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γ-巯丙基三甲氧基硅烷对纳米二氧化硅表面接枝改性的研究 被引量:14
1
作者 李峰 李红强 +2 位作者 赖学军 吴文剑 曾幸荣 《无机盐工业》 CAS 北大核心 2014年第4期33-36,共4页
采用γ-巯丙基三甲氧基硅烷(KH590)对纳米二氧化硅表面进行接枝改性,研究KH590用量、反应时间和反应温度等对纳米二氧化硅相对接枝率和粒径的影响;采用红外光谱(FT-IR)和扫描电子显微镜(SEM)等手段对改性前后的纳米二氧化硅进行表征。... 采用γ-巯丙基三甲氧基硅烷(KH590)对纳米二氧化硅表面进行接枝改性,研究KH590用量、反应时间和反应温度等对纳米二氧化硅相对接枝率和粒径的影响;采用红外光谱(FT-IR)和扫描电子显微镜(SEM)等手段对改性前后的纳米二氧化硅进行表征。结果表明:KH590通过水解后与二氧化硅粒子表面的羟基发生反应,成功接枝到纳米二氧化硅表面;其最佳工艺条件为:KH590用量为二氧化硅质量的15%,反应温度为80℃,反应时间为10 h,其相对接枝率达到10.3%;与未改性纳米二氧化硅相比,其平均粒径明显变小,分散性及亲油性明显变好。 展开更多
关键词 纳米SIO2 γ-巯丙基三甲氧基硅烷 表面接枝改性
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3-巯丙基三甲氧基硅烷自组装膜的制备及其摩擦学性能 被引量:9
2
作者 白涛 程先华 《上海交通大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第2期293-296,共4页
采用分子自组装技术在羟基化的玻璃基片表面制备了3-巯丙基三甲氧基硅烷单层膜(MPTS-SAM),运用原子力显微镜(AFM)观察了薄膜的表面形貌,使用X射线光电子能谱仪(XPS)分析了薄膜表面典型元素的化学状态,并运用静-动摩擦系数测定仪评价了... 采用分子自组装技术在羟基化的玻璃基片表面制备了3-巯丙基三甲氧基硅烷单层膜(MPTS-SAM),运用原子力显微镜(AFM)观察了薄膜的表面形貌,使用X射线光电子能谱仪(XPS)分析了薄膜表面典型元素的化学状态,并运用静-动摩擦系数测定仪评价了薄膜的摩擦磨损性能.研究结果表明:在组装初期,硅烷水解产物主要是与基体表面的羟基发生聚合反应,表面出现岛状物;随着组装时间的增加,基体表面的有机硅烷分子之间发生聚合反应,当组装90min后,可以在基体表面形成完整的自组装薄膜.当组装MPTE-SAM后,基片表面的摩擦系数由无膜时的0.85降到了0.19,说明MPTE-SAM可以降低基片的摩擦系数,并且在较低载荷下具有较好的耐磨性能. 展开更多
关键词 3-巯丙基三甲氧基硅烷 自组装 纳米膜 摩擦磨损性能
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巯基功能化活性炭对汞离子的吸附性能研究及机理初探 被引量:2
3
作者 肖玲玲 王娜 那平 《现代化工》 CAS CSCD 北大核心 2013年第10期70-75,共6页
以活性炭为基体,利用γ-巯丙基三甲氧基硅烷(TMMPS)为改性剂对其进行巯基改性,获得了新型除汞材料巯基功能化活性炭(SFAC)。采用SEM-EDS、FT-IR对材料进行表征,结果表明—SH成功被引入到活性炭表面。吸附等温线研究表明改性后活性炭(SF... 以活性炭为基体,利用γ-巯丙基三甲氧基硅烷(TMMPS)为改性剂对其进行巯基改性,获得了新型除汞材料巯基功能化活性炭(SFAC)。采用SEM-EDS、FT-IR对材料进行表征,结果表明—SH成功被引入到活性炭表面。吸附等温线研究表明改性后活性炭(SFAC)的吸附容量高达472 mg/g,较原活性炭(AC)提高了近1倍。针对高酸性的PVC含汞废水环境,模拟考察了溶液酸度对材料吸附性能的影响,结果表明SFAC在高酸[w(HCl)=31%]下,材料仍能稳定存在,并保持一定的吸附能力,表明材料有很强的耐酸性。同时开展材料对汞离子的吸附动力学研究,初步探讨Hg2+在SFAC上的吸附机理。 展开更多
