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PMMA表面高功率脉冲磁控溅射制备ITO涂层 被引量:1
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作者 冯军 李必文 +3 位作者 陈文波 陈美艳 金凡亚 但敏 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2020年第7期2229-2233,共5页
采用高功率脉冲磁控溅射技术在PMMA基体上制备了ITO涂层。利用XRD、SEM对涂层进行了相结构的分析,并进行了划痕实验、光电性能测试。结果表明:偏压、氢氩流量比等工艺参数对涂层的相结构、膜基结合力、光电性能均有影响。增大偏压,膜基... 采用高功率脉冲磁控溅射技术在PMMA基体上制备了ITO涂层。利用XRD、SEM对涂层进行了相结构的分析,并进行了划痕实验、光电性能测试。结果表明:偏压、氢氩流量比等工艺参数对涂层的相结构、膜基结合力、光电性能均有影响。增大偏压,膜基结合力将增强,偏压达到240 V时,膜基结合力最好(56.5 N)。偏压由0 V增加到160 V的过程中,涂层晶粒增大,透射率变高(由82.24%增至89.82%),电阻率变低(由0.006571减至0.000543Ω·cm)。当氢氩流量比由0增至0.05,透射率变低(由89.82%减至56.12%)。氢氩流量比由0增至0.03,电阻率变低(由0.000543减至0.000212Ω·cm);氢氩流量比由0.03增至0.05,电阻率变高(由0.000212增至0.000373Ω·cm)。 展开更多
关键词 ito涂层 高功率脉冲磁控溅射 PMMA 脉冲偏压 氢氩流量比
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一种保护玻璃防水雾透明导电薄膜的设计与制备
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作者 马永龙 刘红光 《光学与光电技术》 2011年第3期56-58,63,共4页
为了使光学仪器能适应低温潮湿环境,设计了一种复合型的保护玻璃防水雾透明导电薄膜。采用非平衡闭合磁场反应溅射技术在K9玻璃基底上沉积了氧化铟锡(ITO)导电膜以及复合型的透明导电膜系。采用光谱仪、方阻仪测试了样品的透射光谱以及... 为了使光学仪器能适应低温潮湿环境,设计了一种复合型的保护玻璃防水雾透明导电薄膜。采用非平衡闭合磁场反应溅射技术在K9玻璃基底上沉积了氧化铟锡(ITO)导电膜以及复合型的透明导电膜系。采用光谱仪、方阻仪测试了样品的透射光谱以及方块电阻,并对样品进行了环境试验。结果表明,样品的光学技术指标以及抗恶劣环境性能均达到了使用要求。 展开更多
关键词 透明导电薄膜 非平衡闭合磁场反应溅射 ito薄膜 环境试验
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Cu^+离子注入对ITO薄膜玻璃进行表面改性的研究 被引量:2
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作者 姜妍彦 刘洪珠 +2 位作者 王承遇 刘振民 史维东 《玻璃与搪瓷》 CAS 北大核心 1999年第3期18-21,43,共5页
将透明导电氧化铟锡(ITO)薄膜玻璃注入了Cu+离子进行表面改性。利用四探针、分光光度计、红外反射等设备,测定了注入Cu+离子前后ITO薄膜玻璃的电学、光学、微波衰减和机械性能,得出它们性能的变化规律,并加以分析。结... 将透明导电氧化铟锡(ITO)薄膜玻璃注入了Cu+离子进行表面改性。利用四探针、分光光度计、红外反射等设备,测定了注入Cu+离子前后ITO薄膜玻璃的电学、光学、微波衰减和机械性能,得出它们性能的变化规律,并加以分析。结果表明,Cu+离子注入虽然使电学、光学性能有所降低,但表面硬度显著增加,可应用于对磨损性能要求较高的场合。 展开更多
关键词 薄膜玻璃 离子注入 表面改性 ito玻璃
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