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PVT法AlN单晶生长技术研究进展及其面临挑战 被引量:12
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作者 付丹扬 龚建超 +3 位作者 雷丹 黄嘉丽 王琦琨 吴亮 《人工晶体学报》 EI CAS 北大核心 2020年第7期1141-1156,共16页
氮化铝(AlN)具有超宽禁带宽度(6.2 eV)、高热导率(340 W/(m·℃))、高击穿场强(11.7 MV/cm)、良好的紫外透过率、高化学和热稳定性等优异性能,是氮化镓基(GaN)高温、高频、高功率电子器件以及高Al组分深紫外光电器件的理想衬底材料... 氮化铝(AlN)具有超宽禁带宽度(6.2 eV)、高热导率(340 W/(m·℃))、高击穿场强(11.7 MV/cm)、良好的紫外透过率、高化学和热稳定性等优异性能,是氮化镓基(GaN)高温、高频、高功率电子器件以及高Al组分深紫外光电器件的理想衬底材料。物理气相传输(PVT)法是制备大尺寸高质量AlN单晶最有前途的方法。本文介绍了AlN单晶的晶体结构、基本性质及PVT法生长AlN晶体的原理与生长习性。基于AlN单晶PVT生长策略,综述了自发形核工艺、同质外延工艺及异质外延工艺的研究历程,各生长策略的优缺点及其最新进展。最后对PVT法生长AlN单晶的发展趋势及其面临的挑战进行了简要展望。 展开更多
关键词 aln单晶 PVT 自发形核生长 同质外延生长 异质外延生长
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Raman tensor of AlN bulk single crystal 被引量:10
2
作者 Wei Zheng Ruisheng Zheng +2 位作者 Feng Huang Honglei Wu Fadi Li 《Photonics Research》 SCIE EI 2015年第2期38-43,共6页
The angle dependence of optical phonon modes of an AlN bulk single crystal from the m-plane(1100) and c-plane(0001) surfaces, respectively, is investigated by polarized Raman spectroscopy in a backscattering confi... The angle dependence of optical phonon modes of an AlN bulk single crystal from the m-plane(1100) and c-plane(0001) surfaces, respectively, is investigated by polarized Raman spectroscopy in a backscattering configuration at room temperature. Corresponding Raman selection rules are derived according to measured scattering geometries to illustrate the angle dependence. The angle-dependent intensities of phonon modes are discussed and compared to theoretical scattering intensities, yielding the Raman tensor elements of A1(TO), E22, E1(TO), and A1(LO) phonon modes and the relative phase difference between the two complex elements of A1(TO). Furthermore, the Raman tensor of wurtzite AlN is compared with that of wurtzite ZnO reported in previous work, revealing the intrinsic differences of lattice vibration dynamics between AlN and ZnO. 展开更多
