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题名气体泄漏监控系统中CAN总线研究
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作者
陈克力
杨坤明
余伟
李涛
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机构
西华大学数学与计算机学院
西华大学电气信息学院
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出处
《计算机时代》
2010年第9期38-39,42,共3页
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文摘
分析了变电站气体泄漏监控系统的整体结构。从CAN总线的硬件设计、Linux系统下CAN总线驱动程序、应用层通信协议等方面探讨了CAN总线的多路选择扩展方式,从实时性与可靠性等方面分析了CAN总线通信的性能。
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关键词
can总线
泄漏监控
can扩展
驱动程序
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Keywords
can bus
leak monitoring
can extended
driver
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分类号
TP393
[自动化与计算机技术—计算机应用技术]
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题名CAN报文填充位长度仿真研究
被引量：1
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作者
孙博
张丽波
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机构
吉林大学计算机科学与技术学院
中国第一汽车股份有限公司技术中心汽车电子部
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出处
《电子测试》
2017年第4X期75-78,共4页
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文摘
本文建立了CAN网络标准报文和扩展报文的报文填充位长度仿真模型,并通过该模型获得了CAN网络标准报文和扩展报文的填充位长度的分布律和数学期望。经对比分析得知:当报文长度相同时,CAN扩展报文的填充位长度大于CAN标准报文的填充位长度。该研究成果已成功应用于多款车型的CAN网络设计,用于预测各CAN网段的总线负载率,应用结果表明该仿真模型偏差<+/-0.5,仿真准确度较高,有效地提高了CAN网络开发的工作效率。
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关键词
can标准报文
can扩展报文
填充位长度
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Keywords
can standard message
can extended message
the stuff bit length.
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分类号
TP273
[自动化与计算机技术—检测技术与自动化装置]
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题名EPC模式下既有公共建筑绿色改造综合效益评价
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作者
周湛林
张哨军
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机构
武汉工程大学土木工程与建筑学院
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出处
《广东建材》
2024年第10期162-165,共4页
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基金
武汉工程大学第十五届研究生教育创新基金项目,项目编号:CX2023342。
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文摘
推进既有公共建筑绿色改造,是“十四五”建筑节能发展规划的重点任务。EPC模式的运用,有助于建筑绿色改造的发展。为了这类EPC项目能实现预期目标,还需对其综合效益进行评价。本文从经济、环境和社会三方面构建了综合效益评价指标体系,通过熵权法确定指标权重,结合改进的物元可拓法建立评价模型,运用模型进行了实例分析,评价结果与项目实际相符。
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关键词
EPC
既有建筑绿色改造
熵权法
物元可拓
效益评价
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Keywords
EPC
Green renovation of existing buildings
Entropy weight method
The matter element can be extended
Benefit evaluation
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分类号
TU201.5
[建筑科学—建筑设计及理论]
TU242
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题名表面等离子体无掩膜干涉光刻系统的数值分析(英文)
被引量：5
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作者
董启明
郭小伟
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机构
电子科技大学光电信息学院
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出处
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2012年第5期558-564,共7页
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基金
The National Natural Science Foundation of China(No.60906052)
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文摘
表面等离子体激元具有近场增强效应,可以代替光子作为曝光源形成纳米级特征尺寸的图像.本文数值分析了棱镜辅助表面等离子体干涉系统的参量空间,并给出了计算原理和方法.结果表明,适当地选择高折射率棱镜、低银层厚度、入射波长和光刻胶折射率,可以获得高曝光度、高对比度的干涉图像.入射波长为431nm时,选择40nm厚的银层,曝光深度可达200nm,条纹周期为110nm.数值分析结果为实验的安排提供了理论支持.
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关键词
干涉光刻
表面等离子体激元
克莱舒曼结构
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Keywords
Interference lithography
Surface plasmon plortiton
Kretschmann structureCLCN: TN305.7 Document Code:A Article ID:1004-4213(2012)05-0558-70 IntroductionThere is a growing interest in exploring new nanolithography techniques with high efficiency,low cost and large-area fabrication to fabricate nanoscale devices for nanotechnology applications.Conventional photolithography has remained a useful microfabrication technology because of its ease of repetition and suitability for large-area fabrication[1].The diffraction limit,however,restricts the fabrication scale of photolithography[2].Potential solutions that have actually been pursued require increasingly shorter illumination wavelengths for replicating smaller structures.It is becoming more difficult and complicated to use the short optical wavelengths to reach the desired feature sizes.Other methods such as electron beam lithography[3],ion beam lithography[4],scanning probe lithography[5],nanoimprint lithography(NIL)[6],and evanescent near-field optical lithography(ENFOL)[7] have been developed in order to achieve nanometer-scale features.As we know,the former three techniques need scanning and accordingly are highly inefficient.In NIL,the leveling of the imprint template and the substrate during the printing process,which determines the uniformity of the imprint result,is a challenging issue of this method.ENFOL have the potential to produce subwavelength structures with high efficiency,but it encounters the fact that the evanescent field decays rapidly through the aperture,thus attenuating the transmission intensity at the exit plane and limiting the exposure distance to the scale of a few tens of nanometers from the mask.In recent years,the use of surface-plasmon polaritons(SPPs) instead of photons as an exposure source was rapidly developed to fabricate nanoscale structures.SPPs are characterized by its near field enhancement so that SPP-based lithography can greatly extend exposure depth and improve pattern contrast.Grating-assisted SPP interference,such as S
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分类号
TN305.7
[电子电信—物理电子学]
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