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低温基区轻掺杂硅双极晶体管的温度比例因子设计规则
1
作者
韩奇
沈克强
魏同立
《固体电子学研究与进展》
CAS
CSCD
北大核心
1997年第4期351-359,共9页
通过对电流增益温度模型的分析,表明发射区重掺杂引起的禁带变窄效应是低温下双极晶体管电流增益衰变的主要原因,提出了用温度比例因子设计低温基区轻掺杂双极晶体管的新设计方法,计算机模拟表明结果良好。
关键词
基区轻掺杂
硅
温度比例因子
双极晶体管
下载PDF
职称材料
题名
低温基区轻掺杂硅双极晶体管的温度比例因子设计规则
1
作者
韩奇
沈克强
魏同立
机构
东南大学微电子中心
出处
《固体电子学研究与进展》
CAS
CSCD
北大核心
1997年第4期351-359,共9页
文摘
通过对电流增益温度模型的分析,表明发射区重掺杂引起的禁带变窄效应是低温下双极晶体管电流增益衰变的主要原因,提出了用温度比例因子设计低温基区轻掺杂双极晶体管的新设计方法,计算机模拟表明结果良好。
关键词
基区轻掺杂
硅
温度比例因子
双极晶体管
Keywords
Low
Temperature
Lightly
Doped
Base
Temperature-scaling
Factor
bandgap
shrinkage
分类号
TN322.8 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
低温基区轻掺杂硅双极晶体管的温度比例因子设计规则
韩奇
沈克强
魏同立
《固体电子学研究与进展》
CAS
CSCD
北大核心
1997
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