关键词 MODE Raman tensor of aln bulk single crystal aln
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升华法生长AlN体单晶初探 被引量:9
3
作者 赵有文 董志远 +2 位作者 魏学成 段满龙 李晋闽 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第7期1241-1245,共5页
研究了高温升华法(PVT)生长AlN体单晶的技术和材料的性质.使用陶瓷BN坩埚,加热温度约在1900℃左右,生长结果为AlN晶须或致密多晶,难以生长出较大的AlN晶粒.用钨坩埚加热生长温度达到2200℃左右时,在AlN陶瓷片和6H-SiC片上生长了直径22mm... 研究了高温升华法(PVT)生长AlN体单晶的技术和材料的性质.使用陶瓷BN坩埚,加热温度约在1900℃左右,生长结果为AlN晶须或致密多晶,难以生长出较大的AlN晶粒.用钨坩埚加热生长温度达到2200℃左右时,在AlN陶瓷片和6H-SiC片上生长了直径22mm的AlN晶体,最大的晶粒尺寸长10mm、直径5mm.利用X射线粉末衍射分析了几种不同AlN样品的结构和组成.讨论了PVT法生长AlN晶体所涉及的化学热力学过程和现象. 展开更多
关键词 氮化铝 晶体 升华法
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用于晶体生长的氮化铝保温材料的研究 被引量:8
4
作者 武红磊 郑瑞生 孟姝 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第3期761-766,共6页
在不添加任何添加剂的情况下,采用氮化铝粉体作高温气相法生长氮化铝晶体的保温材料。实验结果表明:氮化铝保温材料具有耐高温、对钨坩埚材料没有损伤、使用寿命长、不易在晶体中引入杂质等优点,是一种优良的高温保温材料。与目前常用... 在不添加任何添加剂的情况下,采用氮化铝粉体作高温气相法生长氮化铝晶体的保温材料。实验结果表明:氮化铝保温材料具有耐高温、对钨坩埚材料没有损伤、使用寿命长、不易在晶体中引入杂质等优点,是一种优良的高温保温材料。与目前常用的石墨保温材料相比较,氮化铝存在热导率相对较高、在高温过程中会少量升华污染炉腔等缺点,在使用中要采取一定的对策,以消除其不利影响。 展开更多
关键词 氮化铝 石墨 晶体 保温
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原料颗粒度对AlN晶体生长的影响
5
作者 俞瑞仙 王国栋 +4 位作者 王守志 曹文豪 胡小波 徐现刚 张雷 《人工晶体学报》 北大核心 2024年第1期58-64,共7页
本文通过对氮化铝(AlN)粉末进行烧结,制备了AlN晶体生长用的多晶颗粒料,测试发现,与粉末原料相比,多晶颗粒料的杂质显著降低。利用数值模拟软件研究了不同原料孔隙率对晶体生长的影响,分析了相同晶体生长工艺条件下原料内部温场的分布... 本文通过对氮化铝(AlN)粉末进行烧结,制备了AlN晶体生长用的多晶颗粒料,测试发现,与粉末原料相比,多晶颗粒料的杂质显著降低。利用数值模拟软件研究了不同原料孔隙率对晶体生长的影响,分析了相同晶体生长工艺条件下原料内部温场的分布情况。使用不同颗粒度的原料进行了AlN晶体生长,发现最适合AlN晶体生长的温度梯度和原料颗粒度。最后用颗粒度为1~3 mm的多晶颗粒料进行晶体生长,生长出直径为1英寸、厚度为15 mm的AlN晶体。对晶体进行切割、研磨、抛光,得到1英寸AlN晶片。采用高分辨率X射线衍射(HRXRD)和拉曼光谱对晶片进行表征。结果发现HRXRD摇摆曲线半峰全宽(FWHM)为154.66″,E_(2)(high)声子模的峰位置和FWHM分别为656.7和4.3 cm^(-1),表明该AlN晶体结晶质量良好。 展开更多
关键词 aln晶体 多晶颗粒料 孔隙率 VR-PVT 温场 杂质
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PVT法AlN晶体生长模式调控研究
6
作者 覃佐燕 金雷 +3 位作者 李文良 谭俊 何广泽 武红磊 《人工晶体学报》 CAS 北大核心 2024年第9期1542-1549,共8页