关键词 活性炭 γ-巯丙基三甲氧基硅烷 PVC废酸
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Self-Assembled Monolayer of Mixed Gold and Nickel Nanoparticles
4
作者 Yanni Jie Huiqing Fan Wei You 《Nano-Micro Letters》 SCIE EI CAS 2012年第3期166-171,共6页
Forming a monolayer of mixed nickel and gold nanoparticles through self-assembly via simple solution processing constitutes an important step toward inexpensive nanoparticle-based carbon nanofiber growth.In this work,... Forming a monolayer of mixed nickel and gold nanoparticles through self-assembly via simple solution processing constitutes an important step toward inexpensive nanoparticle-based carbon nanofiber growth.In this work,mixed gold and nickel nanoparticles were anchored on the silicon wafer using self-assembled monolayers(SAMs)as a template.SAMs of 3-mercaptopropyl trimethoxysilane(MPTS-SAMs)were formed on silicon wafer,with the exposed thiol functionality providing ligand exchange sites to form the mixed monolayer of nickel and gold nanoparticles via a two-step sequential soaking approach.The densities of the nickel and gold nanoparticles on the surface can be varied by adjusting the soaking sequence. 展开更多
关键词 NANOPARTICLES Self-assembled monolayer 3-mercaptopropyl trimethoxysilane Solution processing
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单晶硅表面稀土复合纳米膜的制备与摩擦特性 被引量:1
5
作者 周华 亓永 程先华 《摩擦学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第3期210-214,共5页
