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一种PN结隔离互补双极工艺
被引量:
3
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作者
欧宏旗
刘伦才
+1 位作者
胡明雨
税国华
《微电子学》
CAS
CSCD
北大核心
2007年第4期548-552,共5页
介绍了几种互补双极工艺的结构和特点,详细阐述了一种基于N型外延的PN结隔离互补双极工艺;着重探讨了隔离制作技术和PNP管设计要点,并对实际流片结果进行了讨论。
关键词
互补双极工艺
隔离技术
pnp
晶体管
高速放大器
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职称材料
题名
一种PN结隔离互补双极工艺
被引量:
3
1
作者
欧宏旗
刘伦才
胡明雨
税国华
机构
模拟集成电路国家重点实验室
出处
《微电子学》
CAS
CSCD
北大核心
2007年第4期548-552,共5页
文摘
介绍了几种互补双极工艺的结构和特点,详细阐述了一种基于N型外延的PN结隔离互补双极工艺;着重探讨了隔离制作技术和PNP管设计要点,并对实际流片结果进行了讨论。
关键词
互补双极工艺
隔离技术
pnp
晶体管
高速放大器
Keywords
Complementary
bipolar
process
isolations
pnp
transistor
High
speed
amplifier
分类号
TN431.1 [电子电信—微电子学与固体电子学]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
一种PN结隔离互补双极工艺
欧宏旗
刘伦才
胡明雨
税国华
《微电子学》
CAS
CSCD
北大核心
2007
3
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