物理气相传输(PVT)法制备AlN晶体时,亚晶的产生会降低晶体质量,甚至多晶化。本文通过调节热/动力学生长条件,研究AlN晶体中亚晶产生及变化规律,提出抑制方法调控生长模式。实验结果表明,大的温度波动导致晶体表面气相物质过饱和度波动变... 物理气相传输(PVT)法制备AlN晶体时,亚晶的产生会降低晶体质量,甚至多晶化。本文通过调节热/动力学生长条件,研究AlN晶体中亚晶产生及变化规律,提出抑制方法调控生长模式。实验结果表明,大的温度波动导致晶体表面气相物质过饱和度波动变大,增加高指数晶面的形成概率,这些晶面因非一致性难以实现完美聚并。本文还研究了稳定温场条件下,气相物质输运对生长模式的影响。实验及模拟结果显示,传统坩埚内气相物质由晶体边缘向中心迁移,与台阶方向相反,晶体表面易演变成混合生长模式。通过设计的新型坩埚,实现气相物质顺台阶流方向迁移,满足层状可控生长的基本条件。在2 200~2 300℃下,随温度降低,晶体呈c轴优势生长,侧向扩展能力降低;随温度升高,侧向扩展能力变强,但晶体表面高指数晶面形成概率增加;温度约2 250℃时,两者达到平衡,适合亚晶的抑制和消除。结合BCF理论分析,降低过饱和度可增强螺旋位错驱动生长的二维平铺能力,并增大台阶宽度,有利于将亚晶界分散融入台阶流中。优化后的实验,促进了生长模式向螺旋位错驱动生长模式的转变,亚晶逐渐被湮灭,获得高质量AlN晶体,其(0002)面的X射线单晶摇摆曲线半峰全宽为58″,拉曼谱的E_2(High)半峰全宽为3.3 cm^(-1),位错密度为2.87×10^(3) cm^(-2)。 展开更多
关键词 aln晶体 PVT法 亚晶 混合生长模式 螺旋位错驱动生长
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高温退火对AlN外延材料晶体质量的影响
7
作者 罗伟科 王翼 +5 位作者 李亮 李传皓 张东国 杨乾坤 彭大青 李忠辉 《固体电子学研究与进展》 CAS 2024年第2期167-172,共6页
采用高温退火技术改善金属有机物化学气相沉积AlN薄膜材料晶体质量。研究发现较低的生长温度下,Al原子迁移能力弱,外延呈岛状生长模式,形成大量的柱状晶粒,晶粒倾斜、扭曲,晶格原子排列混乱,存在大量的位错和层错缺陷;高温退火时晶格发... 采用高温退火技术改善金属有机物化学气相沉积AlN薄膜材料晶体质量。研究发现较低的生长温度下,Al原子迁移能力弱,外延呈岛状生长模式,形成大量的柱状晶粒,晶粒倾斜、扭曲,晶格原子排列混乱,存在大量的位错和层错缺陷;高温退火时晶格发生重构,晶粒合并,位错和层错缺陷减少,晶格排列整齐,晶体质量得到提升。通过优化生长温度和退火温度,获得了高质量的200 nm厚AlN模板,其(002)和(102)面的X射线双晶衍射摇摆曲线半高宽分别为107 arcsec和257 arcsec,位错密度比退火前降低了2~3个数量级。 展开更多
关键词 高温退火 氮化铝 晶体质量 金属有机物化学气相沉积
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透射电子显微术和高分辨X射线衍射技术研究AlN单晶生长习性 被引量:5
8
作者 李娟 胡小波 +2 位作者 高玉强 王翎 徐现刚 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第5期1117-1120,共4页
采用透射电子显微术和高分辨X射线衍射技术对氮化硼坩埚中自发成核的AlN单晶生长习性进行了研究。结果表明,在低温下,AlN单晶显露面为(0001)面,随着温度的升高,AlN单晶显露面转化为(112-0)面。沟槽结构是高温下得到的AlN单晶共有的显著... 采用透射电子显微术和高分辨X射线衍射技术对氮化硼坩埚中自发成核的AlN单晶生长习性进行了研究。结果表明,在低温下,AlN单晶显露面为(0001)面,随着温度的升高,AlN单晶显露面转化为(112-0)面。沟槽结构是高温下得到的AlN单晶共有的显著特征,其取向沿[0001]方向。 展开更多
关键词 透射电子显微术 高分辨X射线衍射仪 aln单晶
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升华法制备m面非极性AlN单晶体的研究 被引量:5
9
作者 武红磊 郑瑞生 +1 位作者 李萌萌 闫征 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第6期1534-1537,共4页