利用分子自组装技术,在单晶硅表面制备了稀土复合纳米自组装膜.运用原子力显微镜(AFM)观察了薄膜的表面形貌,使用X射线光电子能谱仪(XPS)分析了薄膜表面典型元素的化学状态,并运用静-动摩擦系数测定仪评价了薄膜的摩擦磨损性能.研究结... 利用分子自组装技术,在单晶硅表面制备了稀土复合纳米自组装膜.运用原子力显微镜(AFM)观察了薄膜的表面形貌,使用X射线光电子能谱仪(XPS)分析了薄膜表面典型元素的化学状态,并运用静-动摩擦系数测定仪评价了薄膜的摩擦磨损性能.研究结果表明:通过硅烷偶联剂3-巯丙基三甲氧基硅烷(MPTS)的磺酸基化学吸附功能,稀土元素可以成功组装到氧化后的硅烷化表面.当组装稀土复合膜后,基片表面的摩擦系数由无膜时的0.8降到了0.08,表明复合膜可以降低基片的摩擦系数,并且在较低载荷下具有较好的耐磨性能. 展开更多
关键词 3-巯丙基三甲氧基硅烷 稀土 自组装纳米膜 摩擦磨损性能
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硅烷自组装膜对碳钢表面的改性及缓蚀性能研究 被引量:1
6
作者 邢锦娟 俞卓汗 +2 位作者 张思倩 刘琳 钱建华 《渤海大学学报(自然科学版)》 CAS 2015年第1期58-62,共5页
采用分子自组装技术在碳钢表面制备了3-巯基丙基三甲氧基硅烷自组装膜(MPTS-SAM).通过原子力显微镜(AFM)观察了碳钢表面成膜过程,并对其表面粗糙度进行了分析;利用动电位极化曲线研究了该自组装膜对碳钢的缓蚀性能.结果显示:该自组装膜... 采用分子自组装技术在碳钢表面制备了3-巯基丙基三甲氧基硅烷自组装膜(MPTS-SAM).通过原子力显微镜(AFM)观察了碳钢表面成膜过程,并对其表面粗糙度进行了分析;利用动电位极化曲线研究了该自组装膜对碳钢的缓蚀性能.结果显示:该自组装膜对碳钢具有良好的缓蚀性能,且经MPTS自组装分子膜改性处理的碳钢表面较平滑,粗糙度明显降低;硅烷分子的水解程度对自组装有一定影响,且随着组装时间的延长,自组装膜更完整,对碳钢的缓蚀效率更高. 展开更多
关键词 3-巯基丙基三甲氧基硅烷 自组装膜 碳钢 缓蚀
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共缩聚法制备有序介孔氧化硅纳米螺旋纤维
7
作者 陈曦 蔡强 +3 位作者 孙林豪 史卫林 齐娟娟 王颂 《高等学校化学学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2012年第8期1643-1645,共3页
介孔氧化硅材料具有介观结构有序、孔径分布狭窄且在2~50nm范围内连续可调和比表面积大等特点,因此其合成、孔道修饰、形成机理及应用研究备受关注.近年来,在致力于调节介孔氧化硅内部结构的同时,科学家们也日益关注其外观形貌的... 介孔氧化硅材料具有介观结构有序、孔径分布狭窄且在2~50nm范围内连续可调和比表面积大等特点,因此其合成、孔道修饰、形成机理及应用研究备受关注.近年来,在致力于调节介孔氧化硅内部结构的同时,科学家们也日益关注其外观形貌的有效调控,如球状、核壳状、棒状、 展开更多
关键词 介孔氧化硅 纳米纤维 γ-巯丙基三甲氧基硅烷 共缩聚
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MPTS改性高岭土吸附剂的制备及其吸附性能研究
8
作者 谢雪珍 胡杨玲 +1 位作者 叶有明 曾军 《矿冶工程》 CAS 北大核心 2024年第1期105-110,共6页
为了处理含电镀络合铜废水,以3-巯丙基三甲氧基硅烷(MPTS)为改性剂,对高岭土进行改性,制备了改性高岭土吸附剂,并研究了其对柠檬酸络合铜(E330-Cu)的吸附效果。适宜的高岭土改性条件为:MPTS相对高岭土用量为0.04 mL/g、改性温度50℃、... 为了处理含电镀络合铜废水,以3-巯丙基三甲氧基硅烷(MPTS)为改性剂,对高岭土进行改性,制备了改性高岭土吸附剂,并研究了其对柠檬酸络合铜(E330-Cu)的吸附效果。适宜的高岭土改性条件为:MPTS相对高岭土用量为0.04 mL/g、改性温度50℃、改性时间6 h。改性高岭土吸附剂对E330-Cu适宜的吸附条件为:E330-Cu初始浓度5 mg/L、吸附剂相对用量15 g/L、pH值4.5、吸附时间35 min、吸附温度35℃,此时吸附率达到92.50%。吸附过程满足Langmuir等温吸附模型和准二级动力学模型。吸附剂至少可使用3次,处理后废水可达到国家一级排放标准。研究结果可为含电镀络合铜废水的处理提供有力支撑。 展开更多
