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GaSb基的InAs/GaSbⅡ类超晶格背景载流子浓度的测量 被引量:3
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作者 徐志成 陈建新 何力 《激光与红外》 CAS CSCD 北大核心 2012年第1期45-50,共6页
高质量的InAs/GaSbⅡ类超晶格(SLs)材料生长在晶格匹配的GaSb衬底上,由于GaSb衬底具有良好的导电性,传统的霍尔测量难以直接得到外延超晶格材料的载流子浓度等电学参数,所以,如何准确地获得InAs/GaSb超晶格外延材料中的载流子浓度成为... 高质量的InAs/GaSbⅡ类超晶格(SLs)材料生长在晶格匹配的GaSb衬底上,由于GaSb衬底具有良好的导电性,传统的霍尔测量难以直接得到外延超晶格材料的载流子浓度等电学参数,所以,如何准确地获得InAs/GaSb超晶格外延材料中的载流子浓度成为了研究人员关注的焦点之一。主要介绍了InAs/GaSbⅡ类超晶格背景载流子浓度测量的四种典型的方法:低温霍尔技术;变磁场霍尔技术以及迁移率谱拟合;衬底去除技术;电容-电压技术。并给出了各种方法的基本原理,评价了每种方法的优缺点。 展开更多
关键词 InAs/gasbⅡ类超晶格 背景载流子浓度 gasb衬底 霍尔测量 迁移率谱 去衬底 电容-电压
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无位错Te-GaSb(100)单晶抛光衬底的晶格完整性 被引量:2
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作者 冯银红 沈桂英 +5 位作者 赵有文 刘京明 杨俊 谢辉 何建军 王国伟 《人工晶体学报》 CAS 北大核心 2022年第6期1003-1011,共9页
采用液封直拉(LEC)法批量生长的直径2英寸(1英寸=2.54 cm)n型Te-GaSb(100)单晶的位错腐蚀坑密度(EPD)通常低于300 cm^(-2),达到无位错水平。本文利用X射线摇摆曲线以及倒易空间图(RSM)对这种GaSb单晶抛光衬底的晶格完整性和亚表面损伤... 采用液封直拉(LEC)法批量生长的直径2英寸(1英寸=2.54 cm)n型Te-GaSb(100)单晶的位错腐蚀坑密度(EPD)通常低于300 cm^(-2),达到无位错水平。本文利用X射线摇摆曲线以及倒易空间图(RSM)对这种GaSb单晶抛光衬底的晶格完整性和亚表面损伤情况进行了分析表征,结果表明经过工艺条件优化的化学机械抛光处理,GaSb单晶衬底表面达到原子级光滑,不存在亚表面损伤层。利用分子束外延在这种衬底上可稳定生长出高质量的Ⅱ类超晶格外延材料并呈现出优异的红外探测性能。在此基础上,对CaSb衬底材料的物性、生长制备和衬底加工条件之间的内在关系进行了综合分析。 展开更多
关键词 gasb 衬底 液封直拉法 晶格完整性 位错腐蚀坑密度 倒易空间图 亚表面损伤 化合物半导体
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Polycrystalline GaSb thin films grown by co-evaporation 被引量:1
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作者 乔在祥 孙云 +2 位作者 何炜瑜 何青 李长健 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第3期26-29,共4页
We report optical and electrical properties of polycrystalline GaSb thin films which were successfully grown by co-evaporation on soda-lime glass substrates. The thin films have preferential orientation of the (111)... We report optical and electrical properties of polycrystalline GaSb thin films which were successfully grown by co-evaporation on soda-lime glass substrates. The thin films have preferential orientation of the (111) direction. SEM results indicate that the average grain size of GaSb thin film is 500 nm with the substrate temperature of 560 ℃. The average reflectance of GaSb thin film is about 30% and the absorption coefficient