AlN晶体在c轴方向具有很强的自发和压电极化效应,影响了其器件的性能。生长高质量的非极性面AlN晶体材料是解决该问题的有效途径。本研究结合AlN晶体沿c轴择优生长的特点,使用自行设计的双区电阻加热生长装置,升华制备出尺寸为厘米级m... AlN晶体在c轴方向具有很强的自发和压电极化效应,影响了其器件的性能。生长高质量的非极性面AlN晶体材料是解决该问题的有效途径。本研究结合AlN晶体沿c轴择优生长的特点,使用自行设计的双区电阻加热生长装置,升华制备出尺寸为厘米级m面非极性AlN单晶体,并利用X射线衍射和能谱对样品进行测试分析。实验结果表明AlN单晶体的方向为(100),铝和氮原子比例为50.3%和49.7%,接近理想比例1∶1。最后,对m面非极性AlN单晶体的形成机理进行探讨。 展开更多
关键词 升华 非极化 aln晶体 m面
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高温退火对PVT法生长的AlN晶体质量的影响
10
作者 俞瑞仙 王国栋 +3 位作者 王守志 胡小波 徐现刚 张雷 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2023年第3期343-349,共7页
在PVT法生长AlN晶体的过程中,很难保持理想的热力学平衡状态,不可避免地会产生晶体缺陷。高温退火技术对提高晶体完整性十分有效,受到了广泛关注。本工作在N2气氛环境下对PVT法生长的AlN晶片进行高温退火研究。为了评价退火前后AlN晶体... 在PVT法生长AlN晶体的过程中,很难保持理想的热力学平衡状态,不可避免地会产生晶体缺陷。高温退火技术对提高晶体完整性十分有效,受到了广泛关注。本工作在N2气氛环境下对PVT法生长的AlN晶片进行高温退火研究。为了评价退火前后AlN晶体的质量和结构变化情况,进行了高分辨率X射线衍射(HRXRD)和拉曼光谱分析。通过室温光致发光(PL)和吸收光谱对AlN晶体的光学性质以及与杂质相关的带隙变化情况进行了表征。在1400~1800℃退火后,AlN晶体质量显著提高。1400℃退火后,(10-12)晶面的X射线摇摆曲线的半峰宽(FWHM)从104.04 arcsec减小到79.92 arcsec。随着退火温度升高,吸收性能明显增强,带隙增大,说明高温退火处理有利于提高AlN晶体的质量。二次离子质谱(SIMS)结果表明,退火过程降低了C杂质,增加了AlN晶体的带隙,这与光吸收结果一致。 展开更多
关键词 高温退火技术 aln晶体 C杂质 带隙
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石墨烯上外延GaN薄膜的取向演变研究 被引量:3
11
作者 周浩 徐俞 +2 位作者 曹冰 徐科 王钦华 《人工晶体学报》 EI CAS 北大核心 2020年第5期794-798,共5页
本文研究了在石墨烯上生长GaN薄膜时晶体取向的变化。采用AlN成核层辅助生长,GaN由取向相差较大的小晶粒,逐渐合并为与石墨烯取向一致的晶粒,最终形成了约4.6μm厚的GaN薄膜。通过EBSD和XRD证实了GaN晶体取向一致性的提高,拉曼光谱也表... 本文研究了在石墨烯上生长GaN薄膜时晶体取向的变化。采用AlN成核层辅助生长,GaN由取向相差较大的小晶粒,逐渐合并为与石墨烯取向一致的晶粒,最终形成了约4.6μm厚的GaN薄膜。通过EBSD和XRD证实了GaN晶体取向一致性的提高,拉曼光谱也表明GaN晶体的高质量。 展开更多
关键词 GAN 石墨烯 aln 晶体取向
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AlN单晶生长行为研究 被引量:2
12
作者 程红娟 金雷 +4 位作者 武红磊 齐海涛 王增华 史月曾 张丽 《人工晶体学报》 EI CAS 北大核心 2020年第11期2200-2205,共6页
本文采用物理气相传输法对不同衬底温度和温差下制备的氮化铝(AlN)晶体形貌进行研究,研究结果表明AlN晶体生长受到AlN晶面表面能、Al基元平均动能和AlN晶体表面极性的共同影响。当温差为60℃时,AlN晶体(0001)面生长速率小于(10-10)面,Al... 本文采用物理气相传输法对不同衬底温度和温差下制备的氮化铝(AlN)晶体形貌进行研究,研究结果表明AlN晶体生长受到AlN晶面表面能、Al基元平均动能和AlN晶体表面极性的共同影响。当温差为60℃时,AlN晶体(0001)面生长速率小于(10-10)面,AlN以带状形式生长。将该工艺应用于AlN同质生长中,研究结果表明:温差为60℃时AlN晶体(0001)面呈现畴生长模式,该晶体质量最差;温差为35℃时AlN晶体(0001)面呈现台阶流生长模式,该晶体质量最优;温差为20℃时AlN晶体(0001)面呈现台阶簇生长模式,该晶体容易开裂。通过工艺优化最终获得了直径为40 mm AlN单晶衬底,完全满足器件制备需求。 展开更多