关键词 废水处理 吸附剂 3-巯丙基三甲氧基硅烷 改性高岭土 电镀废水 吸附
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自组装单分子膜成膜形貌及其缓蚀性能 被引量:2
9
作者 刘琳 楚茂阳 +1 位作者 邢锦娟 钱建华 《科学技术与工程》 2011年第13期3059-3062,共4页
新工艺方法在玻璃基体表层及银片表面制备出3巯-基丙基三甲氧基硅烷自组装单分子膜(MPS-SAM),并利用扫描电子显微镜(SEM)观察了玻璃基体薄膜形貌,使用自动椭圆偏振测厚仪SGC-2测出其膜厚;运用金相显微镜观测出银片表面形貌变化并结合触... 新工艺方法在玻璃基体表层及银片表面制备出3巯-基丙基三甲氧基硅烷自组装单分子膜(MPS-SAM),并利用扫描电子显微镜(SEM)观察了玻璃基体薄膜形貌,使用自动椭圆偏振测厚仪SGC-2测出其膜厚;运用金相显微镜观测出银片表面形貌变化并结合触针式粗糙度测量仪得出其膜厚范围;同时通过塔菲尔曲线(Tafel)对银片电极的电化学性能进行了对比分析。结果表明:组装溶液的成膜形貌与致密性受组装时间的影响很大且在金属与非金属表面的成膜时间大不相同;银片表面组装膜形貌的变化决定其缓蚀性能、稳定性和致密性等条件。 展开更多
关键词 防护效能 自组装单分子膜 3-巯基丙基三甲氧基硅烷
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铜电极表面硅烷膜的自组装及其性能研究 被引量:8
10
作者 黄令 林克发 +2 位作者 杨防祖 许书楷 周绍民 《电化学》 CAS CSCD 北大核心 2005年第2期188-192,共5页
应用自组装技术在铜电极表面上制备3巯基丙基三甲氧基硅烷自组装膜.红外光谱研究该自组装膜结构,电化学方法考察3-巯基丙基三甲氧基硅烷膜在5%NaCl溶液中对铜电极的缓蚀性能.结果表明,于不同浓度的3-巯基丙基三甲氧基硅烷乙醇溶液中自... 应用自组装技术在铜电极表面上制备3巯基丙基三甲氧基硅烷自组装膜.红外光谱研究该自组装膜结构,电化学方法考察3-巯基丙基三甲氧基硅烷膜在5%NaCl溶液中对铜电极的缓蚀性能.结果表明,于不同浓度的3-巯基丙基三甲氧基硅烷乙醇溶液中自组装的硅烷膜表现出较好的抗腐蚀性. 展开更多
关键词 3-巯基丙基三甲氧基硅烷 自组装 耐蚀性 缓蚀效率
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铜表面修饰硅烷膜在碱性溶液中的耐蚀性能研究 被引量:6
11
作者 黄令 林克发 +2 位作者 杨防祖 许书楷 周绍民 《材料保护》 CAS CSCD 北大核心 2005年第11期10-13,共4页
为了提高铜的耐蚀性,用自组装技术在铜表面上制备了3-巯基丙基三甲氧基硅烷(MPTS)自组装膜。利用红外光谱和扫描电子显微镜研究了该膜的结构,运用极化曲线和交流阻抗图谱等电化学方法考察了MPTS膜在0.5 mol/L NaOH溶液中对铜电极的缓蚀... 为了提高铜的耐蚀性,用自组装技术在铜表面上制备了3-巯基丙基三甲氧基硅烷(MPTS)自组装膜。利用红外光谱和扫描电子显微镜研究了该膜的结构,运用极化曲线和交流阻抗图谱等电化学方法考察了MPTS膜在0.5 mol/L NaOH溶液中对铜电极的缓蚀性能。结果表明,MPTS在铜表面可能以化学吸附方式强烈吸附到铜表面,同时在表面以Si-O-Si键自我交联形成了线性低聚物,MPTS浓度越高,其膜更致密。与裸铜电极相比,经MPTS修饰后的铜的腐蚀电位正移200mV,腐蚀电流降低一个数量级,其缓蚀效率为86.5%。 展开更多