is of the order of 10^4 cm^-1. The optical bandgap of GaSb thin film is 0.726 eV. The hole concentration shows a clear increasing trend as the Ga-evaporation-temperature/Sb-evaporation-temperature (TGa/Tsb) ratio increases. When the Ga crucible temperature is 810 ℃ and the antinomy crucible temperature is 415 ℃, the hole concentration of polycrystalline GaSb is 2 × 10^17 cm^-3 and the hole mobility is 130 cm^2/(V·s). These results suggest that polycrystalline GaSb thin film is a good candidate for the use as a cheap material in TPV cells. 展开更多
关键词 substrate temperature band gap CO-EVAPORATION polycrystalline gasb films
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Properties of GaSb Substrate Wafers for MOCVD Ⅲ-Ⅴ Antimonids
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作者 彭瑞伍 丁永庆 +1 位作者 徐晨梅 王占国 《Rare Metals》 SCIE EI CAS CSCD 1998年第3期2-6,共5页
The properties of GaSb substrates commonly used for the preparation of Ⅲ Ⅴ antimonide epilayers were studied before and after growing GaInAsSb multi layers by MOCVD using PL, FTIR and DCXD together with the electr... The properties of GaSb substrates commonly used for the preparation of Ⅲ Ⅴ antimonide epilayers were studied before and after growing GaInAsSb multi layers by MOCVD using PL, FTIR and DCXD together with the electrical properties and EPD values. The correlation between the substrate qualities and epilayer properties was briefly discussed. The good property epilayers of GaInAsSb and, then, the high performance of 2.3 μm photodetectors were achieved only when the good quality GaSb wafers was used as the substrates. 展开更多
关键词 gasb substrate GaInAsSb epilayer MOCVD antimonide PL FTIR DCXD
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InAsSb材料的LP-MOCVD生长
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作者 徐庆安 邵逸恺 +4 位作者 汪韬 尹飞 闫欣 辛丽伟 王警卫 《半导体光电》 CAS 北大核心 2015年第5期733-735,740,共4页
采用低压金属有机物化学气相沉积(LP-MOCVD)设备,在(100)面GaSb单晶衬底上生长了高质量的InAsSb材料。分析了InAs/GaSb超晶格红外材料在不同生长条件下的生长质量,对器件材料结构进行了表征,并进行了理论分析和优化生长。采用X射线双晶... 采用低压金属有机物化学气相沉积(LP-MOCVD)设备,在(100)面GaSb单晶衬底上生长了高质量的InAsSb材料。分析了InAs/GaSb超晶格红外材料在不同生长条件下的生长质量,对器件材料结构进行了表征,并进行了理论分析和优化生长。采用X射线双晶衍射原子力显微镜对其外延薄膜的单晶质量进行分析,得到外延层与衬底材料的晶格失配仅为-0.43%。通过调节过渡层材料来减小界面处的应变,提高材料的生长质量,利用光致发光谱对材料做了检测分析。给出了InAsSb材料的LP-MOCVD生长的参数分析和测量分析,为以后生长和分析InAsSb材料提供了很好的基础。 展开更多