关键词 物理气相传输 表面形貌 台阶流 aln晶体 同质生长
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不同颜色AlN单晶缺陷研究 被引量:3
13
作者 徐永宽 金雷 +3 位作者 程红娟 史月增 张丽 齐海涛 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2018年第7期1340-1345,共6页
通过物理气相传输(PVT)法在石墨系统中制备了绿色、无色和琥珀色氮化铝(Al N)单晶,在金属系统中制备了琥珀色Al N单晶。晶体中杂质含量测试结果表明石墨系统中琥珀色的Al N晶体比绿色和无色Al N晶体C、Si杂质含量低1~2个数量级,金属系... 通过物理气相传输(PVT)法在石墨系统中制备了绿色、无色和琥珀色氮化铝(Al N)单晶,在金属系统中制备了琥珀色Al N单晶。晶体中杂质含量测试结果表明石墨系统中琥珀色的Al N晶体比绿色和无色Al N晶体C、Si杂质含量低1~2个数量级,金属系统中琥珀色Al N晶体杂质含量最低,C、Si、O元素含量均在1018cm-3级别。Al N晶体的吸收图谱和光致发光图谱的分析结果表明,Al N晶体存在着位于4.7 e V、3.5 e V、2.8 e V、1.85 e V的4个吸收峰,其中4.7 e V和3.5 e V的吸收峰导致了Al N吸收截止边的红移,该吸收峰分别源于碳占氮位(CN)的点缺陷和VAl与O杂质的复合缺陷,2.80 e V的吸收峰导致了Al N晶体的琥珀色,该吸收峰是C元素和O元素共同导致的,1.85 e V的吸收峰导致了Al N晶体的绿色,该吸收峰是Si元素和C元素导致的。 展开更多
关键词 物理气相传输 杂质含量 缺陷 aln晶体
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湘钢ML40Cr钢线材表面混晶原因分析及控制 被引量:2
14
作者 徐晓文 刘亮 《山东冶金》 CAS 2019年第6期24-25,共2页
湘钢生产的ML40CrQ-1成品盘条奥氏体晶粒度难以满足客户需求,通过对成品盘条进行奥氏体晶粒度检测,确认ML40Cr成品盘条近表面部分区域存在混晶现象,混晶现象是由于钢中AlN分布不均匀造成。将钢中Al含量适当调低,控制初轧的终轧温度,提... 湘钢生产的ML40CrQ-1成品盘条奥氏体晶粒度难以满足客户需求,通过对成品盘条进行奥氏体晶粒度检测,确认ML40Cr成品盘条近表面部分区域存在混晶现象,混晶现象是由于钢中AlN分布不均匀造成。将钢中Al含量适当调低,控制初轧的终轧温度,提高钢轧加热温度和吐丝温度,有利于后期AlN均匀析出,减轻混晶现象。 展开更多
关键词 ML40Cr钢 混晶现象 奥氏体晶粒 aln分布 温度
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气相传输法生长超长AlN晶须 被引量:1
15
作者 齐海涛 张丽 +2 位作者 洪颖 史月增 郝建民 《硅酸盐通报》 CAS CSCD 北大核心 2014年第4期816-820,共5页
研究了SiC上AlN晶须的气相生长技术。通过对生长温度和压力的调控,获得了六方柱状、台梯状和条带状三种形貌的AlN晶须。柱状晶须长度可达35 mm,直径1μm左右。通过扫描电镜和XRD分析,探讨了AlN晶须形态、结晶取向和生长条件之间的关系... 研究了SiC上AlN晶须的气相生长技术。通过对生长温度和压力的调控,获得了六方柱状、台梯状和条带状三种形貌的AlN晶须。柱状晶须长度可达35 mm,直径1μm左右。通过扫描电镜和XRD分析,探讨了AlN晶须形态、结晶取向和生长条件之间的关系。低温、低压、较高饱和度条件下,AlN晶须沿[0001]方向生长,发育为六方细柱。随着生长温度提高,AlN晶须的优先生长面转向{11-02}面,形貌变为笔直的台梯状。继续增加压力,{101-0}面成为优先生长面,晶须呈现卷曲的条带状。 展开更多
关键词 aln 晶须 物理气相传输法 晶体形态
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Morphology and crystalline property of an AlN single crystal grown on AlN seed 被引量:2
