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化学气相沉积钽限制性环节初探
1
作者
赵树壮
宋立贤
+1 位作者
庞安才
杨现林
《河北师范大学学报(自然科学版)》
CAS
1997年第1期62-64,70,共4页
本实验用氯气将钽块氯化,然后用氢还原,在镍基合金上沉积出致密的钽涂层。根据反应速度和温度的关系,求出反应的活化能。
关键词
化学气相沉积
镍基合金
钽涂层
活化能
下载PDF
职称材料
题名
化学气相沉积钽限制性环节初探
1
作者
赵树壮
宋立贤
庞安才
杨现林
机构
河北师范大学科技开发总公司
出处
《河北师范大学学报(自然科学版)》
CAS
1997年第1期62-64,70,共4页
文摘
本实验用氯气将钽块氯化,然后用氢还原,在镍基合金上沉积出致密的钽涂层。根据反应速度和温度的关系,求出反应的活化能。
关键词
化学气相沉积
镍基合金
钽涂层
活化能
Keywords
chemical
vapor
deposition
(CVD)
nickel
group
alloy
tantalum
coating
activation
energy
分类号
TG174.44 [金属学及工艺—金属表面处理]
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题名
作者
出处
发文年
被引量
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1
化学气相沉积钽限制性环节初探
赵树壮
宋立贤
庞安才
杨现林
《河北师范大学学报(自然科学版)》
CAS
1997
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