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抗辐照H型栅PD SOI NMOSFETs 被引量:3
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作者 赵洪辰 海潮和 +1 位作者 韩郑生 钱鹤 《功能材料与器件学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第1期71-74,共4页
在商用SIMOX衬底上制备了部分耗尽抗辐照H型栅NMOSFETs,使用的主要技术手段有:氮化H2-O2合成栅介质加固正栅;增加体区掺杂,以提高背栅阈值电压;采用H型栅结构,消除边缘寄生晶体管。结果表明,在经受1E6rad(Si)的辐照后,器件特性没有明显... 在商用SIMOX衬底上制备了部分耗尽抗辐照H型栅NMOSFETs,使用的主要技术手段有:氮化H2-O2合成栅介质加固正栅;增加体区掺杂,以提高背栅阈值电压;采用H型栅结构,消除边缘寄生晶体管。结果表明,在经受1E6rad(Si)的辐照后,器件特性没有明显恶化。 展开更多
关键词 SOI 总剂量辐照 氮化h2-O2 合成栅介质 h型栅
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不同栅结构的部分耗尽NMOSFET/SIMOX的总剂量辐照效应研究 被引量:1
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作者 钱聪 张恩霞 +9 位作者 贺威 张正选 张峰 林成鲁 王英民 王小荷 赵桂茹 恩云飞 罗宏伟 师谦 《功能材料与器件学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第4期308-312,共5页
研究了在改性注氧隔离(SIMOX)材料上制备的具有环栅和H型栅结构的部分耗尽NMOS晶体管在三种不同偏置状态的总剂量辐照效应。实验表明在10keV的X-射线总剂量辐照下,器件的背栅、正栅阈值电压负向漂移和漏电流都控制在较小的水平;在2Mrad(... 研究了在改性注氧隔离(SIMOX)材料上制备的具有环栅和H型栅结构的部分耗尽NMOS晶体管在三种不同偏置状态的总剂量辐照效应。实验表明在10keV的X-射线总剂量辐照下,器件的背栅、正栅阈值电压负向漂移和漏电流都控制在较小的水平;在2Mrad(SiO2)的辐照下仍能正常工作。研究证实了无论哪种栅结构,对于背栅,PG均为最劣偏置,其次是OFF偏置,而ON偏置下器件受辐照的影响最小;而对于正栅,ON均为最劣偏置。通过拟合计算出了绝缘埋层(BOX,即埋氧)中的饱和净正电荷密度Not和空穴俘获分数α。 展开更多
关键词 绝缘体上硅(SOI) 总剂量辐照效应 环栅结构 h型栅结构
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