期刊导航
期刊开放获取
cqvip
退出
期刊文献
+
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
检索
高级检索
期刊导航
共找到
1
篇文章
<
1
>
每页显示
20
50
100
已选择
0
条
导出题录
引用分析
参考文献
引证文献
统计分析
检索结果
已选文献
显示方式：
文摘
详细
列表
相关度排序
被引量排序
时效性排序
磁控溅射法制备CrTiAlCN镀层中主要元素的化学态
被引量：
3
1
作者
胡鹏飞
蒋百灵
李洪涛
《金属热处理》
CAS
CSCD
北大核心
2011年第2期41-44,共4页
采用闭合场非平衡磁控溅射离子镀技术在单晶硅(111)衬底上沉积了CrTiAlCN镀层,研究了不同C靶电流CrTiAlCN物相组成,并分析了镀层中主要元素的化学态。X射线衍射分析表明,当C靶电流IC从0增大到2.4 A时,镀层由晶态向非晶态转变;X射线光电...
采用闭合场非平衡磁控溅射离子镀技术在单晶硅(111)衬底上沉积了CrTiAlCN镀层,研究了不同C靶电流CrTiAlCN物相组成,并分析了镀层中主要元素的化学态。X射线衍射分析表明,当C靶电流IC从0增大到2.4 A时,镀层由晶态向非晶态转变;X射线光电子能谱分析表明,碳元素主要以C-C、C-Cr和C-Ti键形式存在;N元素是主要以CrN、Cr2N和TiN的形式存在;Cr元素主要以CrN、Cr2N及CrCx的形式存在。
展开更多
关键词
磁控溅射
crtialcn
镀层
X射线衍射
X射线光电子能谱
碳键
原文传递
题名
磁控溅射法制备CrTiAlCN镀层中主要元素的化学态
被引量：
3
1
作者
胡鹏飞
蒋百灵
李洪涛
机构
西安理工大学材料科学与工程学院
出处
《金属热处理》
CAS
CSCD
北大核心
2011年第2期41-44,共4页
基金
国家"863"科技攻关项目(2005AA33H010)
文摘
采用闭合场非平衡磁控溅射离子镀技术在单晶硅(111)衬底上沉积了CrTiAlCN镀层,研究了不同C靶电流CrTiAlCN物相组成,并分析了镀层中主要元素的化学态。X射线衍射分析表明,当C靶电流IC从0增大到2.4 A时,镀层由晶态向非晶态转变;X射线光电子能谱分析表明,碳元素主要以C-C、C-Cr和C-Ti键形式存在;N元素是主要以CrN、Cr2N和TiN的形式存在;Cr元素主要以CrN、Cr2N及CrCx的形式存在。
关键词
磁控溅射
crtialcn
镀层
X射线衍射
X射线光电子能谱
碳键
Keywords
magnetron
sputtering
crtialcn
coating
XRD
XPS
carbon
bond
分类号
TG178 [金属学及工艺—金属表面处理]
原文传递
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
磁控溅射法制备CrTiAlCN镀层中主要元素的化学态
胡鹏飞
蒋百灵
李洪涛
《金属热处理》
CAS
CSCD
北大核心
2011
3
原文传递
已选择
0
条
导出题录
引用分析
参考文献
引证文献
统计分析
检索结果
已选文献
上一页
1
下一页
到第
页
确定
用户登录
登录
IP登录
使用帮助
返回顶部