关键词 耐蚀性 缓蚀效率 3-巯基丙基三甲氧基硅烷 自组装膜
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水热辅助表面接枝印迹法制备Cd(Ⅱ)离子印迹硅胶及其性能研究 被引量:4
12
作者 范洪涛 李晶 +2 位作者 李展超 阎峰 孙挺 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第15期2060-2064,共5页
采用水热辅助表面接枝印迹技术,以Cd(Ⅱ)离子作为模板,巯基丙基三甲氧基硅烷为功能分子,环氧氯丙烷为交联剂,在硅胶表面制备出高容量的Cd(Ⅱ)离子印迹硅胶材料,利用红外光谱仪、扫描电镜、热重分析仪等进行了表征,采用平衡吸附法研究了... 采用水热辅助表面接枝印迹技术,以Cd(Ⅱ)离子作为模板,巯基丙基三甲氧基硅烷为功能分子,环氧氯丙烷为交联剂,在硅胶表面制备出高容量的Cd(Ⅱ)离子印迹硅胶材料,利用红外光谱仪、扫描电镜、热重分析仪等进行了表征,采用平衡吸附法研究了印迹硅胶材料的吸附性能和选择识别能力。结果表明,印迹硅胶材料和非印迹硅胶材料的最大吸附量分别为42.5和22.1mg/g;印迹硅胶材料对Cd(Ⅱ)离子具有较强的选择识别能力,对Cd(Ⅱ)离子的吸附行为更符合Langmuir模型,20min即可达到吸附平衡,符合准二级动力学方程,pH值在4~8范围内,保持了较好的吸附容量;重复使用时性能较好。 展开更多
关键词 水热辅助 离子印迹 CD 巯基丙基三甲氧基硅烷 吸附
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基于溶胶-凝胶化的普鲁士蓝/纳米金修饰铂电极的辣根过氧化物酶传感器(英文) 被引量:2
13
作者 黎雪莲 袁若 +2 位作者 柴雅琴 王娜 朱强 《西南师范大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 2005年第5期862-867,共6页
采用一种新颖的方法制备了过氧化物酶生物传感器.以铂盘电极为基底,电聚合普鲁士蓝(PB)电子媒介体,并在其表面覆盖一层三维溶胶凝胶膜,以防PB渗漏及利用其网状结构中的大量巯基吸附纳米金,最后利用纳米金静电吸附固定辣根过氧物酶制备... 采用一种新颖的方法制备了过氧化物酶生物传感器.以铂盘电极为基底,电聚合普鲁士蓝(PB)电子媒介体,并在其表面覆盖一层三维溶胶凝胶膜,以防PB渗漏及利用其网状结构中的大量巯基吸附纳米金,最后利用纳米金静电吸附固定辣根过氧物酶制备过氧化氢传感器.通过循环伏安法对电极的修饰过程进行了表征,探讨了pH、温度对电极响应的影响.在优化的工作条件下,该传感器与H2O2浓度在7.0×10-6~6.6×10-3mol/L范围内呈线性关系,检出限为3.0×10-6mol/L.此外,该传感器具有较高的灵敏度,且能有效地消除抗坏血酸等的干扰. 展开更多
关键词 生物传感器 (3-巯基丙基)-三甲氧基硅烷 普鲁士蓝 纳米金 过氧化物酶
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巯基硅烷纳米薄膜修饰金电极测定痕量汞(Ⅱ) 被引量:3
14
作者 肖健林 刘建允 +1 位作者 张鑫 廖金金 《分析科学学报》 CAS CSCD 北大核心 2014年第1期35-38,共4页
