键词 铂薄膜 热敏电阻 磁控溅射 热处理
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ICL7650-CMOS斩波集成运放简介及应用 被引量:10
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作者 文亚凤 赵莲清 刘向军 《现代电子技术》 2006年第12期19-20,共2页
介绍了ICL7650 CMOS斩波集成运算放大结构和性能,输入级使用MOS场效应管,采用斩波自动稳零结构,附带调制和解调等措施,具有输入偏置电流小,低失调电压和温度漂移以及精密的反馈特性和高的共模抑制比能力。并采用该器件实现了一个积分电... 介绍了ICL7650 CMOS斩波集成运算放大结构和性能,输入级使用MOS场效应管,采用斩波自动稳零结构,附带调制和解调等措施,具有输入偏置电流小,低失调电压和温度漂移以及精密的反馈特性和高的共模抑制比能力。并采用该器件实现了一个积分电路,该电路零位可以调整,抑制干扰,降低噪声,是很好的传感器信号预处理电路。 展开更多
关键词 ICL7650 运算放大器 积分电路 mos场效应管
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客观预报中格点因子处理方法探讨 被引量:7
5
作者 王建国 李玉华 +1 位作者 耿波 吴炜 《气象》 CSCD 北大核心 2001年第3期8-11,共4页
在采用数值预报产品制作温度、降水客观预报时 ,一种常见的方法是对数值预报产品格点因子进行平滑处理 ,以利于过滤噪声。为了确定对格点因子进行平滑处理与非平滑处理的优劣 ,采用 1995~ 1997年 6~ 9月的国家气象中心 T10 6数值预报... 在采用数值预报产品制作温度、降水客观预报时 ,一种常见的方法是对数值预报产品格点因子进行平滑处理 ,以利于过滤噪声。为了确定对格点因子进行平滑处理与非平滑处理的优劣 ,采用 1995~ 1997年 6~ 9月的国家气象中心 T10 6数值预报产品资料 ,分别建立了这两种方法的山东省各测站 1~ 5天日极端温度、降水量 MOS预报方程。并对 1999年 7~ 9月的预报结果进行了对比检验 ,结果表明 ,非平滑处理优于平滑处理的预报效果。 展开更多
关键词 T106产品 因子处理 mos方法 效果检验 温度 降水 客观预报 数值预报
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基于功率MOS型场效应管的4kV纳秒脉冲源 被引量:5
6
作者 陈静 陈敏德 《信息与电子工程》 2008年第3期230-232,共3页
为了用固体开关器件替代国外氢闸流管,开展了大功率高速高压半导体固体开关及与其相配的高速高压组合电路研究。利用功率MOS型场效应管的开关原理,提出了对功率MOS型场效应管的栅极"过"驱动技术,提高了功率MOS型场效应管的开... 为了用固体开关器件替代国外氢闸流管,开展了大功率高速高压半导体固体开关及与其相配的高速高压组合电路研究。利用功率MOS型场效应管的开关原理,提出了对功率MOS型场效应管的栅极"过"驱动技术,提高了功率MOS型场效应管的开关速度,研制出基于功率MOS型场效应管的输出脉冲幅度大于4 kV,前沿小于10 ns,脉冲宽度大于100 ns的高压快脉冲驱动源。 展开更多
关键词 “过”驱动 功率mos型场效应管 纳秒 高压 宽脉冲
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基于LabVIEW与TCAD的MOS场效应晶体管虚拟仿真实验平台设计与实现 被引量:1
7
作者 李曼 张淳棠 +4 位作者 刘安琪 郭宇锋 杨可萌 姚佳飞 张珺 《大学物理实验》 2023年第3期106-110,共5页
为了解决微电子科学与工程或集成电路设计与集成系统专业实验教学面临的难题,设计了基于LabVIEW与TCAD的MOS场效应晶体管虚拟仿真实验平台。该平台可以实现MOS场效应晶体管的电学性能测试和参数提取,包括数据输入与存储、控制命令输出... 为了解决微电子科学与工程或集成电路设计与集成系统专业实验教学面临的难题,设计了基于LabVIEW与TCAD的MOS场效应晶体管虚拟仿真实验平台。该平台可以实现MOS场效应晶体管的电学性能测试和参数提取,包括数据输入与存储、控制命令输出、数据采集与显示、报错与停止以及图形分析与提取。该虚拟仿真实验平台为学生提供了良好的工程实践平台,具有操作简单和效率高的明显优势,能够充分调动学生的主观性并且帮助学生理解复杂问题。 展开更多
关键词 mos场效应晶体管 虚拟仿真 实验平台 LABVIEW TCAD
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MOS场效应晶体管虚拟仿真实验教学资源建设 被引量:5
8
作者 李曼 郭宇锋 +1 位作者 顾世浦 姚佳飞 《物理实验》 2020年第11期35-40,共6页
为了解决大多数高校微电子专业实验教学面临的难题,建设了MOS场效应晶体管虚拟仿真实验教学资源.引入半导体器件的虚拟制造和虚拟测试理念,基于半导体工艺仿真软件和器件模拟软件进行二次开发,包含教学管理、虚拟制造和虚拟测试3大部分,... 为了解决大多数高校微电子专业实验教学面临的难题,建设了MOS场效应晶体管虚拟仿真实验教学资源.引入半导体器件的虚拟制造和虚拟测试理念,基于半导体工艺仿真软件和器件模拟软件进行二次开发,包含教学管理、虚拟制造和虚拟测试3大部分,共17个模块,实现了MOS场效应晶体管的各种制造工艺流程和直流、交流、瞬态等各种性能测试.虚拟仿真实验教学资源知识点覆盖面广,理念先进,辐射范围广,具有较好的学习效果,为微电子专业人才培养提供了优质的实验教学资源. 展开更多
关键词 mos场效应晶体管 虚拟仿真 虚拟制造 虚拟测试 微电子 教学管理
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MOS结构剂量探测器研究进展 被引量:2
9
作者 程松 刘伯学 毛用泽 《原子核物理评论》 CAS CSCD 北大核心 2002年第3期361-364,共4页