16
作者 Li Zhang Haitao Qi +3 位作者 Hongjuan Cheng Yuezeng Shi Zhanpin Lai Muchang Luo 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 2021年第5期64-69,共6页
AlN single crystal grown by physical vapor transport (PVT) using homogeneous seed is considered as the most promising approach to obtain high-quality AlN boule.In this work,the morphology of AlN single crystals grown ... AlN single crystal grown by physical vapor transport (PVT) using homogeneous seed is considered as the most promising approach to obtain high-quality AlN boule.In this work,the morphology of AlN single crystals grown under different modes (3D islands and single spiral center) were investigated.It is proved that,within an optimized thermal distribution chamber system,the surface temperature of AlN seed plays an important role in crystal growth,revealing a direct relationship between growth mode and growth condition.Notably,a high-quality AlN crystal,with (002) and (102) reflection peaks of 65and 36 arcsec at full width at half maximum (FWHM),was obtained grown under a single spiral center mode.And on which,a high-quality Al_x Ga_(1–x) N epitaxial layer with high Al content (x=0.54) was also obtained.The FWHMs of (002) and (102) reflection of Al_x Ga_(1–x) N were 202 and 496 arcsec,respectively,which shows superiority over their counterpart grown on SiC or a sapphire substrate. 展开更多
关键词 aln crystal surface morphology growth mechanism crystalline quality
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升华法生长氮化铝晶体的热场分析 被引量:2
17
作者 武红磊 郑瑞生 +3 位作者 李萌萌 闫征 郑伟 徐百胜 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第11期2275-2279,共5页
本文使用有限元法模拟氮化铝晶体生长系统的温度场,分析了坩埚的位置、感应线圈的匝间距以及原料与晶体之间的距离对温度场分布的影响。结果表明:坩埚位置主要影响系统中最高温度的位置及温度梯度的大小;原料与结晶体之间的距离仅对温... 本文使用有限元法模拟氮化铝晶体生长系统的温度场,分析了坩埚的位置、感应线圈的匝间距以及原料与晶体之间的距离对温度场分布的影响。结果表明:坩埚位置主要影响系统中最高温度的位置及温度梯度的大小;原料与结晶体之间的距离仅对温度梯度有影响;感应线圈的匝间距则影响加热效率的高低。通过合理优化以上三个条件,可以获得适宜于高品质氮化铝晶体快速制备的理想热场。 展开更多