采用3-巯丙基三甲氧基硅烷(MPTS)为单一硅源合成有机硅纳米材料,将其组装到金电极表面,制备MPTS薄膜修饰电极。采用原子力显微镜和透射电镜表征有机硅纳米,粒径为3.3~5.7nm;采用方波溶出伏安法测定该修饰电极对汞的响应信号。... 采用3-巯丙基三甲氧基硅烷(MPTS)为单一硅源合成有机硅纳米材料,将其组装到金电极表面,制备MPTS薄膜修饰电极。采用原子力显微镜和透射电镜表征有机硅纳米,粒径为3.3~5.7nm;采用方波溶出伏安法测定该修饰电极对汞的响应信号。结果表明,该修饰电极对痕量汞有高灵敏响应。在0.1mol/LHCl中,于-0.4V电位下富集10min,溶出峰电流与其浓度在1.5×10-12~75.0×10-12mol/L范围内呈线性关系,相关系数为0.9980,检出限为5.0×10-13mol/L。该方法用于实际水样中汞的测定,与原子荧光光谱法进行比较,结果基本一致。 展开更多
关键词 3-巯丙基三甲氧基硅烷 方波溶出伏安法
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超灵敏葡萄糖生物传感基于自组装纳米金和(3-巯基丙基)-三甲氧基硅烷凝胶溶胶(英文) 被引量:1
15
作者 钟霞 袁若 +4 位作者 柴雅琴 赵勤 刘颜 唐点平 戴建远 《西南师范大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 2004年第6期976-980,共5页
采用一种新颖的方法将(3 巯基丙基) 三甲氧基硅烷凝胶溶胶、纳米金和葡萄糖氧化酶自组装于金电极表面,制得了 高灵敏度的葡萄糖生物传感器.实验表明固定在三维网状的凝胶溶胶中的葡萄糖氧化酶和纳米金颗粒具有很强的稳定性并 且能够保... 采用一种新颖的方法将(3 巯基丙基) 三甲氧基硅烷凝胶溶胶、纳米金和葡萄糖氧化酶自组装于金电极表面,制得了 高灵敏度的葡萄糖生物传感器.实验表明固定在三维网状的凝胶溶胶中的葡萄糖氧化酶和纳米金颗粒具有很强的稳定性并 且能够保持自身的活性.本实验采用Co(bpy)3+3作为电子媒介体,峰电流值与葡萄糖浓度在8.0×10-10~4.2×10-8mol/L 成线形关系,检测下线为3.0×10-10mol/L(S/N=3). 展开更多
关键词 自组装 胶溶 三甲氧基硅烷 溶胶 纳米金 网状 金电极 巯基 凝胶 灵敏
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巯基功能化有机硅纳米颗粒修饰金电极的制备及对痕量铅的测定 被引量:1
16
作者 肖健林 沈学静 +3 位作者 刘建允 林海莲 张鑫 廖金金 《分析试验室》 CAS CSCD 北大核心 2013年第5期29-33,共5页
以3-巯丙基三甲氧基硅烷(MPTS)为单一硅源,十六烷基三甲基溴化铵(CTMAB)存在下,采用一步简单混合,较方便地制得均匀、小粒径的有机硅纳米颗粒。采用原子力显微镜(AFM)、透射电子显微镜(TEM)对有机硅纳米进行表征,测得粒径约为2.5 nm。... 以3-巯丙基三甲氧基硅烷(MPTS)为单一硅源,十六烷基三甲基溴化铵(CTMAB)存在下,采用一步简单混合,较方便地制得均匀、小粒径的有机硅纳米颗粒。采用原子力显微镜(AFM)、透射电子显微镜(TEM)对有机硅纳米进行表征,测得粒径约为2.5 nm。通过自组装法将其固定在金电极表面,得到均匀、高巯基含量的有机硅纳米修饰电极。采用方波溶出伏安法(SWV),考察了CTMAB浓度、Bi3+浓度、支持电解质、pH值富集电位及富集时间等参数对铅溶出信号的影响。结果表明:在0.2 mol/L HAc-NaAc(pH 5.0)缓冲溶液中,-1.0V电位下富集10 min,Pb2+溶出峰电流与浓度分别在5.0~500×10-12mol/L;2.5~250×10-9 mol/L和250~1250×10-9 mol/L范围内呈线性关系,最低检出浓度为5.0×10-12mol/L。利用本方法测定了实际水样中铅的含量,并与原子荧光光谱法进行对比,结果一致。 展开更多
关键词 3-巯丙基三甲氧基硅烷 有机硅纳米颗粒 化学修饰金电极 方波溶出伏安法
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