介绍了MOS结构剂量探测器的基本测量原理 ,回顾了国内外利用MOS结构作为剂量探测器的发展过程和研究现状 。
关键词 mos结构剂量探测器 mos场效应晶体管 电离辐射 吸收剂量 金属氧化物半导体 测量原理
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MOS场效应管静电击穿原因及检测方法 被引量:4
10
作者 欧宝明 《电子质量》 2019年第3期65-68,共4页
文章主要介绍MOS场效应管容易受到静电击穿损坏的原因,并从实际应用的角度,给出简单测量场效应管的方法,为维修和应用方面提供一定的参考价值。
关键词 mos 静电 击穿 检测
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基于单片机的一种步进电机全数字任意细分及驱动方法 被引量:1
11
作者 蒋永平 徐杜 《自动化与仪表》 1999年第2期47-50,共4页
在大功率步进电机应用中实现连续多倍细分和直接对交流220V的高压、大功率驱动不多见。根据大功率步进电机的应用特点和使用单位对控制器性能的要求,为了提高步进电机的分辨率和运行可靠稳定,我们曾提出一种简单、有效的全数字式... 在大功率步进电机应用中实现连续多倍细分和直接对交流220V的高压、大功率驱动不多见。根据大功率步进电机的应用特点和使用单位对控制器性能的要求,为了提高步进电机的分辨率和运行可靠稳定,我们曾提出一种简单、有效的全数字式步进电机细分方法及其实现原理,并研... 展开更多
关键词 步进电机 单片机 细分 驱动 全数字
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间接耦合光探测器再分析 被引量:1
12
作者 尹长松 《半导体光电》 CAS CSCD 北大核心 1999年第6期439-440,445,共3页
再次分析了间接耦合光探测器耦合系数定义的自相矛盾,指出这种器件的耦合区实际上是表面耗尽区,或者是表面反型层区,并说明这种器件结构本质上是一种MOS场效应结构。
关键词 间接耦合光探测器 mos场效应结构 电荷耦合器件
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微细加工技术发展前景与展望
13
作者 赫荣杰 张虹 《微处理机》 2004年第3期1-2,7,共3页
本文介绍以硅为衬底的微细加工技术的发展前景与展望。随着特征尺寸的不断缩小 ,微细加工技术的水平逐渐提高。当特征尺寸进入到微米、亚微米量级时 ,需要克服“极限”束缚 ,增加器件的集成度。
关键词 mos场效应晶体管 特征尺寸 介质
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基于Savitzky-Golay滤波器的MOSFET阈值电压提取技术 被引量:2
14
作者 杨红官 朱坤顺 朱晓君 《电子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第11期2242-2246,共5页
MOS(Matel-Oxide-Semiconductor)器件阈值电压提取过程中的一些求导运算放大了测量数据中所包含的涨落因素(噪声和测量错误),使阈值电压提取过程变得不稳定.本文采用Savitzky-Golay低通滤波算法,求导运算和滤波过程同时进行,有效地抑制... MOS(Matel-Oxide-Semiconductor)器件阈值电压提取过程中的一些求导运算放大了测量数据中所包含的涨落因素(噪声和测量错误),使阈值电压提取过程变得不稳定.本文采用Savitzky-Golay低通滤波算法,求导运算和滤波过程同时进行,有效地抑制了测量数据中的涨落.再结合目标曲线峰值附近局域匹配系数判据,阈值电压提取过程就可以稳定且自动地完成,这为MOSFET(MOS Field-Effect Transistor)特性分析及集成电路设计工作带来很大方便. 展开更多
关键词 金属氧化物半导体场效应晶体管 阈值电压 测量涨落 Savitzky-Golay滤波器
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Manganese and chromium doping in atomically thin MoS2 被引量:1
15
作者 Ce Huang Yibo Jin +3 位作者 Weiyi Wang Lei Tang Chaoyu Song Faxian Xiu 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 2017年第3期76-81,共6页
Recently,two-dimensional materials have been attracting increasing attention because of their novel properties and promising applications.However,the impurity doping remains a significant challenge owing to the lack o... Recently,two-dimensional materials have been attracting increasing attention because of their novel properties and promising applications.However,the impurity doping remains a significant challenge owing to the lack of the doping strategy in the atomically thin layers.Here we report on the chromium(Cr) and manganese(Mn)doping in atomically-thin MoS_2 crystals grown by chemical vapor deposition.The Cr/Mn doped MoS_2 samples are characterized by a peak at 1.76 and 1.79 eV