关键词 升华 温度场 氮化铝晶体 有限元
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基于MOCVD高/低温调制生长AlN模板材料方法 被引量:1
18
作者 龙长林 陈峰武 陈洪 《电子工艺技术》 2021年第4期232-235,共4页
宽禁带半导体紫外光电器件和功率半导体器件的发展对AlN材料和高Al组分AlGaN材料有着迫切的需求。由于缺乏大尺寸AlN同质衬底,基于异质外延生长的AlN模板材料成为了宽禁带半导体器件制造的最佳选择。但是,由于Al原子表面迁移能力较差,Al... 宽禁带半导体紫外光电器件和功率半导体器件的发展对AlN材料和高Al组分AlGaN材料有着迫切的需求。由于缺乏大尺寸AlN同质衬底,基于异质外延生长的AlN模板材料成为了宽禁带半导体器件制造的最佳选择。但是,由于Al原子表面迁移能力较差,AlN外延材料表面易呈现岛状生长模式,导致AlN模板材料的晶体质量和表面质量较差,严重影响了宽禁带半导体器件的实用化进程。基于自主研制的高温MOCVD设备,采用多周期高/低温调制生长技术,制备出了厚度达2μm的AlN模板材料。测试结果显示:(002)和(102)X-ray摇摆曲线半高宽分别为71arcsec和632arcsec,表面粗糙度RMS(5μm×5μm)达0.39 nm,101.6 mm晶圆膜厚均匀性为2.13%。研究表明基于国产装备生长的AlN模板材料具备较为优异的质量,可为我国新一代半导体产业发展提供有力的支撑。 展开更多
关键词 aln 高温MOCVD 晶体质量 表面质量
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溅射气压对蓝宝石基ScAlN薄膜的影响 被引量:1
19
作者 张瑶 朱伟欣 +3 位作者 周冬 杨翼晞 唐佳琳 杨成韬 《压电与声光》 CSCD 北大核心 2015年第4期693-696,共4页
采用直流磁控溅射在(0001)蓝宝石基片上制备Sc掺杂AlN(ScAlN)薄膜,所用靶材是ScAl合金靶(Sc0.06Al0.94)。通过X线衍射(XRD)和原子力显微镜(AFM)测量其结晶取向和表面形貌,通过压电响应显微镜(PFM)测量其压电性能。结果表明,溅射气压是... 采用直流磁控溅射在(0001)蓝宝石基片上制备Sc掺杂AlN(ScAlN)薄膜,所用靶材是ScAl合金靶(Sc0.06Al0.94)。通过X线衍射(XRD)和原子力显微镜(AFM)测量其结晶取向和表面形貌,通过压电响应显微镜(PFM)测量其压电性能。结果表明,溅射气压是影响薄膜结晶质量和压电性能的重要因素。随着气压从0.3Pa增加到0.7Pa,薄膜的结晶质量和表面形貌会先变好后变差,薄膜的压电常数也有相似的变化规律。最后,当溅射气压为0.5Pa时获得了高度c轴取向的ScAlN薄膜,薄膜的摇摆曲线半高宽(FWHM)为2.6°,表面粗糙度(RMS)为2.650nm,压电常数为8.1pC/N。 展开更多
关键词 aln薄膜 蓝宝石 晶体结构 表面形貌 压电材料
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高温MOCVD外延生长AlN材料研究 被引量:1
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作者 程文进 巩小亮 +2 位作者 陈峰武 彭立波 魏唯 《电子工业专用设备》 2017年第4期43-49,共7页
采用自主研制的量产型高温MOCVD设备进行AlN的外延生长,重点研究高温生长对于Al N质量的提升,以及Al N生长速率的控制规律。结果表明:生长温度的提高对于Al N晶体质量的提升和表面粗糙度的减小有着重要影响,而Al N的生长速率受到温度、... 采用自主研制的量产型高温MOCVD设备进行AlN的外延生长,重点研究高温生长对于Al N质量的提升,以及Al N生长速率的控制规律。结果表明:生长温度的提高对于Al N晶体质量的提升和表面粗糙度的减小有着重要影响,而Al N的生长速率受到温度、反应室压力和载气比例的综合影响;经过工艺优化后的Al N外延材料(002)面和(102)面X射线摇摆曲线半高宽分别达到80 arcsec和775 arcsec,表明高温MOCVD生长技术可以实现量产化高质量AlN外延材料的制备。 展开更多
关键词 aln 高温MOCVD 晶体质量 生长速率
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