关键词 INASSB LP-MOCVD 超晶格 gasb衬底 红外探测器
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Ⅱ类超晶格探测器背面减薄技术研究
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作者 李春领 封雪 +2 位作者 邢伟荣 温涛 周朋 《红外》 CAS 2022年第9期10-14,共5页
为了验证外延材料制备工艺试验的正确性,减少GaSb衬底对红外光的吸收,同时提升探测器的可靠性和长期稳定性,需要对Ⅱ类超晶格红外探测器的GaSb衬底进行减薄处理。采用机械抛光法和机械化学抛光法实现Ⅱ类超晶格探测器的GaSb衬底背面减薄... 为了验证外延材料制备工艺试验的正确性,减少GaSb衬底对红外光的吸收,同时提升探测器的可靠性和长期稳定性,需要对Ⅱ类超晶格红外探测器的GaSb衬底进行减薄处理。采用机械抛光法和机械化学抛光法实现Ⅱ类超晶格探测器的GaSb衬底背面减薄,最后利用专用腐蚀液腐蚀的方法将GaSb衬底全部去除,使Ⅱ类超晶格材料完全露出。扫描电镜测试表明,超晶格材料腐蚀阻挡层能起到较好的阻挡作用,材料表面光滑,衬底无残留。探测器性能测试结果表明,减薄后的探测器芯片性能未发生变化。 展开更多
关键词 Ⅱ类超晶格 锑化镓衬底 背面减薄 腐蚀
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衬底温度对共蒸发制备GaSb多晶薄膜性质的影响 被引量:2
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作者 隋妍萍 阮建明 +3 位作者 李涛 蔡宏琨 何炜瑜 张德贤 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第5期1115-1119,共5页
采用共蒸发的方法在玻璃衬底上制备出GaSb多晶薄膜材料。研究了薄膜生长速率与衬底温度、Ga源温度和Sb源温度的关系。通过XRD、UV-Vis、Hall效应和AFM等测试方法,研究了衬底温度对于GaSb薄膜的结构特性、光电性质以及表面形貌的影响。G... 采用共蒸发的方法在玻璃衬底上制备出GaSb多晶薄膜材料。研究了薄膜生长速率与衬底温度、Ga源温度和Sb源温度的关系。通过XRD、UV-Vis、Hall效应和AFM等测试方法,研究了衬底温度对于GaSb薄膜的结构特性、光电性质以及表面形貌的影响。GaSb多晶薄膜具有(111)择优取向,薄膜的吸收系数达到105cm-1,晶粒尺寸随衬底温度升高逐渐增大;衬底温度为540℃时,薄膜的迁移率达到127 cm2/V.s,空穴浓度为3×1017 cm-3。 展开更多
关键词 gasb多晶薄膜 共蒸发 衬底温度
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3 in长波Ⅱ类超晶格分子束外延工艺优化研究
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作者 胡雨农 邢伟荣 +3 位作者 刘铭 周朋 李震 申晨 《红外》 CAS 2021年第11期1-8,共8页
为提升大面阵Ⅱ类超晶格红外探测器的性能、产量和材料质量,对3 in长波InAs/GaSbⅡ类超晶格分子束外延(Molecular Beam Epitaxy,MBE)生长工艺优化进行了研究。结合反射式高能电子衍射(Reflection High-Energy Electron Diffraction,RHE... 为提升大面阵Ⅱ类超晶格红外探测器的性能、产量和材料质量,对3 in长波InAs/GaSbⅡ类超晶格分子束外延(Molecular Beam Epitaxy,MBE)生长工艺优化进行了研究。结合反射式高能电子衍射(Reflection High-Energy Electron Diffraction,RHEED)条纹研究了不同的去氧化层温度和生长温度对3 in外延片质量的影响。使用光学显微镜、原子力显微镜(Atomic Force Microscopy,AFM)、表面颗粒检测仪、白光干涉仪、高分辨X射线衍射仪(High-Resolution X-Ray Diffractometer,HRXRD)以及X射线衍射谱模拟分别对外延片的表面形貌、均匀性和晶格质量进行了表征。优化后外延片1μm以上缺陷的密度为316cm^(-2),粗糙度为0.37 nm,总厚度偏差(Total Thickness Variation,TTV)为19.6μm,77 K下截止波长为9.98μm。在2 in长波Ⅱ类超晶格分子束外延生长工艺的基础上,研究了增大GaSb衬底尺寸后相应生长条件的变化情况。这对尺寸增大后Ⅲ-Ⅴ族分子束外延工艺条件的调整具有参考意义,也为锑基Ⅱ类超晶格红外探测器的面阵规模、质量和产能提升奠定了基础。 展开更多
关键词 分子束外延 Ⅱ类超晶格 3 in gasb衬底
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