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光助Fenton试剂氧化降解染料直接耐晒黑G的研究
被引量:
7
1
作者
郑怀礼
刘宏
+1 位作者
李方
黄玉明
《光谱学与光谱分析》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2006年第12期2360-2363,共4页
文章研究了影响Fenton试剂氧化降解持久性有机污染物直接耐晒黑G的因素,如光源的选择、初始pH值、H2O2的用量、Fe2+的用量、阳离子交换树脂载体的引入等,通过研究确定了各因素的优化条件。研究结果表明:太阳光照能有效的促进直接耐晒黑...
文章研究了影响Fenton试剂氧化降解持久性有机污染物直接耐晒黑G的因素,如光源的选择、初始pH值、H2O2的用量、Fe2+的用量、阳离子交换树脂载体的引入等,通过研究确定了各因素的优化条件。研究结果表明:太阳光照能有效的促进直接耐晒黑G染料的降解脱色,大大缩短反应时间;引入阳离子交换树脂后,可增强Fenton氧化反应的活性,降解效果更好。
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关键词
光助Fenton试剂
直接耐晒黑
g
持久性有机污染物
降解
脱色
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职称材料
紫外-催化氧化处理模拟印染废水
被引量:
2
2
作者
谢晓梅
钟声
《实验室研究与探索》
CAS
北大核心
2010年第6期27-29,共3页
利用自行研制的光化学反应器对含有直接黑G染料的模拟印染废水的光降解进行实验教学设计。实验中针对模拟印染废水的紫外-催化氧化降解效率的主要影响因素进行了研究,重点探讨了催化剂、紫外光强、反应体系酸度等因素。结果表明,紫外-...
利用自行研制的光化学反应器对含有直接黑G染料的模拟印染废水的光降解进行实验教学设计。实验中针对模拟印染废水的紫外-催化氧化降解效率的主要影响因素进行了研究,重点探讨了催化剂、紫外光强、反应体系酸度等因素。结果表明,紫外-催化氧化技术可以有效降解模拟印染废水中的直接黑G,且降解效率与反应体系加入H2O2、紫外光强度、体系酸度密切相关。当反应体系中H2O2的浓度为0.138%时,其降解效率是未加H2O2的3.58倍;反应体系的紫外光强度越大,处理效果越好,其去除率与紫外光强度成正比;提高反应体系的酸度,有利于提高去除率。
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关键词
直接耐晒黑
g
UV/催化氧化
光强
印染废水
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职称材料
题名
光助Fenton试剂氧化降解染料直接耐晒黑G的研究
被引量:
7
1
作者
郑怀礼
刘宏
李方
黄玉明
机构
重庆大学化学化工学院
四川大学化学科学学院
西南师范大学化学化工学院
出处
《光谱学与光谱分析》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2006年第12期2360-2363,共4页
基金
重庆市自然科学基金重点项目(CSTC-2004BA7019-1)资助
文摘
文章研究了影响Fenton试剂氧化降解持久性有机污染物直接耐晒黑G的因素,如光源的选择、初始pH值、H2O2的用量、Fe2+的用量、阳离子交换树脂载体的引入等,通过研究确定了各因素的优化条件。研究结果表明:太阳光照能有效的促进直接耐晒黑G染料的降解脱色,大大缩短反应时间;引入阳离子交换树脂后,可增强Fenton氧化反应的活性,降解效果更好。
关键词
光助Fenton试剂
直接耐晒黑
g
持久性有机污染物
降解
脱色
Keywords
Photo-Fenton
rea
g
ent
direct
fast
light
black
g
Persistent
or
g
anic
pollutant
De
g
radation
Color
removal
分类号
O643 [理学—物理化学]
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职称材料
题名
紫外-催化氧化处理模拟印染废水
被引量:
2
2
作者
谢晓梅
钟声
机构
浙江大学环境与资源学院实验教学中心
出处
《实验室研究与探索》
CAS
北大核心
2010年第6期27-29,共3页
基金
浙江大学教学实验设备研制项目(25200670)
文摘
利用自行研制的光化学反应器对含有直接黑G染料的模拟印染废水的光降解进行实验教学设计。实验中针对模拟印染废水的紫外-催化氧化降解效率的主要影响因素进行了研究,重点探讨了催化剂、紫外光强、反应体系酸度等因素。结果表明,紫外-催化氧化技术可以有效降解模拟印染废水中的直接黑G,且降解效率与反应体系加入H2O2、紫外光强度、体系酸度密切相关。当反应体系中H2O2的浓度为0.138%时,其降解效率是未加H2O2的3.58倍;反应体系的紫外光强度越大,处理效果越好,其去除率与紫外光强度成正比;提高反应体系的酸度,有利于提高去除率。
关键词
直接耐晒黑
g
UV/催化氧化
光强
印染废水
Keywords
direct
fast
light
black
g
ultraviolet
photocatalytic
oxidation
luminous
intensity
dyein
g
wastewater
分类号
X703.1 [环境科学与工程—环境工程]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
光助Fenton试剂氧化降解染料直接耐晒黑G的研究
郑怀礼
刘宏
李方
黄玉明
《光谱学与光谱分析》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2006
7
下载PDF
职称材料
2
紫外-催化氧化处理模拟印染废水
谢晓梅
钟声
《实验室研究与探索》
CAS
北大核心
2010
2
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职称材料
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