in photoluminescence spectra,respectively,compared with the undoped one at 1.85 eV.The field-effect transistor(FET) devices based on the Mn doping show a higher threshold voltage than that of the pure MoS_2 while the Cr doping exhibits the opposite behavior.Importantly,the carrier concentration in these samples displays a remarkable difference arising from the doping effect,consistent with the evolution of the FET performance.The temperature-dependent conductivity measurements further demonstrate a large variation in activation energy.The successful incorporation of the Mn and Cr impurities into the monolayer MoS_2 paves the way towards the high Curie temperature two-dimensional dilute magnetic semiconductors. 展开更多
关键词 mos2 field effect transistors dilute magnetic semiconductors two-dimensional materials
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具有量子修正功能的三维蒙特卡罗MOS器件模拟
16
作者 李尊朝 蒋耀林 饶元 《西安交通大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第2期183-186,共4页
为了处理纳米MOS场效应管的量子效应,在蒙特卡罗模拟中引入有效势量子修正,并提出了基于PC机群的三维并行模拟算法.每个节点应用多层网格法求解一个子区域内各网格点的Poisson方程,采用有效势法对各网格点进行量子修正,并跟踪模拟一组... 为了处理纳米MOS场效应管的量子效应,在蒙特卡罗模拟中引入有效势量子修正,并提出了基于PC机群的三维并行模拟算法.每个节点应用多层网格法求解一个子区域内各网格点的Poisson方程,采用有效势法对各网格点进行量子修正,并跟踪模拟一组带电粒子的加速飞行和随机散射运动,使所有节点的负载始终保持平衡.模拟实例表明,引入有效势修正的蒙特卡罗模拟结果与薛定鄂方程计算结果吻合得较好,所提并行算法也具有较高的加速比. 展开更多
关键词 蒙特卡罗模拟 mos场效应管 量子效应
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500 V/11 A VDMOSFET 的研究 被引量:1
17
作者 陈宁 朱长纯 +1 位作者 吴一清 单建安 《西安交通大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1998年第5期22-25,30,共5页
在理论分析的基础上,设计制作了500V/11AVDMOSFET芯片,并且进行了失效分析,从而进一步解决了设计和工艺中存在的问题,提高了成品率.最后指出了今后努力的方向.
关键词 功率器件 mos结构 场效应
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SOI/MOSFET Kink效应的模拟和分析
18
作者 王晓晖 汤庭鳌 +2 位作者 郑大卫 黄宜平 C.A.Pazde Araujo 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 1993年第3期228-232,共5页
非全耗尽SOI/MOS晶体管由于存在“Kink效应”而限制了它的应用范围。本文考虑了沟道夹断区的碰撞电离和横向寄生晶体管效应,对浮置衬底SOI/nMOS晶体管的电流—电压特性曲线进行了理论计算,讨论了Kink效应的产生机理。计算结果与实验符... 非全耗尽SOI/MOS晶体管由于存在“Kink效应”而限制了它的应用范围。本文考虑了沟道夹断区的碰撞电离和横向寄生晶体管效应,对浮置衬底SOI/nMOS晶体管的电流—电压特性曲线进行了理论计算,讨论了Kink效应的产生机理。计算结果与实验符合甚好。对器件参数的分析可以定性地指导抑制Kink效应的器件优化设计。 展开更多
关键词 SOI结构 mos场效应管 KINK效应
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注入光敏器件与MOS场效应结构比较
19
作者 何民才 黄启俊 王海军 《半导体光电》 CAS CSCD 北大核心 2000年第6期439-441,445,共4页
通过理论分析和实验证明了注入光敏器件并不是一种MOS场效应结构 。
关键词 光探测器 注入光敏器件 mos场效应结构
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一种基于电荷法模型的亚阈值电流分析方法
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作者 牛国富 汤庭鳌 Carlos A.Paz de Araujo 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 1993年第1期9-13,共5页
采用电荷法,避免使用有效沟道厚度的近似概念,较严格地讨论了MOS场效应管的亚阈值电流、亚阈值摆幅,其结果与实验数据符合较好。
关键词 亚阈值电流 mos 场效应晶体管
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