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误差扩散法编码设计制作微光学元件
被引量:
1
1
作者
刘倩
张怡霄
+3 位作者
郭永康
刘波
温圣林
唐雄贵
《光电工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2006年第6期106-110,共5页
以发展微光学元件制作新方法为目标,提出利用误差扩散编码方法设计灰阶编码掩模制作微光学元件。此方法同其他编码方法相比,具有量化效果好、衍射效率高、制作文件小、计算速度快、通用性好等优点。用此方法对制作微透镜的掩模进行了设...
以发展微光学元件制作新方法为目标,提出利用误差扩散编码方法设计灰阶编码掩模制作微光学元件。此方法同其他编码方法相比,具有量化效果好、衍射效率高、制作文件小、计算速度快、通用性好等优点。用此方法对制作微透镜的掩模进行了设计,利用预校正法和边缘增强法相结合的方法对掩模进行了优化,并对曝光、显影过程进行了模拟,得到了满意的结果。
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关键词
微光学
灰阶编码掩模
误差扩散法
边缘增强法
微透镜
下载PDF
职称材料
编码灰阶掩模酶蚀明胶法制作折射微透镜阵列
被引量:
2
2
作者
姚军
粟敬钦
+5 位作者
高福华
高峰
郭永康
杜春雷
曾红军
丘传凯
《中国激光》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2001年第7期633-636,共4页
提出一种以重铬酸铵明胶作为记录材料 ,用编码灰阶掩模曝光 ,蛋白酶溶液作为显影剂制作折射型微透镜阵列的新方法。
关键词
微光学元件
折射微透镜
编码灰阶掩模
重铬酸盐明胶
蛋白酶溶液
原文传递
用灰阶编码掩模进行邻近效应校正的实验研究
3
作者
杜惊雷
粟敬钦
+2 位作者
张怡霄
郭永康
崔铮
《微细加工技术》
EI
2000年第2期39-44,共6页
利用灰阶编码掩模实现光学邻近效应精细校正是改善光刻图形质量的有效方法 ,设计并利用电子束直写系统加工了用于实现邻近效应校正的灰阶编码掩模 ,首次在投影光刻系统上用这一方法实现了光学邻近效应校正 ,获得了满意的实验结果 ,在可...
利用灰阶编码掩模实现光学邻近效应精细校正是改善光刻图形质量的有效方法 ,设计并利用电子束直写系统加工了用于实现邻近效应校正的灰阶编码掩模 ,首次在投影光刻系统上用这一方法实现了光学邻近效应校正 ,获得了满意的实验结果 ,在可加工 0 7微米的I线曝光装置上获得了经邻近效应校正的 0 5微米光刻线条。
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关键词
灰阶编码掩模
光学邻近效应校正
光学光刻
下载PDF
职称材料
题名
误差扩散法编码设计制作微光学元件
被引量:
1
1
作者
刘倩
张怡霄
郭永康
刘波
温圣林
唐雄贵
机构
四川大学物理学院
出处
《光电工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2006年第6期106-110,共5页
基金
国家自然科学基金-中物院联合基金资助项目(10376019)
文摘
以发展微光学元件制作新方法为目标,提出利用误差扩散编码方法设计灰阶编码掩模制作微光学元件。此方法同其他编码方法相比,具有量化效果好、衍射效率高、制作文件小、计算速度快、通用性好等优点。用此方法对制作微透镜的掩模进行了设计,利用预校正法和边缘增强法相结合的方法对掩模进行了优化,并对曝光、显影过程进行了模拟,得到了满意的结果。
关键词
微光学
灰阶编码掩模
误差扩散法
边缘增强法
微透镜
Keywords
Micro-optics
coding
gray
-
tone
mask
Error-diffusion
method
Edge-enhancement
Micro-lenses
分类号
O438 [机械工程—光学工程]
TN256 [理学—光学]
下载PDF
职称材料
题名
编码灰阶掩模酶蚀明胶法制作折射微透镜阵列
被引量:
2
2
作者
姚军
粟敬钦
高福华
高峰
郭永康
杜春雷
曾红军
丘传凯
机构
四川大学物理系
中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室
出处
《中国激光》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2001年第7期633-636,共4页
基金
中国科学院光电所微细加工光学技术重点实验室资助项目
文摘
提出一种以重铬酸铵明胶作为记录材料 ,用编码灰阶掩模曝光 ,蛋白酶溶液作为显影剂制作折射型微透镜阵列的新方法。
关键词
微光学元件
折射微透镜
编码灰阶掩模
重铬酸盐明胶
蛋白酶溶液
Keywords
micro
optics
element,
refractive
microlens,
coding
gray
tone
mask
,
bichromate
gelatine,
protein
enzyme
solution
分类号
TN16 [电子电信—物理电子学]
原文传递
题名
用灰阶编码掩模进行邻近效应校正的实验研究
3
作者
杜惊雷
粟敬钦
张怡霄
郭永康
崔铮
机构
四川大学物理系
英国卢瑟福国家实验室微结构中心
出处
《微细加工技术》
EI
2000年第2期39-44,共6页
基金
国家自然科学基金资助项目!(6 990 70 0 3)
文摘
利用灰阶编码掩模实现光学邻近效应精细校正是改善光刻图形质量的有效方法 ,设计并利用电子束直写系统加工了用于实现邻近效应校正的灰阶编码掩模 ,首次在投影光刻系统上用这一方法实现了光学邻近效应校正 ,获得了满意的实验结果 ,在可加工 0 7微米的I线曝光装置上获得了经邻近效应校正的 0 5微米光刻线条。
关键词
灰阶编码掩模
光学邻近效应校正
光学光刻
Keywords
coding
gray
tone
mask
,
OPC,
submicron
photolithography
分类号
TN405.7 [电子电信—微电子学与固体电子学]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
误差扩散法编码设计制作微光学元件
刘倩
张怡霄
郭永康
刘波
温圣林
唐雄贵
《光电工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2006
1
下载PDF
职称材料
2
编码灰阶掩模酶蚀明胶法制作折射微透镜阵列
姚军
粟敬钦
高福华
高峰
郭永康
杜春雷
曾红军
丘传凯
《中国激光》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2001
2
原文传递
3
用灰阶编码掩模进行邻近效应校正的实验研究
杜惊雷
粟敬钦
张怡霄
郭永康
崔铮
《微细加工技术》
EI
2000
0
下载PDF
职称材料
已选择
0
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引证文献
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